CN210837662U - 载物台测定夹具及涂敷装置 - Google Patents

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Abstract

本实用新型提供一种载物台测定夹具及涂敷装置。浮起载物台(3)对由搬运往复装置(5)沿规定的搬运方向(D1)搬运的基板(W)施加浮起力。浮起载物台(3)的各上表面(31S～33S)形成有喷出空气的多个孔。载物台测定夹具(8)具有：五个载物台测定器(81)，在搬运宽度方向D2上配置；架桥结构(83)，作为使各载物台测定器(81)与搬运往复装置(5)连接的连接部。各载物台测定器(81)测定浮起载物台(3)的上表面(31S～33S)的铅垂位置。搬运往复装置(5)与架桥结构(83)一起使各载物台测定器(81)沿搬运方向(D1)移动。

Description

载物台测定夹具及涂敷装置
技术领域
本实用新型涉及载物台测定夹具以及涂敷装置。作为涂敷装置的处理对象的基板，例如包括半导体基板、液晶显示装置及有机EL(Electroluminescence：电致发光)显示装置等的FPD(Flat Panel Display：平板显示器)用基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板、光掩模用基板、陶瓷基板、太阳能电池用基板及印刷基板等。
背景技术
在半导体装置、液晶显示装置等电子部件等的制造工序中，使用向基板的表面涂敷涂敷液的涂敷装置。作为这样的涂敷装置，已知具有如下装置：一边在向基板的背面吹送空气而使基板浮起的状态下搬运该基板，一边从沿基板的宽度方向延伸的喷嘴向该基板的表面(相当于基板的主面)喷出涂敷液，来对基板涂敷涂敷液(例如，专利文献1)。
在专利文献1所记载的基板处理装置中，一边在浮起载物台上使基板以水平姿势浮起，一边保持基板的周缘部来使基板沿水平方向行进，由此搬运该基板，从配置于基板搬运路径的上方的狭缝喷嘴喷出涂敷液。
然而，为了在浮起载物台上精密地搬运基板，要求浮起载物台的上表面是水平的。为了使浮起载物台的上表面水平，以往，使用千分表和激光水准仪等进行调平。具体而言，在浮起载物台中，通过在搬运方向上不同的地点测定铅垂位置，测定浮起载物台的倾斜。
专利文献1：日本特开2012-142583号公报
然而，以往的调平的操作需要擦作者使用千分表测定各地点的铅垂位置的操作，因此，操作内容变得繁杂。另外，在为了使浮起载物台的倾斜适当化而调整了一部分的铅垂位置的情况下，其周边部分的铅垂位置被变更。因此，存在每当调整一部分时，就再次测定周边的铅垂位置的情况，从而存在操作工时增大的问题。因此，需要一种高效地测定浮起载物台的倾斜的技术。
实用新型内容
因此，本实用新型的目的在于，提供一种高效地测定浮起载物台的倾斜的技术。
为了解决上述问题，第一方式的载物台测定夹具，测定形成有喷出空气的多个孔的铅垂方向向上的上表面的铅垂位置，该上表面是对由搬运往复装置沿规定的搬运方向搬运的基板施加浮起力的浮起载物台所具有的平面，其中，所述载物台测定夹具具有：至少一个载物台测定器，测定所述浮起载物台的所述上表面的铅垂位置；以及连接部，与所述搬运往复装置连接，以能够使所述载物台测定器在所述搬运方向上移动。
第二方式的载物台测定夹具，在第一方式的载物台测定夹具中，所述连接部具有：梁部，在与所述搬运方向正交的搬运宽度方向上延伸，并在所述上表面的上方支撑所述载物台测定器；以及连结件，使所述梁部以能够拆卸的方式与所述搬运往复装置连结。
第三方式的载物台测定夹具，在第一方式或第二方式的载物台测定夹具中，作为所述上表面的一部分的对象部分的铅垂位置能够通过设置于浮起载物台的调整机构进行调整，所述载物台测定器设置于能够测定所述对象部分的铅垂位置的位置。
第四方式的载物台测定夹具，在第一方式或第二方式的载物台测定夹具中，在与所述搬运方向正交的搬运宽度方向上隔开间隔地设置有多个所述载物台测定器。
第五方式的涂敷装置，向基板涂敷处理液，其中，所述涂敷装置具有：搬运往复装置，将基板沿规定的方向搬运；浮起载物台，通过从设置于铅垂向上的上表面的多个孔喷出空气，对所述搬运往复装置沿搬运方向搬运的基板施加浮起力；空气供给部，供给所述空气；至少一个载物台测定器，测定所述上表面的铅垂位置；连接部，与所述搬运往复装置连接，以能够使所述载物台测定器在所述搬运方向上移动；调整件，对作为所述上表面的一部分的对象部分的铅垂位置进行调整；以及喷嘴，向由所述搬运往复装置沿所述搬运方向搬运的基板喷出处理液。
第六方式的载物台测定夹具，测定形成有喷出空气的多个孔的铅垂方向向上的上表面的铅垂位置，该上表面是对沿规定的搬运方向搬运的基板施加浮起力的浮起载物台所具有的平面，其中，所述载物台测定夹具具有：至少一个载物台测定器，测定所述浮起载物台的所述上表面的铅垂位置；以及移动部，使所述载物台测定器在所述搬运方向上移动。
根据第一方式的载物台测定夹具，通过使载物台测定器沿搬运方向移动，能够高效地测定搬运方向上的铅垂位置的分布。因此，能够高效地测定浮起载物台的上表面的倾斜。
根据第二方式的载物台测定夹具，能够根据需要将梁部从搬运往复装置卸下。由此，能够抑制梁部与其他构件发生干扰。
根据第三方式的载物台测定夹具，能够利用载物台测定器测定能够由调整机构调整铅垂位置的对象部分的铅垂位置。另外，根据测定结果来调整对象部分的铅垂位置，由此，能够高精度地调整浮起载物台的上表面的倾斜。
根据第四方式的载物台测定夹具，通过使多个载物台测定器沿搬运方向移动，能够一次测定在搬运宽度方向上不同的各位置的铅垂位置的分布。因此，能够高效地测定浮起载物台的上表面的倾斜。
根据第五方式的涂敷装置，通过利用搬运往复装置使载物台测定器沿搬运方向移动，能够高效地测定铅垂位置的分布。根据该测定结果，利用调整件调整上表面的对象部分的铅垂位置，由此，能够高效地修正浮起载物台的上表面的倾斜。
根据第六方式的载物台测定夹具，通过使载物台测定器沿搬运方向移动，能够高效地测定搬运方向上的铅垂位置的分布。因此，能够高效地测定浮起载物台的上表面的倾斜。
附图说明
图1是示意性地表示作为实施方式的基板处理装置的一例的涂敷装置1的整体结构的侧视图。
图2是从铅垂方向上侧观察实施方式的涂敷装置1的概略俯视图。
图3是表示除去了实施方式的涂敷机构6的涂敷装置1的概略俯视图。
图4是沿着图2所示的A-A线的位置的涂敷装置1的概略剖视图。
图5是表示实施方式的浮起载物台3的一部分的概略俯视图。
图6是表示实施方式的载物台测定夹具8的概略俯视图。
图7是表示实施方式的载物台测定夹具8的概略主视图。
图8是表示实施方式的载物台测定夹具8的概略俯视图。
图9是表示实施方式的控制单元9的概略框图。
图10是表示测定及调整浮起载物台3的各上表面31S～33S的铅垂位置的处理流程的图。
附图标记的说明：
1 涂敷装置
13 调整机构
131 调平螺栓
133 支撑板
3 浮起载物台
31 入口浮起载物台
32 涂敷载物台
321h 喷出口
322h 吸引口
33 出口浮起载物台
31S、32S、33S 上表面
31h、33h 喷出口
35 浮起控制机构
5 搬运往复装置
6 涂敷机构
8 载物台测定夹具
81 载物台测定器
83 架桥结构
831 梁部
831S 侧面
832、833 支柱部
841、843 连结件
D1 搬运方向
D2 搬运宽度方向
W 基板
具体实施方式
以下，参照附图对本实用新型的实施方式进行说明。此外，该实施方式所记载的结构构件只不过是例示，并不是将本实用新型的范围仅限定于这些结构构件的意思。在附图中，为了便于理解，有时根据需要夸张或简化各部的尺寸、数量来进行图示。
只要没有特别说明，表示相对或绝对的位置关系的表述(例如“平行”、“正交”、“中心”、“同心”、“同轴”等)不仅表示严格地表示其位置关系，还表示在公差或可获得同等程度的功能的范围内角度或距离相对地位移的状态。表示相等的状态的表述(例如“相同”、“相等”、“均质”、“一致”等)只要没有特别说明，则不仅表示定量上严格地相等的状态，还表示存在公差或可获得同等程度的功能的差的状态。表示形状的表述(例如，“四边形状”或“圆筒形状”等)只要没有特别说明，则不仅表示几何学上严格地表示其形状，还表示在能够获得相同程度的效果的范围内具有例如凹凸、倒角等的形状。“～上”只要没有特别说明，除了两个构件相接的情况以外，还包括两个构件分离的情况。
<1.第一实施方式>
图1是示意性地表示作为实施方式的基板处理装置的一例的涂敷装置1的整体结构的侧视图。图2是从铅垂方向上侧观察实施方式的涂敷装置1的概略俯视图。图3是表示除去了实施方式的涂敷机构6的涂敷装置1的概略俯视图。图4是沿着图2所示的A-A线的位置的涂敷装置1的概略剖视图。图5是表示实施方式的浮起载物台3的一部分的概略俯视图。
涂敷装置1是将四边形状的基板W以水平姿势(基板W的上表面Wf(第一主面)以及下表面(第二主面)相对于水平面(XY平面)平行的姿势搬运，并且向该基板W的上表面Wf涂敷处理液(涂敷液)的狭缝涂敷机。在各图中，为了明确涂敷装置1的各部的位置关系，将与搬运基板W的搬运方向D1平行的方向设为“X方向”，将从输入传送机100朝向输出传送机110的方向设为“+X方向”，将其反方向设为“-X方向”。将与X方向正交的水平方向设为“Y方向”，将朝向图1的近前的方向设为“-Y方向”，将其反方向设为“+Y方向”。将与X方向以及Y方向正交的铅垂方向设为Z方向，将从浮起载物台3观察朝向涂敷机构6侧的向上方向设为“+Z方向”，将其反方向设为“-Z方向”。
涂敷装置1的基本结构和动作原理与日本特开2010-227850号公报、日本特开2010-240550公报中记载的装置部分地共通或类似。因此，在本说明书中，有时适当省略涂敷装置1的各结构中的与这些公知文献所记载的结构相同或基于技术常识等能够容易地类推的结构。
涂敷装置1沿着搬运基板W的搬运方向D1(+X方向)依次具有输入传送机100、输入移载部2、浮起载物台3、输出移载部4、输出传送机110。它们以相互接近的方式配置，由此，形成基板W的搬运路径。此外，在以下的说明中，在与基板W的搬运方向即搬运方向D1相关联地表示位置关系时，有时将“第一方向的上游侧”简称为“上游侧”，将“搬运方向D1的下游侧”简称为“下游侧”。在本例中，从某基准位置观察，-X侧为“上游侧”，+X侧为“下游侧”。
输入传送机100具有辊式传送机101和旋转驱动辊式传送机101的旋转驱动机构102。通过辊式传送机101的旋转，基板W以水平姿势向下游侧(+X侧)被搬运。
输入移载部2具有辊式传送机21和使辊式传送机21旋转的旋转驱动机构22。通过辊式传送机21进行旋转，使基板W向+X方向搬运。另外，通过使辊式传送机21升降，来变更基板W的铅垂位置。通过输入移载部2的动作，使基板W从输入传送机100移载至浮起载物台3。
浮起载物台3沿着搬运方向D1包括三个平板状的载物台。具体而言，浮起载物台3沿着搬运方向D1依次具有入口浮起载物台31、涂敷载物台32、出口浮起载物台33。这些各载物台的上表面处于同一平面上。
入口浮起载物台31和出口浮起载物台33分别具有铅垂向上的平面(即，法线方向为铅垂方向的平面)即上表面31S、33S。在各上表面31S、33S呈矩阵状地设置有多个喷出口31h、33h，所述多个喷出口31h、33h喷出从浮起控制机构35供给的空气(压缩空气)。通过从各喷出口31h、33h喷出的压缩空气，对基板W施加上浮力，基板W的下表面(第二主面)与各载物台31、33的上表面31S、33S分离，在此状态下，基板W被支撑为水平姿。基板W的下表面与载物台31、33的上表面31S、33S之间的距离例如可以为10～500μm(微米)。
涂敷载物台32具有作为铅垂向上的平面的上表面32S。在上表面32S设置有喷出空气(压缩空气)的多个喷出口321h和吸引涂敷载物台32的上方的空气的多个吸引口322h。在涂敷载物台32的上表面32S，喷出口321h和吸引口322h沿着X方向以及Y方向交替地设置。通过从各喷出口321h喷出的压缩空气，对基板W施加浮起力，基板W的下表面与涂敷载物台32的上表面32S分离，在此状态下，基板W被支撑为水平姿势。
浮起控制机构35以使来自各喷出口321h的压缩空气的喷出量与来自各吸引口322h的空气的吸引量平衡的方式进行控制。由此，精密地控制基板W的下表面与涂敷载物台32的上表面32S之间的距离。因此，将通过涂敷载物台32的上方的基板W的上表面Wf的铅垂位置控制在规定的范围内。作为浮起载物台3，也可以采用日本特开2010-227850号公报所记载的浮起载物台的结构。
经由输入移载部2搬入浮起载物台3的基板W通过辊式传送机21的旋转，得到向+X方向的推进力，并被搬运到入口浮起载物台31上。浮起载物台3中的基板W的搬运通过搬运往复装置5来进行。
搬运往复装置5具有卡盘51和吸附及行进控制机构52。卡盘51通过与基板W的下表面周缘部部分地抵接而从下方支撑基板W。吸附及行进控制机构52具有对设置于卡盘51上端的支撑部位的吸附垫施加负压而使卡盘51吸附保持基板W的功能。另外，吸附及行进控制机构52具有使卡盘51沿着X方向直线状地往复行进的功能。
在卡盘51保持基板W的状态下，基板W的下表面相比浮起载物台3的各载物台31、32、33的上表面更靠+Z侧。基板W通过卡盘51吸附保持周缘部，利用由浮起载物台3施加的浮起力而整体维持水平姿势。
卡盘51保持从输入移载部2搬入浮起载物台3的基板W，在该状态下，卡盘51向+X方向移动，由此，使基板W从入口浮起载物台31的上方经由涂敷载物台32的上方而向出口浮起载物台33的上方搬运。基板W被交接到配置于出口浮起载物台33的+X侧的输出移载部4。
输出移载部4具有辊式传送机41和使该辊式传送机41旋转驱动的旋转驱动机构42。通过辊式传送机41进行旋转，对基板W施加朝向+X方向的推进力，使基板W向搬运方向D1搬运。通过输出移载部4的动作，使基板W从出口浮起载物台33的上方移载至输出传送机110。
输出传送机110具有使辊式传送机111旋转的旋转驱动机构112。通过辊式传送机111的旋转，使基板W向+X方向搬运并向涂敷装置1的外部送出。输入传送机100和输出传送机110也可以作为涂敷装置1的一部分而设置，但也可以与涂敷装置1分体设置。例如，输入传送机100也可以是设置于涂敷装置1的上游侧的其他单元的基板送出机构。另外，输出传送机110也可以是设置于涂敷装置1的下游侧的其他单元的基板接收机构。
在基板W的搬运路径上，设置有向基板W的上表面Wf涂敷处理液的涂敷机构6。涂敷机构6具有包括喷出处理液的喷嘴61的喷嘴单元60、将喷嘴61定位于涂敷位置L11、预喷出位置L13、清洗位置L14的各位置的移动机构63、维护喷嘴61的维护单元65。在图1中，位于预喷出位置L13的喷嘴61用实线表示，位于涂敷位置L11和清洗位置L14的喷嘴61用虚线表示。
喷嘴61是在与搬运方向D1正交的搬运宽度方向D2(Y方向)上延伸的构件。喷嘴61的下端部具有沿搬运宽度方向延伸并向下开口的喷出口611。从喷出口611喷出处理液。
移动机构63使喷嘴61沿X方向和Z方向移动。移动机构63将喷嘴61定位在涂敷载物台32的上方的涂敷位置L11。定位在涂敷位置L11的喷嘴61向基板W的上表面Wf喷出处理液，由此，向基板W涂敷处理液。涂敷位置L11是执行涂敷时的喷嘴61的位置。
维护单元65具有：底盘651、预喷出辊652、喷嘴清洁器653及维护控制机构654。底盘651贮存喷嘴61的清洗所使用的清洗液。维护控制机构654控制预喷出辊652和喷嘴清洁器653。作为维护单元65的结构，例如也可以采用与日本特开2010-240550号公报所记载的喷嘴清洗待机单元相同的结构。
移动机构63将喷嘴61定位在喷出口611在预喷出辊652的上方与其表面相对的预喷出位置L13。喷嘴61在预喷出位置L13从喷出口611向预喷出辊652的表面喷出处理液(预喷出处理)。喷嘴61在被定位在上述的涂敷位置L11之前被定位在预喷出位置L13，执行预喷出处理。由此，从初始阶段稳定向基板W喷出处理液。当维护控制机构654使预喷出辊652旋转时，从喷嘴61喷出的处理液与贮存于底盘651的清洗液混合而被回收。
移动机构63将喷嘴61定位在其顶端部(包括喷出口611及其附近的区域)与喷嘴清洁器653的上方相对的清洗位置L14。在喷嘴61位于清洗位置L14的状态下，喷嘴清洁器653一边喷出清洗液一边在喷嘴61的宽度方向(Y方向)上移动，由此，冲洗附着于喷嘴61的顶端部的处理液等。
本实施方式的涂敷机构6仅具有一个喷嘴61，但也可以具有多个喷嘴61。在该情况下，各喷嘴61也可以沿着搬运方向D1隔开间隔地设置。另外，也可以通过对各喷嘴61供给不同的处理液，将不同的处理液涂敷于基板W。而且，也可以分别设置与各喷嘴61对应的移动机构63及维护单元65。另外，各喷嘴61也可以共用一个维护单元65。
如图4所示，喷嘴单元60具有架桥结构，该架桥结构包括在浮起载物台3的上方沿Y方向延伸的梁构件631和支撑该梁构件631的两侧端部的两个柱构件632、633。柱构件632、633从基台10向上方竖立设置。在柱构件632上安装有升降机构634，在柱构件633上安装有升降机构635。升降机构634、635例如包括滚珠丝杠机构。升降机构634、635支撑梁构件631。在升降机构634上安装有梁构件631的+Y侧端部，在升降机构635上安装有梁构件631的-Y侧端部。升降机构634、635根据来自控制单元9的控制指令而连动，梁构件631在水平姿势的状态下沿铅垂方向(Z方向)移动。
在梁构件631的中央下部安装有使喷出口611朝下的姿势的喷嘴61。通过升降机构634、635进行动作，实现喷嘴61在铅垂方向(Z方向)上的移动。
柱构件632、633构成为能够在基台10上移动。沿X方向延伸的两个行进导轨81L、81R设置于基台10的上表面的+Y侧端部和-Y侧端部。柱构件632经由安装于其下部的滑块636与+Y侧的行进导轨81L卡合，柱构件633经由安装于其下部的滑块637而与-Y侧的行进导轨81R卡合。滑块636、637能够沿着行进导轨81L、81R在X方向上自由移动。
柱构件632、633通过线性马达82L、82R的动作而在X方向上移动。线性马达82L、82R具有作为定子的磁铁模块和作为动子的线圈模块。磁铁模块设置于基台10，并沿X方向延伸。线圈模块安装于柱构件632、633的各自的下部。线性马达82L、82R的动子根据来自控制单元9的控制指令而进行动作，由此，喷嘴单元60整体沿X方向移动。由此，实现喷嘴61向X方向(搬运方向D1)的移动。柱构件632、633的X方向位置由设置在滑块636、637附近的线性标尺83L、83R检测。
这样，喷嘴61通过升降机构634、635的动作而在Z方向上移动，通过线性马达82L、82R的动作而在X方向上移动。即，通过控制单元9控制升降机构634、635以及线性马达82L、82R，实现喷嘴61向各停止位置L11～L14的定位。因此，升降机构634、635和线性马达82L、82R作为移动机构63(参照图1)发挥功能。
底盘651由沿Y方向延伸的梁构件661支撑。梁构件661的两端部中的一端部由柱构件662支撑，另一端部由柱构件663支撑。柱构件662、663分别安装在沿Y方向延伸的板664的Y方向两端部。
在板664的两端部的下方分别设有沿X方向延伸的两个行进导轨84L、84R。两个行进导轨84L、84R设置于基台10的上表面。在板664的下表面的Y方向两端部中的+Y侧端部设置有滑块666，在-Y侧端部设置有滑块667。滑块666、667与行进导轨84L、84R卡合，能够在X方向上自由移动。
在板664的下方设置有线性马达85。线性马达85具有作为定子的磁铁模块以及作为动子的线圈模块。磁铁模块设置于基台10，并沿X方向延伸。线圈模块设置于维护单元65(在此为板664)的下部。
通过线性马达85根据来自控制单元9的控制指令进行动作，维护单元65整体沿X方向移动。维护单元65的X方向位置由设置于滑块666、667的附近的线性标尺86检测。
如图4所示，卡盘51具有两个卡盘构件51L、51R。卡盘构件51L、51R具有相对于XZ平面相互对称的形状，并且在Y方向上分离地配置。
配置于+Y侧的卡盘构件51L被设置于基台10并沿X方向延伸的行进导轨87L支撑。卡盘构件51L具有基座部512，该基座部512包括使位置在X方向上不同而设置的两个水平的板部和连接这些板部的连接部(参照图2)。在基座部512的两个板部的下部各设置有一个滑块511。滑块511与行进导轨87L卡合，由此，卡盘构件51L能够沿着行进导轨87L在X方向上行进。
在基座部512的两个板部的上部分别各设置有一个支撑部513。支撑部513向上方延伸，在其上端部具有吸盘(未图示)。当基座部512沿着行进导轨87L在X方向上移动时，两个支撑部513与其一体地在X方向上移动。此外，基座部512的两个板部位相互分离，这些板部位一边在X方向上保持恒定的距离一边移动，从而在外观上也可以作为一体的基座部发挥功能的结构。如果根据基板的长度来设定该距离，则能够应对各种长度的基板。
卡盘构件51L通过线性马达88L在X方向上移动。线性马达88具有作为定子的磁铁模块以及作为动子的线圈模块。磁铁模块设置于基台10，并沿X方向延伸。线圈模块设置在卡盘构件51L的下部。线性马达88L根据来自控制单元9的控制指令进行动作，由此，卡盘构件51L沿着X方向移动。卡盘构件51L的X方向位置由设置于行进导轨87L附近的线性标尺89L检测。
设置于-Y侧的卡盘构件51R与卡盘构件51L相同，具有基座部512和两个支撑部513、513。此外，卡盘构件51R的形状相对于XZ平面与卡盘构件51L对称。在卡盘构件51R的基座部512的两个板部的下部各设置有一个滑块511。滑块511与行进导轨87R卡合，由此，卡盘构件51R能够沿着行进导轨87R在X方向上行进。
卡盘构件51R能够通过线性马达88R在X方向上移动。线性马达88R包括沿X方向延伸并且设置于基台10的作为定子的磁铁模块和设置于卡盘构件51R的下部的作为动子的线圈模块。线性马达88R根据来自控制单元9的控制指令进行动作，由此，卡盘构件51R沿X方向移动。卡盘构件51R的X方向位置由设置于行进导轨87R附近的线性标尺89R检测。
控制单元9以卡盘构件51L和51R在X方向上始终处于同一位置的方式进行这些位置控制。由此，一对卡盘构件51L、51R作为外观上一体的卡盘51而移动。与机械地结合卡盘构件51L、51R的情况相比，能够容易地避免卡盘51与浮起载物台3的干扰。
如图3所示，四个支撑部513分别与所保持的基板W的四角对应地配置。即，卡盘构件51L的两个支撑部513分别保持基板W的+Y侧周缘部即搬运方向D1上的上游侧端部和下游侧端部。卡盘构件51R的两个支撑部513、513分别保持基板W的-Y侧周缘部且搬运方向D1上的上游侧端部和下游侧端部。根据需要向各支撑部513的吸附垫供给负压，由此，基板W的四角被卡盘51从下方吸附保持。
卡盘51一边保持基板W一边在X方向上移动，由此搬运基板W。这样，用于向线性马达88L、88R的各支撑部513供给负压的机构(未图示)作为图1所示的吸附及行进控制机构52发挥功能。
如图1和图4所示，卡盘51与入口浮起载物台31、涂敷载物台32以及出口浮起载物台33的上表面相比更向上方远离地保持基板W。卡盘51保持基板W的下表面来搬运基板W。卡盘51仅保持基板W中的相比与各载物台31、32、33相对的中央部分更靠Y方向外侧的周缘部的一部分。因此，基板W的中央部相对于周缘部向下方挠曲。浮起载物台3通过对该状态的基板W的中央部施加浮起力来控制基板W的铅垂位置，将基板W维持为水平姿势。
涂敷装置1具有多个(在此为两个)基板测定器70。各基板测定器70测定被浮起载物台3施加了浮起力的基板W的上表面Wf的铅垂位置。详细而言，基板测定器70通过测定从规定的铅垂方向的基准位置到上表面Wf的铅垂位置的距离，来测定上表面Wf的铅垂位置。作为各基板测定器70，也可以采用使用光、超声波等非接触地测定上表面Wf的铅垂位置的反射型传感器。
也可以根据由基板测定器70测定的上表面Wf的铅垂位置，根据涂敷载物台32的上表面的高度(铅垂位置)计算上表面Wf的高度。另外，也可以根据该上表面Wf的高度和基板W的厚度，计算基板W的浮起量(从涂敷载物台32的上表面到浮起基板W的下表面的距离)。
各基板测定器70通过连结件72与喷嘴61连结。连结件72的两侧端部中的一端部具有能够安装于喷嘴61的上游侧的侧面的结构，另一端部具有能够安装于基板测定器70的结构。各基板测定器70通过被连结件72支撑，相比喷嘴61更靠上游侧(-X侧)配置。
各基板测定器70通过连结件72与喷嘴61连结，因此，追随喷嘴61而移动。即，当喷嘴61通过移动机构63在水平方向或铅垂方向上移动时，各基板测定器70也随之向相同方向移动。
各基板测定器70通过移动机构63配置在涂敷载物台32的上方的规定的测定位置。在各基板测定器70配置于测定位置的状态下，各基板测定器70测定基板W的上表面Wf的铅垂位置。
如图4所示，两个基板测定器70在搬运宽度方向D2上隔开比基板W的宽度(宽度方向的长度)短的间隔而设置。通过具有这两个基板测定器70，能够测定基板W的宽度方向上不同的两个部位的铅垂位置。此外，基板测定器70并不限定于2个，也可以设置1个或3个以上。
<载物台测定夹具8>
图6是表示实施方式的载物台测定夹具8的概略俯视图。图7是表示实施方式的载物台测定夹具8的概略主视图。图8是表示实施方式的载物台测定夹具8的概略俯视图。载物台测定夹具8是测定浮起载物台3(载物台31～33)的各上表面31S～33S的铅垂位置的装置。在此，载物台测定夹具8以进行各上表面31S～33S的调平为目的而使用。
载物台测定夹具8具有五个载物台测定器81、将各载物台测定器81与搬运往复装置5连接的连接部。在本实施方式中，连接部由架桥结构83以及连结件841、843构成。
各载物台测定器81测定浮起载物台3的上表面的铅垂位置。作为各载物台测定器81，也可以采用使用光或超声波等非接触地测定上表面31S～33S的铅垂位置的反射型传感器。
架桥结构83包括配置于浮起载物台3的上方并沿搬运宽度方向D2延伸的梁部831、以及分别从梁部831的+Y侧端部以及-Y侧端部向铅垂方向下方延伸的两个支柱部832、833。梁部831比浮起载物台3长且在搬运宽度方向D2上延伸，各支柱部832、833分别配置在浮起载物台3的搬运宽度方向D2的两侧。
各载物台测定器81安装于梁部831的搬运方向D1上的一侧的侧面831S。各载物台测定器81设置于比浮起载物台3的搬运宽度方向D2的两端更靠内侧的范围内，并且在搬运宽度方向D2上隔开规定的间隔而设置。
支柱部832的下端部通过连结件841以能够拆卸的方式固定于搬运往复装置5所具有的卡盘构件51R的基座部512的上表面。支柱部833的下端部通过连结件843以能够拆卸的方式固定于搬运往复装置5所具有的卡盘构件51L的基座部512的上表面。连结件841、843例如也可以是包括螺栓等紧固连接机构的结构。通过将支柱部832、833固定于各基座部512，从而使梁部831配置于各个卡盘构件51R、51L的在搬运方向D1上排列的两个支撑部513、513之间的位置。
在支柱部832、833固定于各基座部512的状态下，若搬运往复装置5使卡盘构件51R、51L连动而沿搬运方向D1移动，则架桥结构83沿搬运方向D1移动。由此，安装于架桥结构83的各载物台测定器81沿搬运方向D1移动。
连结件841、843构成为能够将支柱部832、833安装于分别偏向各基座部512的上游侧以及下游侧的各位置。架桥结构83相对于搬运往复装置5固定于靠上游侧的位置(参照图6)以及靠下游侧的位置(参照图8)。
支柱部832构成为，通过连结件841不仅能够固定于卡盘构件51R的基座部512，还能够固定于卡盘构件51L的基座部512。另外，支柱部833构成为，通过连结件843不仅能够固定于卡盘构件51L的基座部512，还能够固定于卡盘构件51R的基座部512。在将支柱部832、833分别固定于卡盘构件51R、51L的各基座部512的情况下，梁部831的侧面831S朝向上游侧(-X侧)(参照图6)，在固定于卡盘构件51L、51R的各基座部512的情况下，梁部831的侧面831S朝向下游侧(-X侧)(参照图8)。
在图6所示的例子中，相对于搬运往复装置5，架桥结构83固定在靠上游侧的位置。另外，在图6所示的例子中，梁部831的侧面831S(安装有各载物台测定器81的侧面)朝向上游侧。
在该状态下使搬运往复装置5在能够移动的整个范围内移动的情况下，各载物台测定器81能够测定铅垂位置的搬运方向D1的范围为浮起载物台3的靠上游侧的第一测定范围RA1。第一测定范围RA1覆盖入口浮起载物台31和涂敷载物台32的各上表面31S、32S的整个面以及出口浮起载物台33的上表面33S中的上游侧的一部分。
如图6所示，通过将各载物台测定器81配置在梁部831的上游侧，使浮起载物台3的上表面的上游侧端部(具体而言，入口浮起载物台31的上游侧端部)的铅垂位置的测定变得容易。
如图8所示，架桥结构83以使梁部831中的安装有各载物台测定器81的侧面朝向搬运方向上游侧的姿势安装于搬运往复装置5。在图8所示的例子中，相对于搬运往复装置5，架桥结构83固定在靠下游侧的位置。另外，在图8所示的例子中，梁部831的侧面831S朝向下游侧。在该状态下使搬运往复装置5在能够移动的整个范围移动的情况下，能够由各载物台测定器81测定的搬运方向D1的范围为浮起载物台3的靠下游侧的第二测定范围RA2。第二测定范围RA2覆盖涂敷载物台32及出口浮起载物台33的各上表面32S、33S的整个面以及入口浮起载物台31的上表面31S中的下游侧的一部分。
第一测定范围RA1和第二测定范围RA2包括在搬运方向D1上重复的区域。因此，通过在第一测定范围RA1和第二测定范围RA2双方测定铅直位置，能够测定浮起载物台3的各上表面31S～33S全部的倾斜。此外，对于第一测定范围RA1和第二测定范围RA2的重复的区域而言，并不是必须测定两次，只测定一次即可。
如图8所示，通过将各载物台测定器81配置在梁部831的下游侧，使浮起载物台3的上表面的下游侧端部(具体而言，出口浮起载物台33的上表面33S的下游侧端部)的铅垂位置的测定变得容易。
如图7所示，涂敷装置1设置有用于调整浮起载物台3的上表面(上表面31S、32S、33S)的铅垂位置的调整机构13。调整机构13包括支撑各上表面31S～33S的多个调平螺栓131和支撑各调平螺栓131的支撑板133。各调平螺栓131从下方支撑浮起载物台3的各载物台31～33。各调平螺栓131在X方向以及Y方向上隔开规定的间隔而设置。在此，由在搬运方向D1上隔开间隔设置的各调平螺栓131构成的列(行)在搬运宽度方向D2上隔开间隔地设置有五个。
浮起载物台3的各载物台31～33由各调平螺栓131以多个点支撑。各调平螺栓131通过被旋转操作而沿铅垂方向升降。即，通过调整1个调平螺栓131的铅垂位置，来变更该调平螺栓131所支撑的载物台31～33的任意一部分(对象部分)的铅垂位置。通过调整各调平螺栓131的铅垂位置，能够进行各载物台31～33的各上表面31S～33S的调平。
如图6～图8所示，各载物台测定器81设置于与沿搬运方向D1排列的调平螺栓131的列(行)对应的位置。即，各载物台测定器81设置于能够对由各上表面31S～33S的各调平螺栓131调整铅垂位置的对象部分的铅垂位置进行测定的位置。
通过利用各载物台测定器81测定与各调平螺栓131对应的各对象部分的铅垂位置，能够测定各对象部分的铅垂位置的偏移。在该情况下，由于能够以使各对象部分的铅垂位置变为规定的铅垂位置的方式进行调整，因此，能够高精度地进行浮起载物台3的各上表面31S～33S的调平。
在本实施方式中，将各载物台测定器81与搬运往复装置5连接的连接部由门型的架桥结构83构成，但这不是必须的。例如，也可以通过省略梁部831的两端的支柱部832、833中的一个而将梁部831以悬臂状支撑。在该情况下，能够利用两个卡盘构件51R、51L中的任一个的动力使各载物台测定器81移动。
图9是表示实施方式的控制单元9的概略框图。涂敷装置1具有用于控制各部的动作的控制单元9。控制单元9的硬件结构也可以与一般的计算机相同。控制单元9具有进行各种运算处理的CPU91、作为存储基本程序的读取专用的存储器的ROM、存储各种信息的读写自如的存储器92、以及包含显示各种信息的显示器的显示部93。
除了主存储装置(RAM)以外，存储器92还包括存储控制用应用程序(程序)以及数据等的固定盘。控制单元9也可以具有：承担与用户或外部装置的信息交换的接口部、以及读取保存在具有可移动性的存储介质(光学式介质、磁介质、半导体存储器等)中的信息(程序)的读取装置。
CPU91根据程序进行动作，由此，使搬运往复装置5动作而使载物台测定夹具8沿搬运方向D1移动，并且利用载物台测定夹具8所具有的五个载物台测定器81测定浮起载物台3的铅垂位置。CPU91对各载物台测定器81输出的测定结果进行合计，并保存在存储器92中。浮起载物台3的铅垂位置的测定结果也可以适当显示于显示部93。
<动作说明>
图10是表示测定及调整浮起载物台3的各上表面31S～33S的铅垂位置的处理流程的图。以下说明的处理流程是一例，并不限定于此。
首先，如图6和图7所示，载物台测定夹具8安装于搬运往复装置5(步骤S10)。详细而言，支柱部832、833固定于卡盘构件51R、51L的各基座部512的上表面。由此，各载物台测定器81经由作为连接部的架桥结构83与搬运往复装置5连接。
接着，控制单元9控制搬运往复装置5和各载物台测定器81，来测定浮起载物台3的上表面31S～33S的铅垂位置(步骤S11)。通过该处理，如图6所示，取得浮起载物台3中的上游侧的第一测定范围RA1内的铅垂位置的分布。控制单元9也可以将测定结果(铅垂位置的分布)适当地显示于显示部93。
操作者基于在步骤S11中得到的测定结果，判断是否进行倾斜的调整(步骤S12)。此外，控制单元9也可以基于铅垂位置的测定结果以及规定的判定基准，来判定是否需要进行倾斜的调整。在需要进行倾斜的调整的情况下，控制单元9可以进行该意思的显示。在需要进行倾斜的调整的情况下(步骤S12中为“是”)，操作者根据铅垂位置的测定结果，进行铅垂位置的调整(步骤S13)。具体而言，通过对与需要调整的部位对应的调平螺栓131进行操作，来适当调整铅垂位置的偏移。由此，进行浮起载物台3的各上表面31S～33S的调平。此外，出口浮起载物台33的上表面33S中的不包含在第一测定范围RA1中的部分的铅垂位置的测定和调整在后述的步骤S18中进行。
在倾斜的调整完成的情况下，或者不需要进行倾斜的调整的情况下(在步骤S12中为“否”)，操作者判断是否再次测定浮起载物台3的上表面31S～33S的铅垂位置(步骤S14)。在判断为需要进行再次测定的情况下(步骤S14中“是”)，再次执行步骤S11～S13的各处理。此外，也可以例如以预先决定的次数反复执行步骤S11～S13，以代替执行步骤S14。
在不进行再次测定的情况下(在步骤S14中为“否”)，变更载物台测定夹具8的安装位置(步骤S15)。详细而言，如图8中说明的那样，载物台测定夹具8安装于搬运往复装置5的靠下游侧的位置。另外，支柱部832安装于卡盘构件51L的基座部512，支柱部833安装于卡盘构件51R的基座部512。由此，由于梁部831的侧面831S朝向下游侧，因此，各载物台测定器81相比梁部831更靠下游侧配置。
接着，控制单元9控制搬运往复装置5及各载物台测定器81，测定浮起载物台3的31S～33S的铅垂位置(步骤S16)。通过该处理，如图8所示，取得浮起载物台3中的下游侧的第二测定范围RA2内的铅垂位置的分布。控制单元9也可以将测定结果(铅垂位置的分布)适当地显示于显示部93。
操作者基于在步骤S16中得到的测定结果，判断是否进行倾斜的调整(步骤S17)。控制单元9也可以基于铅垂位置的测定结果以及规定的判定基准，来判定是否需要进行倾斜的调整。在需要进行倾斜的调整的情况下，控制单元9可以进行该意思的显示。在需要进行倾斜的调整的情况下(步骤S17中为“是”)，操作者根据铅垂位置的测定结果，进行铅垂位置的调整(步骤S18)。具体而言，通过对与需要调整的部位对应的调平螺栓131进行操作，来适当调整铅垂位置的偏移。由此，进行浮起载物台3的各上表面31S～33S的调平。此外，出口浮起载物台33的上表面33S中的不包含于第二测定范围RA2的部分的铅垂位置的测定及调整在之前的步骤S13中进行。
在倾斜的调整完成的情况下，或者不需要进行倾斜的调整的情况下(在步骤S17中为“否”)，操作者判断是否再次测定浮起载物台3的上表面31S～33S(第二测定范围RA2内)的铅垂位置(步骤S19)。在需要再次测定的情况下(在步骤S18中为“是”)，再次执行步骤S16～S18的各处理。此外，也可以例如以预先决定的次数反复执行步骤S16～S18，以代替执行步骤S19。
通过以上的各处理，浮起载物台3的各上表面31S～33S铅垂位置的测定和调整处理完成。通过该一系列的处理，进行各上表面31S～33S的调平，从而修正各上表面31S～33S的倾斜。
<效果>
根据载物台测定夹具8，在涂敷装置1中使各载物台测定器81与为了搬运基板W而设置的搬运往复装置5连接，使载物台测定器81在搬运方向D1上移动。因此，能够高效地测定浮起载物台3在搬运方向D1上的铅垂位置的分布。因此，能够高效地测定浮起载物台3的各上表面31S～33S的倾斜。
搬运基板W的搬运往复装置5是直动机构，因此，能够使各载物台测定器81在搬运方向D1上高精度地移动。因此，通过将各载物台测定器81与搬运往复装置5连接，能够高精度地测定浮起载物台3的各上表面31S～33S的倾斜。
各载物台测定器81在搬运宽度方向D2上隔开间隔地配置。因此，通过使各载物台测定器81沿搬运方向D1移动，能够一次测定在搬运宽度方向D2上不同的各位置的铅垂位置的分布。因此，能够高效地测定浮起载物台3的各上表面31S～33S的倾斜。
各载物台测定器81和架桥结构83能够拆卸。因此，在浮起载物台3的上表面31S～33S的倾斜度的调整完成之后，能够将载物台测定夹具8从搬运往复装置5拆卸。由此，能够抑制载物台测定夹具8与涂敷装置1的其他构件发生干扰。例如，涂敷机构6的维护单元65配置于比较接近浮起载物台3的铅垂位置。通过拆卸载物台测定夹具8，在搬运往复装置5为了涂敷处理而搬运基板W时，能够抑制梁部831与维护单元65发生干扰。
<2.变形例>
以上，对实施方式进行了说明，但本实用新型并不限定于上述的实施方式，能够进行各种变形。
例如，也可以在架桥结构83的梁部831的侧面831S上设置使各载物台测量器81沿搬运宽度方向D2移动的移动机构。在该情况下，也可以在架桥结构83上仅设置单一的载物台测定器81。在该情况下，通过利用搬运往复装置5和移动机构使载物台测定器81在水平面内移动，能够测定浮起载物台3的各上表面31S～33S的铅垂位置分布。另外，也可以将两个以上的载物台测定器81安装于1个连结部件而一体化，并且上述水平移动部使该连结部件在搬运宽度方向D2上移动，由此，使各载物台测定器81在搬运宽度方向D2上一体地移动。
另外，在上述实施方式中，将各载物台测定器81与用于搬运基板W的搬运往复装置5连接。但是，也可以与搬运往复装置5分开地设置使载物台测定夹具8沿搬运方向D1移动的移动部。作为移动部，例如除了与搬运往复装置5所具有的线性马达机构(行进导轨87L、87R以及线性马达88L、88R)相同的结构之外，还能够采用通过伺服马达的驱动对与滑动件侧的螺母构件螺合的螺杆轴进行旋转驱动的电动滑动机构等。
虽然对本实用新型进行了详细说明，但上述的说明在所有的方面仅为例示，本实用新型并不限定于此。能够在不脱离本实用新型的范围的情况下想到未例示的无数的变形例。在上述各实施方式以及各变形例中说明的各结构只要不相互矛盾，就能够进行组合或省略。

Claims (6)

1.一种载物台测定夹具，测定形成有喷出空气的多个孔的铅垂方向向上的上表面的铅垂位置，该上表面是对由搬运往复装置沿规定的搬运方向搬运的基板施加浮起力的浮起载物台所具有的平面，其中，
所述载物台测定夹具具有：
至少一个载物台测定器，测定所述浮起载物台的所述上表面的铅垂位置；以及
连接部，与所述搬运往复装置连接，以能够使所述载物台测定器在所述搬运方向上移动。
2.根据权利要求1所述的载物台测定夹具，其中，
所述连接部具有：
梁部，在与所述搬运方向正交的搬运宽度方向上延伸，并在所述上表面的上方支撑所述载物台测定器；以及
连结件，使所述梁部以能够拆卸的方式与所述搬运往复装置连结。
3.根据权利要求1或2所述的载物台测定夹具，其中，
作为所述上表面的一部分的对象部分的铅垂位置能够通过设置于浮起载物台的调整机构进行调整，
所述载物台测定器设置于能够测定所述对象部分的铅垂位置的位置。
4.根据权利要求1或2所述的载物台测定夹具，其中，
在与所述搬运方向正交的搬运宽度方向上隔开间隔地设置有多个所述载物台测定器。
5.一种涂敷装置，向基板涂敷处理液，其中，
所述涂敷装置具有：
搬运往复装置，将基板沿规定的方向搬运；
浮起载物台，通过从设置于铅垂向上的上表面的多个孔喷出空气，对所述搬运往复装置沿搬运方向搬运的基板施加浮起力；
空气供给部，供给所述空气；
至少一个载物台测定器，测定所述上表面的铅垂位置；
连接部，与所述搬运往复装置连接，以能够使所述载物台测定器在所述搬运方向上移动；
调整件，对作为所述上表面的一部分的对象部分的铅垂位置进行调整；以及
喷嘴，向由所述搬运往复装置沿所述搬运方向搬运的基板喷出处理液。
6.一种载物台测定夹具，测定形成有喷出空气的多个孔的铅垂方向向上的上表面的铅垂位置，该上表面是对沿规定的搬运方向搬运的基板施加浮起力的浮起载物台所具有的平面，其中，
所述载物台测定夹具具有：
至少一个载物台测定器，测定所述浮起载物台的所述上表面的铅垂位置；以及
移动部，使所述载物台测定器在所述搬运方向上移动。
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