CN210535236U - 一种显示面板、显示装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种显示面板、显示装置。涉及显示技术领域，为解决将指纹识别模组集成在显示面板内部时，存在的指纹识别精度低的问题。所述显示面板包括基底，设置在基底上的驱动电路层，以及设置在驱动电路层背向基底的一侧的多个像素单元；每个像素单元均包括至少两个子像素；显示面板还包括：设置在所述基底上的遮光层，遮光层上设置有多个成像小孔，成像小孔在基底上的正投影，位于目标子像素在基底上的正投影的周边预设范围内，目标子像素的发光效率小于阈值。本实用新型提供的显示面板用于显示。

Description

一种显示面板、显示装置

技术领域

本实用新型涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板、显示装置。

背景技术

在电子设备领域，尤其是手机领域，搭载生物识别尤其是指纹识别技术进行身份验证等操作已经成为标配，目前指纹识别模组通常采用外挂式，并且通常设置在手机背面或者集成在手机HOME键上，设置在手机背面的方式不利于操作的便利性，设置在HOME键的方式不利用实现全屏显示。

因此，相关技术已经提出将指纹识别模组集成在显示面板内部的方案，主要原理是利用有机发光二极管(英文：Organic Light-Emitting Diode，简称OLED)显示面板的自发光作为指纹识别的光源，当光照射到手指时，被手指反射回的光线通过设置在背板中的小孔后被指纹识别模组接收，指纹识别模组对每个小孔成的像进行合成分析后可得到指纹的图案信息。将指纹识别模组集成在显示面板内部的方案虽然提高了屏占比，但是还存在指纹识别精度低的问题，因此如何提升指纹识别精度成为亟待解决的问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种显示面板、显示装置，用于解决将指纹识别模组集成在显示面板内部时，存在的指纹识别精度低的问题。

为了实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

本实用新型的第一方面提供一种显示面板，包括基底，设置在所述基底上的驱动电路层，以及设置在所述驱动电路层背向所述基底的一侧的多个像素单元；

每个所述像素单元均包括至少两个子像素；

所述驱动电路层包括与所述子像素一一对应的子像素驱动电路；

所述子像素包括沿靠近所述基底至远离所述基底的方向上依次层叠设置的阳极图形、有机发光单元和阴极层；

所述显示面板还包括与所述阳极图形一一对应的金属图形，在垂直于所述基底的方向上，所述金属图形位于对应所述子像素驱动电路与对应的所述阳极图形之间，所述阳极图形通过对应的所述金属图形与对应的子像素驱动电路电连接；

所述显示面板还包括：设置在所述基底上的遮光层，所述遮光层上设置有多个成像小孔，所述成像小孔在所述基底上的正投影，位于目标子像素在所述基底上的正投影的周边预设范围内，所述目标子像素的发光效率小于阈值。

可选的，所述遮光层与所述金属图形同层同材料设置。

可选的，每个所述像素单元均包括第一颜色子像素、第二颜色子像素和第三颜色子像素；其中，所述第一颜色子像素的发光效率大于所述第二颜色子像素的发光效率，所述第二颜色子像素的发光效率大于所述第三颜色子像素的发光效率；

所述目标子像素包括所述第二颜色子像素和/或所述第三颜色子像素；

所述成像小孔在所述基底上的正投影与所述第一颜色子像素在所述基底上的正投影之间具有第一距离，所述成像小孔在所述基底上的正投影与所述第二颜色子像素在所述基底上的正投影之间具有第二距离，所述成像小孔在所述基底上的正投影与所述第三颜色子像素在所述基底上的正投影之间具有第三距离，所述第二距离小于所述第一距离，和/或，所述第三距离小于所述第一距离。

可选的，所述第一颜色子像素包括绿色子像素，所述第二颜色子像素包括红色子像素，所述第三颜色子像素包括蓝色子像素；

所述多个像素单元呈阵列分布，每个所述像素单元均包括一个红色子像素、一个蓝色子像素和两个绿色子像素。

可选的，位于同一行的像素单元中，各像素单元中包括的所述红色子像素和所述蓝色子像素分布在一行，各像素单元中包括的所述绿色子像素分布在另一行；

且在平行于所述行的方向上相邻的所述红色子像素和所述蓝色子像素之间，具有一个所述绿色子像素。

可选的，每个所述像素单元包括的所述两个绿色子像素组成绿色子像素组，所述绿色子像素组中的所述两个绿色子像素沿垂直于所述行的方向排列；

在位于同一行的像素单元中，各像素单元包括的所述红色子像素、所述蓝色子像素和所述绿色子像素组均分布在一行。

可选的，所述显示面板还包括：

位于所述成像小孔背向所述基底的一侧的反射光屏蔽层，所述反射光屏蔽层在所述基底上的正投影，位于所述目标子像素在所述基底上的正投影，与至少一个非目标子像素在所述基底上的正投影之间；

所述成像小孔在所述基底上的正投影，位于所述目标子像素在所述基底上的正投影，与所述反射光屏蔽层在所述基底上的正投影之间。

可选的，位于所述成像小孔背向所述基底的一侧的反射光屏蔽层，所述反射光屏蔽层在所述基底上的正投影，位于所述目标子像素在所述基底上的正投影，与至少一个非目标子像素在所述基底上的正投影之间；

所述目标子像素在所述基底上的正投影，位于所述成像小孔在所述基底上的正投影，与所述反射光屏蔽层在所述基底上的正投影之间。

可选的，所述反射光屏蔽层在所述基底上的正投影，位于相邻行的所述像素单元在所述基底上的正投影之间。

可选的，所述显示面板还包括沿所述行的延伸方向延伸的信号线，所述信号线位于所述成像小孔与所述反射光屏蔽层之间，所述反射光屏蔽层与所述信号线延伸方向相同，所述反射光屏蔽层与所述信号线并联。

可选的，所述反射光屏蔽层在所述基底上的正投影与所述信号线在所述基底上的正投影之间存在重叠区域，所述反射光屏蔽层与所述信号线之间通过设置在所述重叠区域的过孔并联。

可选的，所述显示面板包括显示区域和设置在所述显示区域周边的非显示区域，所述过孔位于所述显示区域或所述非显示区域。

可选的，所述信号线包括初始化信号线。

可选的，所述显示面板还包括：

与所述初始化信号线延伸方向相同的发光控制信号线，以及与所述初始化信号线延伸方向垂直的电源信号线；

所述子像素驱动电路呈阵列分布，沿所述行的延伸方向，划分为多行子像素驱动电路，沿与所述行的延伸方向垂直的列方向，划分为多列子像素驱动电路，所述初始化信号线和所述发光控制信号线均与所述多行子像素驱动一一对应，位于同一行的子像素驱动电路共用对应的一条发光控制信号线，且共用对应的一条所述初始化信号线；所述电源信号线与所述多列子像素驱动电路一一对应，位于同一列的子像素驱动共用对应的一条电源信号线；

所述成像小孔在所述基底上的正投影，位于前一行子像素驱动电路对应的发光控制信号线在所述基底上的正投影，与相邻的后一行子像素驱动电路对应的初始化信号线在所述基底上的正投影之间；和/或，

所述成像小孔在所述基底上的正投影，位于所述目标子像素对应的所述金属图形在所述基底上的正投影，与该所述目标子像素对应的所述电源信号线在所述基底上的正投影之间。

可选的，所述成像小孔在所述基底上的正投影与所述发光控制信号线在所述基底上的正投影之间的最小距离，所述成像小孔在所述基底上的正投影与所述初始化信号在所述基底上的正投影之间的最小距离，所述成像小孔在所述基底上的正投影与所述电源信号线在所述基底上的正投影之间的最小距离，以及所述成像小孔在所述基底上的正投影与所述金属图形在所述基底上的正投影之间的最小距离均大于预设基准值。

可选的，所述反射光屏蔽层与所述阳极图形同层同材料设置。

可选的，多个所述成像小孔呈阵列分布，所述成像小孔位于所述显示面板的显示区域内的任一局部区域；或者，所述成像小孔分布在整个所述显示区域内。

基于上述显示面板的技术方案，本实用新型的第二方面提供一种显示装置，包括上述显示面板。

本实用新型提供的技术方案中，通过将遮光层上的成像小孔设置在发光效率小于阈值的目标子像素的周边，使得在进行指纹识别时，穿过成像小孔的光线的大部分或全部均由目标子像素发出，而目标子像素的发光效率小于阈值，使得向各子像素输入相同的数据信号时，目标子像素的发光亮度相对于非目标像素的发光亮度较暗，即由目标子像素发出的光线的亮度更适应指纹识别模组的识别能力，使得指纹识别模组在基于由该目标子像素发出的光线进行指纹识别时，指纹识别的精度更高；可见，在本实用新型提供的技术方案中，通过控制穿过成像小孔的光线成分，使得用于指纹识别的光线的亮度适中，从而有效提升指纹识别精度。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本实用新型的进一步理解，构成本实用新型的一部分，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中：

图1为本实用新型实施例提供的第一种像素结构中成像小孔的第一种设置方式；

图2为本实用新型实施例提供的第一种像素结构中成像小孔的第二种设置方式；

图3为本实用新型实施例提供的第一种像素结构中反射光屏蔽层的示意图；

图4为本实用新型实施例提供的第二种像素结构中成像小孔的第一种设置方式；

图5为本实用新型实施例提供的第二种像素结构中成像小孔的第二种设置方式；

图6为本实用新型实施例提供的第二种像素结构中反射光屏蔽层的示意图；

图7为本实用新型实施例提供的显示面板进行指纹识别的示意图；

图8为本实用新型实施例提供的指纹识别区域设置在显示面板的指定区域的示意图；

图9为本实用新型实施例提供的遮光层上设置的成像小孔的示意图；

图10为本实用新型实施例提供的子像素驱动电路的结构示意图；

图11为本实用新型实施例提供的子像素驱动电路的工作时序图；

图12为本实用新型实施例提供的各子像素对应的子像素驱动电路的布局示意图；

图13～16为图12中的布局方式对应的各个膜层的示意图。

具体实施方式

为了进一步说明本实用新型实施例提供的显示面板、显示装置，下面结合说明书附图进行详细描述。

本实用新型提供一种显示面板，将指纹识别模组集成在显示面板内部，在显示面板的背板内部设置与指纹识别模组对应的成像小孔，在显示区域进行指纹识别时，显示面板发出的光线作为指纹识别的光源，该光线照射到用于指纹识别的手指后被手指反射，反射回的光线能够通过设置在显示面板的背板中的成像小孔并被指纹识别模组接收(该指纹识别模组通常采用电荷藕合器件图像传感器CCD)，指纹识别模组对每个成像小孔成的像进行合成分析后可得到指纹的图案信息，本实用新型提供的显示面板可以利用显示区域进行指纹识别，不必在显示面单独设置指纹识别区，有利于实现全屏显示。

将指纹识别模组集成在显示面板内部的方案虽然提高了屏占比，但是还存在指纹识别精度低的问题，因此如何提升指纹识别精度成为亟待解决的问题。

基于上述问题的存在，本实用新型的发明人经研究发现，在指纹识别模组精度不变的前提下，提升指纹识别精度的重点在于对识别光路的优化设计，为此相关技术中已有部分方案发明提升光路的设计，但这些方案主要集中在遮光层位置的选择，杂散光处理等方面，还没有结合具体器件进行改善优化的方案。

本实用新型的发明人进一步研究发现，以OLED显示面板为例，由于OLED显示面板为自发光，且其包括的不同颜色的子像素对应的发光效率和发光亮度均有明显差异，示例性的，显示面板包括：红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素，其中绿色子像素的发光效率较高，红色子像素和蓝色子像素的发光效率较低，进而导致显示面板在实际显示时，绿色子像素的发光亮度较高，红色子像素和蓝色子像素的发光亮度较低；而在进行指纹识别时，需要一定亮度的反射光线照射指纹识别模组中的感光元件，进而通过分析形成指纹的图像信息，但是过高亮度的光线可能会超出指纹识别模组的识别能力或者造成指纹识别精度降低，因此，可通过将成像小孔设置在发光效率较低的子像素的周边，并使成像小孔远离其它发光效率较高的子像素，这样通过控制穿过成像小孔的光线的成分，能够使经过成像小孔的光线具有适中的亮度，以此提升指纹识别模组的识别精度。

请参阅图1、图2和图7，本实用新型实施例提供了一种显示面板，包括基底40，设置在所述基底40上的驱动电路层，以及设置在所述驱动电路层背向所述基底40的一侧的多个像素单元；每个所述像素单元均包括至少两个子像素；所述驱动电路层包括与所述子像素一一对应的子像素驱动电路；所述子像素包括沿靠近所述基底40至远离所述基底40的方向上依次层叠设置的阳极图形、有机发光单元和阴极层；所述显示面板还包括与所述阳极图形一一对应的金属图形，在垂直于所述基底40的方向上，所述金属图形位于对应所述子像素驱动电路与对应的所述阳极图形之间，所述阳极图形通过对应的所述金属图形与对应的子像素驱动电路电连接；所述显示面板还包括：设置在所述基底40上的遮光层90，所述遮光层90上设置有多个成像小孔91，所述成像小孔91在所述基底40上的正投影，位于目标子像素在所述基底40上的正投影的周边预设范围内，所述目标子像素的发光效率小于阈值。

具体地，上述显示面板包括的多个像素单元可呈阵列分布在基底上，每个像素单元均可包括多个子像素，子像素的颜色可根据实际需要设置，示例性的，每个像素单元至少包括红色子像素R、绿色子像素G和蓝色子像素B。像素单元包括的各种不同颜色子像素中，将发光效率小于阈值的子像素定义为目标子像素(如图1和图2中的红色子像素R和蓝色子像素B)，将发光效率大于或等于阈值的子像素定义为非目标子像素(如图1和图2中的绿色子像素G)，该阈值的大小可根据实际需要确定，只需满足由目标子像素发出的光线在穿过成像小孔91用于指纹识别时，该光线的亮度不会超出指纹识别模组的识别能力，且能够提升指纹识别的精度即可。

上述显示面板还包括具有多个成像小孔91的遮光层90，该遮光层90可利用金属材料形成在基底上，具体可位于所述基底的表面，或者子像素驱动电路背向所述基底的一侧，但不仅限于此。在遮光层90上形成成像小孔91时，成像小孔91的位置可根据实际需要设置，示例性的，设置所述成像小孔91在所述基底40上的正投影，位于目标子像素在所述基底40上的正投影的周边预设范围内，这种设置方式能够满足穿过成像小孔91的光大部分为目标子像素发出的光，只有少部分由非目标子像素发出的光穿过成像小孔91；或者，能够满足穿过成像小孔91的光均为目标子像素发出的光，即没有非目标子像素发出的光穿过成像小孔91；从而保证小孔Via的出光既不会太弱，也不会太强。

上述显示面板在实际应用时，显示面板实现显示功能，当有手指触控显示面板的显示侧的表面时，显示面板发出的光线能够作为指纹识别的光源，该光线照射到用于指纹识别的手指后被手指反射，反射回的光线穿过成像小孔91并被显示面板中的指纹识别模组接收，指纹识别模组对每个成像小孔91成的像进行合成分析后可得到指纹的图案信息。

根据上述实施例提供的显示面板的具体结构和应用过程可知，本实用新型实施例提供的显示面板中，通过将遮光层90上的成像小孔91设置在发光效率小于阈值的目标子像素的周边，使得在进行指纹识别时，穿过成像小孔91的光线的大部分或全部均由目标子像素发出，而目标子像素的发光效率小于阈值，使得向各子像素输入相同的数据信号时，目标子像素的发光亮度相对于非目标像素的发光亮度较暗，即由目标子像素发出的光线的亮度更适应指纹识别模组的识别能力，使得指纹识别模组在基于由该目标子像素发出的光线进行指纹识别时，指纹识别的精度更高；可见，在本实用新型实施例提供的显示面板中，通过控制穿过成像小孔91的光线成分，使得用于指纹识别的光线的亮度适中，从而有效提升指纹识别精度。

另外，本实用新型实施例提供的显示面板中，可具体将遮光层90设置在驱动电路层和基底之间，使得遮光层90不会对驱动电路层中包括的各膜层产生影响，保证了驱动电路层中各导电图形和走线有足够的排布空间。

进一步地，如图10、图12～图16所示，所述驱动电路层中包括的各子像素驱动电路可均包括：第一晶体管T1、第二晶体管T2、第三晶体管T3、第四晶体管T4、第五晶体管T5、第六晶体管T6、第七晶体管T7和存储电容Cst。

以位于第n行、第n列的子像素驱动电路为例，该子像素驱动电路包括的各晶体管采用P型晶体管，其中，第四晶体管T4的源极S4与电源信号线VDD(n)连接，第四晶体管T4的漏极D4与第一晶体管T1的源极S1连接，第四晶体管T4的栅极G4与发光控制信号线EM(n)连接，第二晶体管T2的栅极G2与栅极控制信号线G(n)连接，第二晶体管T2的源极S2与数据信号线D(n)连接，第二晶体管T2的漏极D2与第一晶体管T1的源极S1连接，第三晶体管T3的栅极G3与栅极控制信号线G(n)连接，第三晶体管T3的源极S3与第一晶体管T1的漏极D1连接，第三晶体管T3的漏极D3与第一晶体管T1的栅极G1连接，第五晶体管T5的栅极G5与发光控制信号线EM(n)连接，第五晶体管T5的源极S5与第一晶体管T1的漏极D1连接，第五晶体管T5的漏极D5与对应的子像素的阳极图形连接，第六晶体管T6的栅极G6与第n条复位信号线RST(n)连接，第六晶体管T6的源极S6与第n条初始化信号线VINT(n)连接，第六晶体管T6的漏极D6与第一晶体管T1的栅极G1连接，第七晶体管T7的栅极G7与第n+1条复位信号线RST(n+1)连接，第七晶体管T7的源极S7与第n+1条初始化信号线VINT(n+1)连接，或第七晶体管T7的源极S7与电源负极VSS连接，第七晶体管T7的漏极D7与对应的子像素的阳极图形连接，存储电容Cst的第一极板Cstb与第一晶体管T1的栅极G1连接，存储电容Cst的第二极板Csta与电源信号线VDD(n)连接。

如图11所示，上述结构的子像素驱动电路在工作时，每个工作周期均包括复位时段P1、写入补偿时段P2和发光时段P3，在复位时段P1，第n条复位信号线RST(n)输入的第n复位信号处于有效电平，第六晶体管T6导通，对第一晶体管T1的栅极G1进行复位。

在写入补偿时段P2，所述第n复位信号处于非有效电平，第六晶体管T6截止，第n+1条复位信号线RST(n+1)输入的第n+1复位信号处于有效电平，所述第七晶体管T7导通，对发光元件OLED的阳极进行复位；栅极控制信号线G(n)输入的栅极控制信号处于有效电平，控制第二晶体管T2和第三晶体管T3导通，数据信号线D(n)写入数据信号，第一晶体管T1、第二晶体管T2和第三晶体管T3配合工作，实现对第一晶体管T1的阈值电压补偿。

在发光时段P3，所述第n+1复位信号处于非有效电平，所述第七晶体管T7截止，所述栅极控制信号处于非有效电平，第二晶体管T2和第三晶体管T3均截止，发光控制信号线EM(n)写入的发光控制信号处于有效电平，第四晶体管T4和第五晶体管T5导通，同时第一晶体管T1导通，产生的漏电流流向对应的阳极图形，驱动对应的有机发光单元发光。

在制作上述子像素驱动电路时，子像素驱动电路对应的各膜层的布局如下：

沿靠近基底至远离基底的方向上依次层叠设置的有源膜层(如图13所示，一般为低温多晶硅层)、栅极绝缘层、第一栅金属层(如图14所示)、第一层间绝缘层、第二栅金属层(如图15所示)、第二层间绝缘层、第一源漏金属层(如图16所示)、第三层间绝缘层和第二源漏金属层；其中，第一栅金属层用于形成子像素驱动电路中各晶体管的栅极，以及驱动电路层包括的栅极控制信号线、发光控制信号线和复位信号线等结构，其中每个子像素驱动电路中的第一晶体管T1的栅极G1均复用为该子像素驱动电路中的存储电容Cst的第一极板Cstb；第二栅金属层用于形成存储电容Cst的第二极板Csta，以及驱动电路层包括的初始化信号线VINT(n)；第一源漏金属层用于形成子像素驱动电路中各晶体管的源极和漏极，以及用于导通两个晶体管的连接部，以及驱动电路层包括的数据信号线D(n)和电源信号线VDD(n)；第二源漏金属层用于形成遮光层90。

更详细地说，请继续参阅图12～图16，第四晶体管T4的源极S4位于源极区90S4，第四晶体管T4的漏极D4位于漏极区90D4，第四晶体管T4的栅极G4与发光控制信号线EM(n)连接，第二晶体管T2的栅极G2与栅极控制信号线G(n)连接，第二晶体管T2的源极S2位于源极区90S2，第二晶体管T2的漏极D2位于漏极区90D2，第三晶体管T3的栅极G3与栅极控制信号线G(n)连接，第三晶体管T3的源极S3位于源极区90S3，第三晶体管T3的漏极D3位于漏极区90D3，第五晶体管T5的栅极G5与发光控制信号线EM(n)连接，第五晶体管T5的源极S5位于源极区90S5，第五晶体管T5的漏极D5位于漏极区90D5，第六晶体管T6的栅极G6与第n条复位信号线RST(n)连接，第六晶体管T6的源极S6位于源极区90S6，第六晶体管T6的漏极D6位于漏极区90D6，第七晶体管T7的栅极G7与第n+1条复位信号线RST(n+1)连接，第七晶体管T7的源极S7位于源极区90S7，第七晶体管T7的漏极D7位于漏极区90D7，第一晶体管T1的源极位于源极区90S1，第一晶体管T1的漏极位于漏极区90D1，存储电容Cst的第一极板Cstb与第一晶体管T1的栅极G1连接，存储电容Cst的第二极板Csta与电源信号线VDD(n)连接。

值得注意，所述子像素驱动电路包括的各晶体管中，存在一些晶体管其源极和漏极并非采用源漏金属层制作，即这些晶体管的源极和漏极可直接采用有源膜层制作，只需使得用于作为该源极和该漏极的有源膜层是经过掺杂后，具有导电性能即可。在这种情况下，当需要将两个晶体管的源极或漏极，与另一个晶体管的源极或漏极连接时，可直接将对应的有源膜层连接即可。

需要说明，所述多个子像素驱动电路可呈阵列分布，第n(n为大于或等于1的整数)行子像素驱动电路共用第n条初始化信号线VINT(n)、第n条复位信号线RST(n)、栅极控制信号线G(n)、发光控制信号线EM(n)；第n列子像素驱动电路共用第n条电源信号线VDD(n)和第n条数据信号线D(n)。另外，图12中的RST(n+1)为第n+1行子像素驱动电路应用的第n+1条复位信号线RST(n+1)，G(n+1)为第n+1行子像素驱动电路应用的栅极控制信号线，EM(n+1)为第n+1行子像素驱动电路应用的发光控制信号线。此外，图12中具有交叉线的小矩形框代表过孔。

另外，上述复位信号线、栅极控制信号线和发光控制信号线均可与对应的移位寄存器的输出端耦接，通过对应的移位寄存器生成相应的信号，并输出至对应的信号线上，示例性的，复位移位寄存器RST GOA生成复位信号，并传输至对应的复位信号线；栅极控制移位寄存器Gate GOA生成栅极控制信号，并传输至对应的栅极控制信号线；发光控制移位寄存器EM GOA生成发光控制信号，并传输至对应的发光控制信号线。

同时，为进一步提高屏占比，本实用新型将RST GOA和Gate GOA进行整合，省略RSTGOA，并在Gate GOA输出端进行级联，将本行栅极控制信号线G(n)与上行复位信号线RST(n-1)连接，将本行栅极控制信号线G(n)输出的栅极控制信号作为上行的复位信号。

上述显示面板中采用的基底可选为聚酰亚胺(PI)基板，该基板可为单层的PI基底，或者双层PI基底中间加入阻挡层(barrier层)；另外，如图7所示，还可以在基底40和驱动电路层(形成在显示器件60内)之间引入缓冲层50，在显示器件60背向基底40的一侧设置盖板70，在基底40背向盖板的一侧设置指纹识别模组80。

在制作完驱动电路层后，可继续在驱动电路层背向所述基底40的一侧依次形成层叠设置的阳极层、像素界定层、发光层和阴极层，所述阳极层包括与所述子像素驱动电路一一对应的阳极图形，所述像素界定层在所述阳极层背向所述基底40的一侧限定出与各阳极图形一一对应的开口区；所述发光层包括与所述开口区一一对应的多个有机发光单元，各所述有机发光单元被打印形成在对应的开口区中；所述阴极层可形成为覆盖全部开口区的整层结构，即各子像素可复用同一个所述阴极层。

上述实施例中，通过设置所述显示面板包括与所述阳极图形一一对应的金属图形，且在垂直于所述基底的方向上，所述金属图形位于对应所述子像素驱动电路与对应的所述阳极图形之间，可具体采用第二源漏金属层制作，所述阳极图形通过对应的所述金属图形与对应的子像素驱动电路电连接，可使得金属图形与对应的子像素驱动电路中的第五晶体管T5的漏极D5电连接，这样不仅能够降低第五晶体管T5的漏极D5的电阻，还能够实现第五晶体管T5的漏极D5与对应的阳极图形电连接。

在一些实施例中，所述遮光层与所述金属图形同层同材料设置。

值得注意，上述“同层”指的是采用同一成膜工艺制作用于形成特定图形的膜层，然后利用同一掩模板通过一次构图工艺形成的层结构。根据特定图形的不同，一次构图工艺可能包括多次曝光、显影或刻蚀工艺，而形成的层结构中的特定图形可以是连续的也可以是不连续的，这些特定图形还可能处于不同的高度或者具有不同的厚度。

在将所述遮光层90与所述金属图形同层同材料设置时，制作所述遮光层90和所述金属图形的步骤可具体包括：先形成整层第二源漏金属层，然后在该第二源漏金属层上形成光刻胶，利用包括透光区和非透光区的掩膜板对光刻胶进行曝光，形成光刻胶保留区域和光刻胶去除区域，其中，光刻胶保留区域对应金属图形和遮光层90中不包括成像小孔91的第一部分所在的区域，光刻胶去除区域对应除金属图形和所述第一部分所在的区域之外的其它区域，然后对曝光后的光刻胶进行显影，将位于光刻胶去除区域的光刻胶去除，以将位于光刻胶去除区域的第二源漏金属层暴露出来，接着对光刻胶去除区域暴露出来的第二源漏金属层进行刻蚀，以将光刻胶去除区域暴露出来的第二源漏金属层全部去除，最后将光刻胶保留区域的光刻胶剥离，形成所述遮光层90(即包括所述第一部分和成像小孔91)和所述金属图形。

上述将所述遮光层90与所述金属图形同层同材料设置，使得可通过一次构图工艺同时形成所述遮光层90和所述金属图形，避免为了增加额外的构图工艺，更好的简化了显示面板的制作流程。

在一些实施例中，上述实施例提供的每个所述像素单元均包括第一颜色子像素、第二颜色子像素和第三颜色子像素；其中，所述第一颜色子像素的发光效率大于所述第二颜色子像素的发光效率，所述第二颜色子像素的发光效率大于所述第三颜色子像素的发光效率；所述目标子像素包括所述第二颜色子像素和/或所述第三颜色子像素；所述成像小孔在所述基底上的正投影与所述第一颜色子像素在所述基底上的正投影之间具有第一距离，所述成像小孔在所述基底上的正投影与所述第二颜色子像素在所述基底上的正投影之间具有第二距离，所述成像小孔在所述基底上的正投影与所述第三颜色子像素在所述基底上的正投影之间具有第三距离，所述第二距离小于所述第一距离，和/或，所述第三距离小于所述第一距离。

具体地，上述实施例提供的显示面板中，每个像素单元包括的子像素的具体颜色可根据实际需要设置，且由于不同颜色的子像素对应采用的有机发光材料层的种类不同，因此，不同颜色的子像素对应的发光效率不同。

示例性的，每个像素单元均包括第一颜色子像素、第二颜色子像素和第三颜色子像素，当所述第一颜色子像素的发光效率大于所述第二颜色子像素的发光效率，所述第二颜色子像素的发光效率大于所述第三颜色子像素的发光效率时，可设置所述目标子像素包括所述第二颜色子像素和/或所述第三颜色子像素。

而且，在设置所述目标子像素包括所述第二颜色子像素和/或所述第三颜色子像素的情况下，所述成像小孔91与第一颜色子像素、第二颜色子像素和第三颜色子像素之间的距离可具有如下关系：

所述成像小孔在所述基底上的正投影与所述第一颜色子像素在所述基底上的正投影之间具有第一距离，所述成像小孔在所述基底上的正投影与所述第二颜色子像素在所述基底上的正投影之间具有第二距离，所述成像小孔在所述基底上的正投影与所述第三颜色子像素在所述基底上的正投影之间具有第三距离，所述第二距离小于所述第一距离，和/或，所述第三距离小于所述第一距离。

因此，按照上述方式将成像小孔91设置在第二颜色子像素和/或所述第三颜色子像素的周边预设范围内时，穿过成像小孔91的光大部分为第二颜色子像素和/或所述第三颜色子像素发出的光，只有少部分由第一颜色子像素发出的光穿过成像小孔91；或者，穿过成像小孔91的光均为第二颜色子像素和/或所述第三颜色子像素发出的光，没有第一颜色子像素发出的光穿过成像小孔91；由于第二颜色子像素和/或所述第三颜色子像素的发光效率较低，因此，由第二颜色子像素和/或所述第三颜色子像素发出的光线的亮度更适应指纹识别模组的识别能力，从而更有利于提升指纹识别的精度。

在一些实施例中，所述第一颜色子像素包括绿色子像素，所述第二颜色子像素包括红色子像素，所述第三颜色子像素包括蓝色子像素；所述多个像素单元呈阵列分布，每个所述像素单元均包括一个红色子像素、一个蓝色子像素和两个绿色子像素。

具体地，可设置每个像素单元均包括四个子像素，该四个子像素具体为一个红色子像素R、一个蓝色子像素B和两个绿色子像素G，即使得像素单元形成为RGBG结构；由于绿色子像素包括的绿色有机发光材料层的发光效率高于红色子像素包括的红色有机发光材料层的发光效率，红色有机发光材料层的发光效率高于蓝色子像素包括的蓝色有机发光材料层的发光效率，因此，在向绿色子像素、红色子像素和蓝色子像素写入相同的数据信号时，绿色子像素的发光亮度高于红色子像素的发光亮度，红色子像素的发光亮度高于蓝色子像素的发光亮度。

在将成像小孔91设置在蓝色子像素的周边预设范围内时，使得穿过成像小孔91的光线中大部分或全部为蓝色光线，由于蓝色光线的发光亮度较低，从而使得在进行指纹识别时，具有更高的识别精度。而在将成像小孔91设置在红色子像素的周边预设范围内时，由于红色子像素的发光亮度高于蓝色子像素的发光亮度，且小于绿色子像素的发光亮度，因此可以在保证有足够亮度的光线作为用于指纹识别的反射光线的同时，避免亮度过高影响指纹识别精度，因此，将成像小孔91设置在红色子像素的周边预设范围能够更进一步的提升指纹识别精度。

上述像素单元形成为RGBG结构时，具体的像素排布方式多种多样，下面示例性的给出两种具体结构。

第一种结构，如图1和图2所示，位于同一行的像素单元中，各像素单元中包括的所述红色子像素R和所述蓝色子像素B分布在一行，各像素单元中包括的所述绿色子像素G分布在另一行；且在平行于所述行的方向上相邻的所述红色子像素R和所述蓝色子像素B之间，具有一个所述绿色子像素G。

第二种结构，如图4和图5所示，每个所述像素单元包括的所述两个绿色子像素G组成绿色子像素组，所述绿色子像素组中的所述两个绿色子像素G沿垂直于所述行的方向排列；在位于同一行的像素单元中，各像素单元包括的所述红色子像素R、所述蓝色子像素B和所述绿色子像素组均分布在一行。

上述两种像素结构中，在将成像小孔91设置在靠近红色子像素R和/或蓝色子像素B的位置时，能够使得成像小孔91与绿色子像素G相距较远，从而使得指纹识别过程中，穿过成像小孔91的光线基本为红色光线或蓝色光线，使得用于指纹识别的光线亮度适中，从而更好的保证了指纹识别精度。

如图3和图6所示，在一些实施例中，上述实施例提供的显示面板还包括：

位于所述成像小孔91背向所述基底的一侧的反射光屏蔽层20，所述反射光屏蔽层20在所述基底上的正投影，位于所述目标子像素在所述基底上的正投影，与至少一个非目标子像素在所述基底上的正投影之间；所述成像小孔91在所述基底上的正投影，位于所述目标子像素在所述基底上的正投影，与所述反射光屏蔽层20在所述基底上的正投影之间。

具体地，在成像小孔91背向所述基底的一侧可设置反射光屏蔽层20，该反射光屏蔽层20用于阻挡由非目标子像素发出的光线在经指纹反射后穿过所述成像小孔91。该反射光屏蔽层20的具体位置可根据实际需要设置，示例性的，设置所述反射光屏蔽层20在所述基底上的正投影，位于所述目标子像素在所述基底上的正投影，与至少一个非目标子像素在所述基底上的正投影之间，并设置所述成像小孔91在所述基底上的正投影，位于所述目标子像素在所述基底上的正投影，与所述反射光屏蔽层20在所述基底上的正投影之间；这种设置方式使得在进行指纹识别时，由目标子像素发出的光线在经指纹反射后，不会被反射光屏蔽层20阻挡，能够直接穿过所述成像小孔91被指纹识别模组接收，保证了高精度的指纹识别功能；同时，由非目标子像素发出的光线在经指纹反射后，则会被反射光屏蔽层20阻挡，无法穿过所述成像小孔91被指纹识别模组接收。

可见，在显示面板中设置上述反射光屏蔽层20，能够保证显示面板在进行指纹识别时，穿过成像小孔91的反射光线仅为目标子像素发出的光线，或者穿过成像小孔91的反射光线大部分为目标子像素发出的光线，从而使得用于指纹识别的反射光线的亮度更符合指纹识别模组的识别能力，进一步提升了指纹识别精度。

在一些实施例中，所述显示面板还包括：

位于所述成像小孔91背向所述基底的一侧的反射光屏蔽层20，所述反射光屏蔽层20在所述基底上的正投影，位于所述目标子像素在所述基底上的正投影，与至少一个非目标子像素在所述基底上的正投影之间；所述目标子像素在所述基底上的正投影，位于所述成像小孔91在所述基底上的正投影，与所述反射光屏蔽层20在所述基底上的正投影之间。

具体地，上述设置方式使得在进行指纹识别时，由目标子像素发出的光线在经指纹反射后，不会被反射光屏蔽层20阻挡，能够直接穿过所述成像小孔91被指纹识别模组接收，保证了高精度的指纹识别功能；同时，由非目标子像素发出的光线在经指纹反射后，则会被反射光屏蔽层20阻挡，无法穿过所述成像小孔91被指纹识别模组接收。

可见，在显示面板中按照上述方式设置所述反射光屏蔽层20和所述成像小孔91，能够保证显示面板在进行指纹识别时，穿过成像小孔91的反射光线仅为目标子像素发出的光线，从而使得用于指纹识别的反射光线的亮度更符合指纹识别模组的识别能力，进一步提升了指纹识别精度。

进一步地，请继续参阅图3和图6，可设置所述反射光屏蔽层20在所述基底上的正投影，位于相邻行的所述像素单元在所述基底上的正投影之间；所述成像小孔91在所述基底上的正投影，位于该相邻行的所述像素单元中包括的所述目标子像素在所述基底上的正投影，与该反射光屏蔽层20在所述基底上的正投影之间。

具体地，上述反射光屏蔽层20的具体设置位置多种多样，在一个具体实施例中，可设置所述反射光屏蔽层20在所述基底上的正投影，位于相邻行的所述像素单元在所述基底上的正投影之间，并设置所述成像小孔91在所述基底上的正投影，位于该相邻行的所述像素单元中包括的所述目标子像素在所述基底上的正投影，与该反射光屏蔽层20在所述基底上的正投影之间，这种设置方式能够更好的保证反射光屏蔽层20对非目标子像素对应的反射光线的遮光功能。

在一些实施例中，所述显示面板还包括沿所述行的延伸方向延伸的信号线，所述信号线位于所述成像小孔91与所述反射光屏蔽层20之间，所述反射光屏蔽层20与所述信号线延伸方向相同，所述反射光屏蔽层20与所述信号线并联。

具体地，所述显示面板中还包括一些信号线，这些信号线用于传输对应的信号，以保证显示面板实现正常显示功能，这些信号线中，有些信号线具有较长的长度，使得其自身电阻较大，这样在利用该信号线传输信号时，产生的损耗较大，为了降低该信号线的损耗，可将反射光屏蔽层20以和信号线相同的延伸方向延伸，并将反射光屏蔽层20与信号线并联在一起，从而使得信号线的电阻降低，有效降低信号传输过程中的能量损耗。另外值得注意，上述将反射光屏蔽层20与信号线并联在一起，除起到降低信号线电阻的作用外，该反射光屏蔽层20还存在复用功能，即反射光屏蔽层20可复用为所述信号线。

进一步地，所述反射光屏蔽层20可与所述信号线同层设置或异层设置，当所述反射光屏蔽层20与所述信号线同层设置时，可直接将反射光屏蔽层20与信号线连接，实现二者并联；当所述反射光屏蔽层20与所述信号线异层设置时，可设置所述反射光屏蔽层20在所述基底上的正投影与所述信号线在所述基底上的正投影之间存在重叠区域，所述反射光屏蔽层20与所述信号线之间通过设置在所述重叠区域的过孔并联。

具体地，所述反射光屏蔽层20与所述信号线之间在通过过孔实现并联时，过孔的具体位置可根据实际需要设置，示例性的，所述显示面板包括显示区域和设置在所述显示区域周边的非显示区域，所述过孔位于所述显示区域或所述非显示区域。

在一些实施例中，所述信号线可包括初始化信号线。

具体地，显示面板中包括多种信号线，例如：电源信号线、数据信号线、初始化信号线等，为了减小信号线的电阻，降低信号传输过程中的能量损耗，可在保证显示面板正常工作性能的前提下，将反射光屏蔽层20与上述任一种信号线并联在一起。

在一些实施例中，所述子像素包括沿靠近所述基底至远离所述基底的方向上依次层叠设置的阳极图形、有机发光单元和阴极层；所述反射光屏蔽层20与所述阳极图形同层同材料设置。

具体地，以采用氧化铟锡(ITO)和银(Ag)形成层叠设置的阳极图形为例，制作所述反射光屏蔽层20与所述阳极图形的步骤具体包括：沿靠近所述基底至远离所述基底的方向上依次沉积形成层叠设置的第一ITO薄膜、Ag薄膜和第二ITO薄膜，然后继续在第二ITO薄膜上形成光刻胶，对光刻胶进行曝光，形成光刻胶保留区域和光刻胶去除区域，其中光刻胶保留区域对应所述反射光屏蔽层20与所述阳极图形所在的区域，光刻胶去除区域对应除所述反射光屏蔽层20与所述阳极图形所在的区域之外的其它区域，然后对曝光后的光刻胶进行显影，将位于光刻胶去除区域的光刻胶去除，以将位于光刻胶去除区域的第二ITO薄膜暴露出来，接着对位于光刻胶去除区域的第一ITO薄膜、Ag薄膜和第二ITO薄膜进行刻蚀，以将位于光刻胶去除区域的第一ITO薄膜、Ag薄膜和第二ITO薄膜均去除，最后将位于光刻胶保留区域的光刻胶剥离，形成所述反射光屏蔽层20和所述阳极图形。值得注意，所述反射光屏蔽层20与所述阳极图形均由层叠设置的第一ITO图形、Ag图形和第二ITO图形形成。

可见，上述将所述反射光屏蔽层20与所述阳极图形同层同材料设置，使得所述反射光屏蔽层20与所述阳极图形能够在同一次构图工艺中同时形成，避免为了制作反射光屏蔽层20而增加额外的构图工艺，很好的节约了显示面板的制作工艺流程。

如图12所示，在一些实施例中，所述显示面板还包括：

与所述初始化信号线延伸方向相同的发光控制信号线，以及与所述初始化信号线延伸方向垂直的电源信号线；

所述子像素驱动电路呈阵列分布，沿所述行的延伸方向，划分为多行子像素驱动电路，沿与所述行的延伸方向垂直的列方向，划分为多列子像素驱动电路，所述初始化信号线和所述发光控制信号线均与所述多行子像素驱动一一对应，位于同一行的子像素驱动电路共用对应的一条发光控制信号线，且共用对应的一条所述初始化信号线；所述电源信号线与所述多列子像素驱动电路一一对应，位于同一列的子像素驱动共用对应的一条电源信号线；

所述成像小孔91在所述基底上的正投影，位于前一行子像素驱动电路对应的发光控制信号线在所述基底上的正投影，与相邻的后一行子像素驱动电路对应的初始化信号线在所述基底上的正投影之间；和/或，

所述成像小孔91在所述基底上的正投影，位于所述目标子像素对应的所述金属图形在所述基底上的正投影，与该所述目标子像素对应的所述电源信号线在所述基底上的正投影之间。

具体地，图12示出的结构中，包括初始化信号线VINT(n)和VINT(n+1)，发光控制信号线EM(n)和EM(n+1)，电源信号线VDD(n)和VDD(n+1)，各子像素对应的金属图形的位置在第五晶体管T5和第七晶体管T7之间的过孔处。

在设置成像小孔91的具体位置时，示例性的，可设置所述成像小孔91在所述基底上的正投影，位于前一行子像素驱动电路对应的发光控制信号线在所述基底上的正投影，与相邻的后一行子像素驱动电路对应的初始化信号线在所述基底上的正投影之间；和/或，设置所述成像小孔91在所述基底上的正投影，位于所述目标子像素对应的所述金属图形在所述基底上的正投影，与该所述目标子像素对应的所述电源信号线在所述基底上的正投影之间。

由于所述发光控制信号线、所述初始化信号线、所述金属图形和所述电源信号线一般采用不透光的金属材料制作，因此，采用上述方式设置所述成像小孔91，能够尽量避免发光控制信号线、所述初始化信号线、所述金属图形和所述电源信号线对成像小孔91产生遮挡，从而保证了成像小孔91对由指纹反射的光线的光通量，使得显示面板具有较高的指纹识别精度。

在一些实施例中，所述成像小孔91在所述基底上的正投影与所述发光控制信号线在所述基底上的正投影之间的最小距离，所述成像小孔91在所述基底上的正投影与所述初始化信号在所述基底上的正投影之间的最小距离，所述成像小孔91在所述基底上的正投影与所述电源信号线在所述基底上的正投影之间的最小距离，以及所述成像小孔91在所述基底上的正投影与所述金属图形在所述基底上的正投影之间的最小距离均大于预设基准值。

具体地，设置上述各距离均大于预设基准值能够更好的保证了成像小孔91对由指纹反射的光线的光通量，有利于进一步提升显示面板的指纹识别精度；示例性的，所述预设基准值为0.5μm，但不仅限于此。

在一些实施例中，所述驱动电路层包括：电源信号线、发光控制信号线、数据信号线、初始化信号线和复位信号线；所述多个子像素驱动电路呈阵列排布，每个所述子像素驱动电路包括：第一晶体管、第二晶体管、第三晶体管、第四晶体管、第五晶体管和第六晶体管；其中，第四晶体管的源极与电源信号线连接，第四晶体管的漏极与第一晶体管的源极连接，第四晶体管的栅极与发光控制信号线连接，第二晶体管的栅极与栅极控制信号线连接，第二晶体管的源极与数据信号线连接，第二晶体管的漏极与第一晶体管的源极连接，第三晶体管的栅极与栅极控制信号线连接，第三晶体管的源极与第一晶体管的漏极连接，第三晶体管的漏极与第一晶体管的栅极连接，第五晶体管的栅极与发光控制信号线连接，第五晶体管的源极与第一晶体管的漏极连接，第五晶体管的漏极与对应的子像素的第一电极连接，第六晶体管的栅极与复位信号线连接，第六晶体管的源极与初始化信号线连接，第六晶体管的漏极与第一晶体管的栅极连接。

所述成像小孔在所述基底上的正投影位于相邻的两行所述子像素驱动电路之间，且所述成像小孔在所述基底上的正投影，与上一行所述子像素驱动电路中最近的所述第五晶体管的沟道在所述基底上的正投影之间的距离，小于所述成像小孔在所述基底上的正投影，与下一行所述子像素驱动电路中最近的第六晶体管的沟道在所述基底上的正投影之间的距离；且小于所述成像小孔在所述基底上的正投影，与下一行所述子像素驱动电路中最近的第三晶体管的沟道在所述基底上的正投影之间的距离。

具体地，如图10和图12所示，可设置成像小孔91与下一行子像素驱动电路中最近的第六晶体管T6的沟道区的距离，以及与下一行子像素驱动电路中最近的第三晶体管T3的沟道区的距离均较远，具体如图12中示出的，成像小孔91与第六晶体管T6的沟道区的距离d1，大于成像小孔91与第五晶体管T5的沟道区的距离d2，这种设置方式能够减小成像小孔91中穿过的光线对第六晶体管T6和第三晶体管T3的工作性能产生的影响，进一步避免了对节点N1产生影响，从而有效提升了子像素驱动电路工作的稳定性。

在一些实施例中，所述成像小孔91的孔径可设置在2μm～20μm之间，进一步地，可将所述成像小孔91的孔径设置在4μm～7μm之间。

具体地，将所述成像小孔91设置在上述范围内，使得成像小孔91在满足指纹识别需求的同时，占用较小的空间，从而更有利于显示面板中各所述导电图形的排布。

在一些实施例中，所述成像小孔91位于所述显示面板的显示区域内的任一局部区域30，如图8所示；或者，所述成像小孔91分布在整个所述显示区域内。

具体地，根据实际应用需要，显示面板10中的指纹识别区域可设置在显示区域中的局部区域30，或者也可以设置整个显示区域均为指纹识别区域，当设置指纹识别区域在显示区域的局部区域30时，可将成像小孔91设置在该局部区域30内，当设置整个显示区域均为指纹识别区域时，可将成像小孔91均匀分布在整个显示区域内。

值得注意，在设置成像小孔91时，可不必每个像素单元对应设置一个成像小孔91，可间隔几个像素单元设置一个成像小孔91。

如图9所示，在一些实施例中，显示面板中包括的多个所述成像小孔91可呈阵列分布。

具体地，上述显示面板中包括的多个成像小孔91可根据实际需要分布，示例性的，可设置多个所述成像小孔91呈阵列分布，且多个所述成像小孔91的横向间距与纵向间距可以相同，也可以不同。

将显示面板中包括的多个所述成像小孔91呈阵列分布，更有利于对指纹进行全方位采集，进一步提升显示面板的指纹识别精度。

本实用新型实施例还提供了一种显示装置，包括上述实施例提供的显示面板。

由于上述实施例提供的显示面板中，通过控制穿过成像小孔91的光线成分，使得用于指纹识别的光线的亮度适中，从而有效提升指纹识别精度，因此，本实用新型实施例提供的显示装置在包括上述实施例提供的显示面板时，同样具有上述有益效果，此处不再赘述。

需要说明的是，所述显示装置可以为：电视、显示器、数码相框、手机、平板电脑等任何具有显示功能的产品或部件。

在制作上述实施例提供的显示面板时，制作方法包括：

在基底40上制作遮光层90，所述遮光层90上设置有多个成像小孔91；

在所述基底40上制作驱动电路层，所述驱动电路层包括多个子像素驱动电路；

在所述驱动电路层背向所述基底40的一侧制作与所述子像素驱动电路一一对应金属图形；

在所述金属图形背向所述基底40的一侧制作多个像素单元，每个所述像素单元均包括至少两个子像素，所述子像素与所述子像素驱动电路一一对应；所述成像小孔91在所述基底40上的正投影，位于目标子像素在所述基底40上的正投影的周边预设范围内，所述目标子像素的发光效率小于阈值；所述子像素包括沿远离所述基底40的方向依次层叠设置的阳极图形、有机发光单元和阴极层，所述阳极图形通过对应的所述金属图形与对应的子像素驱动电路电连接。

具体地，上述显示面板包括的多个像素单元可呈阵列分布在基底上，每个像素单元均可包括多个子像素，子像素的颜色可根据实际需要设置，示例性的，每个像素单元至少包括红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素。像素单元包括的各种不同颜色子像素中，将发光效率小于阈值的子像素定义为目标子像素，将发光效率大于或等于阈值的子像素定义为非目标子像素，该阈值的大小可根据实际需要确定，只需满足由目标子像素发出的光线在穿过成像小孔91用于指纹识别时，该光线的亮度不会超出指纹识别模组的识别能力，且能够提升指纹识别的精度即可。

上述显示面板包括的遮光层90可利用金属材料直接形成在基底的表面，或者形成在子像素驱动电路背向所述基底的一侧，但不仅限于此。在遮光层90上形成成像小孔91时，成像小孔91的位置可根据实际需要设置，示例性的，设置所述成像小孔91在所述基底上的正投影，位于目标子像素在所述基底上的正投影的周边预设范围内，该周边预设范围同样可根据实际需要设定，只需满足穿过成像小孔91的光大部分为目标子像素发出的光，只有少部分由非目标子像素发出的光穿过成像小孔91；或者，满足穿过成像小孔91的光均为目标子像素发出的光，没有非目标子像素发出的光穿过成像小孔91。

采用上述制作方法制作的显示面板中，通过将遮光层90上的成像小孔91设置在发光效率小于阈值的目标子像素的周边，使得在进行指纹识别时，穿过成像小孔91的光线的大部分或全部均由目标子像素发出，而目标子像素的发光效率小于阈值，使得向各子像素输入相同的数据信号时，目标子像素的发光亮度相对于非目标像素的发光亮度较暗，即由目标子像素发出的光线的亮度更适应指纹识别模组的识别能力，使得指纹识别模组在基于由该目标子像素发出的光线进行指纹识别时，指纹识别的精度更高；可见，采用上述制作方法制作的显示面板中，通过控制穿过成像小孔91的光线成分，使得用于指纹识别的光线的亮度适中，从而有效提升指纹识别精度。

在一些实施例中，所述制作方法还包括：在所述成像小孔91背向所述基底的一侧制作反射光屏蔽层20，所述反射光屏蔽层20在所述基底上的正投影，位于所述目标子像素在所述基底上的正投影，与至少一个非目标子像素在所述基底上的正投影之间；所述成像小孔91在所述基底上的正投影，位于所述目标子像素在所述基底上的正投影，与所述反射光屏蔽层20在所述基底上的正投影之间；或者，所述目标子像素在所述基底上的正投影，位于所述成像小孔在所述基底上的正投影，与所述反射光屏蔽层在所述基底上的正投影之间。

具体地，在成像小孔91背向所述基底的一侧可制作反射光屏蔽层20，该反射光屏蔽层20用于阻挡由非目标子像素发出的光线在经指纹反射后穿过所述成像小孔91。该反射光屏蔽层20的具体形成位置可根据实际需要设置，示例性的，设置所述反射光屏蔽层20在所述基底上的正投影，位于所述目标子像素在所述基底上的正投影，与至少一个非目标子像素在所述基底上的正投影之间，并设置所述成像小孔91在所述基底上的正投影，位于所述目标子像素在所述基底上的正投影，与所述反射光屏蔽层20在所述基底上的正投影之间；或者，设置所述目标子像素在所述基底上的正投影，位于所述成像小孔在所述基底上的正投影，与所述反射光屏蔽层在所述基底上的正投影之间；这种设置方式使得在进行指纹识别时，由目标子像素发出的光线在经指纹反射后，不会被反射光屏蔽层20阻挡，能够直接穿过所述成像小孔91被指纹识别模组接收，保证了高精度的指纹识别功能；同时，由非目标子像素发出的光线在经指纹反射后，则会被反射光屏蔽层20阻挡，无法穿过所述成像小孔91被指纹识别模组接收。

可见，在显示面板中制作上述反射光屏蔽层20，能够保证显示面板在进行指纹识别时，穿过成像小孔91的反射光线仅为目标子像素发出的光线，或者穿过成像小孔91的反射光线大部分为目标子像素发出的光线，从而使得用于指纹识别的反射光线的亮度更符合指纹识别模组的识别能力，进一步提升了指纹识别精度。

在一些实施例中，所述子像素包括沿靠近所述基底至远离所述基底的方向上依次层叠设置的阳极图形、有机发光单元和阴极层；所述在所述成像小孔91背向所述基底的一侧制作反射光屏蔽层20的步骤具体包括：

通过一次构图工艺，同时形成所述反射光屏蔽层20与所述阳极图形。

具体地，以采用氧化铟锡(ITO)和银(Ag)形成层叠设置的阳极图形为例，制作所述反射光屏蔽层20与所述阳极图形的步骤具体包括：沿靠近所述基底至远离所述基底的方向上依次沉积形成层叠设置的第一ITO薄膜、Ag薄膜和第二ITO薄膜，然后继续在第二ITO薄膜上形成光刻胶，对光刻胶进行曝光，形成光刻胶保留区域和光刻胶去除区域，其中光刻胶保留区域对应所述反射光屏蔽层20与所述阳极图形所在的区域，光刻胶去除区域对应除所述反射光屏蔽层20与所述阳极图形所在的区域之外的其它区域，然后对曝光后的光刻胶进行显影，将位于光刻胶去除区域的光刻胶去除，以将位于光刻胶去除区域的第二ITO薄膜暴露出来，接着对位于光刻胶去除区域的第一ITO薄膜、Ag薄膜和第二ITO薄膜进行刻蚀，以将位于光刻胶去除区域的第一ITO薄膜、Ag薄膜和第二ITO薄膜均去除，最后将位于光刻胶保留区域的光刻胶剥离，形成所述反射光屏蔽层20和所述阳极图形。值得注意，所述反射光屏蔽层20与所述阳极图形均由层叠设置的第一ITO图形、Ag图形和第二ITO图形形成。

可见，采用上述制作方法制作所述反射光屏蔽层20和所述阳极图形时，使得所述反射光屏蔽层20与所述阳极图形能够在同一次构图工艺中同时形成，避免为了制作反射光屏蔽层20而增加额外的构图工艺，很好的节约了显示面板的制作工艺流程。

需要说明，本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述，各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处。尤其，对于方法实施例而言，由于其基本相似于产品实施例，所以描述得比较简单，相关之处参见产品实施例的部分说明即可。

除非另外定义，本实用新型使用的技术术语或者科学术语应当为本实用新型所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本实用新型中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。

可以理解，当诸如层、膜、区域或基板之类的元件被称作位于另一元件“上”或“下”时，该元件可以“直接”位于另一元件“上”或“下”，或者可以存在中间元件。

在上述实施方式的描述中，具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (18)

1.一种显示面板，其特征在于，包括基底，设置在所述基底上的驱动电路层，以及设置在所述驱动电路层背向所述基底的一侧的多个像素单元；

每个所述像素单元均包括至少两个子像素；

所述驱动电路层包括与所述子像素一一对应的子像素驱动电路；

所述子像素包括沿靠近所述基底至远离所述基底的方向上依次层叠设置的阳极图形、有机发光单元和阴极层；

所述显示面板还包括与所述阳极图形一一对应的金属图形，在垂直于所述基底的方向上，所述金属图形位于对应所述子像素驱动电路与对应的所述阳极图形之间，所述阳极图形通过对应的所述金属图形与对应的子像素驱动电路电连接；

所述显示面板还包括：设置在所述基底上的遮光层，所述遮光层上设置有多个成像小孔，所述成像小孔在所述基底上的正投影，位于目标子像素在所述基底上的正投影的周边预设范围内，所述目标子像素的发光效率小于阈值。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述遮光层与所述金属图形同层同材料设置。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，每个所述像素单元均包括第一颜色子像素、第二颜色子像素和第三颜色子像素；其中，所述第一颜色子像素的发光效率大于所述第二颜色子像素的发光效率，所述第二颜色子像素的发光效率大于所述第三颜色子像素的发光效率；

所述目标子像素包括所述第二颜色子像素和/或所述第三颜色子像素；

所述成像小孔在所述基底上的正投影与所述第一颜色子像素在所述基底上的正投影之间具有第一距离，所述成像小孔在所述基底上的正投影与所述第二颜色子像素在所述基底上的正投影之间具有第二距离，所述成像小孔在所述基底上的正投影与所述第三颜色子像素在所述基底上的正投影之间具有第三距离，所述第二距离小于所述第一距离，和/或，所述第三距离小于所述第一距离。

4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述第一颜色子像素包括绿色子像素，所述第二颜色子像素包括红色子像素，所述第三颜色子像素包括蓝色子像素；

所述多个像素单元呈阵列分布，每个所述像素单元均包括一个红色子像素、一个蓝色子像素和两个绿色子像素。

5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，位于同一行的像素单元中，各像素单元中包括的所述红色子像素和所述蓝色子像素分布在一行，各像素单元中包括的所述绿色子像素分布在另一行；

且在平行于所述行的方向上相邻的所述红色子像素和所述蓝色子像素之间，具有一个所述绿色子像素。

6.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，在位于同一行的像素单元中，各像素单元包括的所述红色子像素、所述蓝色子像素和所述绿色子像素组均分布在一行；每个所述像素单元包括的所述两个绿色子像素组成绿色子像素组，所述绿色子像素组中的所述两个绿色子像素沿垂直于所述行的方向排列。

7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括：

位于所述成像小孔背向所述基底的一侧的反射光屏蔽层，所述反射光屏蔽层在所述基底上的正投影，位于所述目标子像素在所述基底上的正投影，与至少一个非目标子像素在所述基底上的正投影之间；

所述成像小孔在所述基底上的正投影，位于所述目标子像素在所述基底上的正投影，与所述反射光屏蔽层在所述基底上的正投影之间。

8.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括：

位于所述成像小孔背向所述基底的一侧的反射光屏蔽层，所述反射光屏蔽层在所述基底上的正投影，位于所述目标子像素在所述基底上的正投影，与至少一个非目标子像素在所述基底上的正投影之间；

所述目标子像素在所述基底上的正投影，位于所述成像小孔在所述基底上的正投影，与所述反射光屏蔽层在所述基底上的正投影之间。

9.根据权利要求7或8所述的显示面板，其特征在于，所述反射光屏蔽层在所述基底上的正投影，位于相邻行的所述像素单元在所述基底上的正投影之间。

10.根据权利要求9所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括沿所述行的延伸方向延伸的信号线，所述信号线位于所述成像小孔与所述反射光屏蔽层之间，所述反射光屏蔽层与所述信号线延伸方向相同，所述反射光屏蔽层与所述信号线并联。

11.根据权利要求10所述的显示面板，其特征在于，所述反射光屏蔽层在所述基底上的正投影与所述信号线在所述基底上的正投影之间存在重叠区域，所述反射光屏蔽层与所述信号线之间通过设置在所述重叠区域的过孔并联。

12.根据权利要求11所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板包括显示区域和设置在所述显示区域周边的非显示区域，所述过孔位于所述显示区域或所述非显示区域。

13.根据权利要求10所述的显示面板，其特征在于，所述信号线包括初始化信号线。

14.根据权利要求13所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括：

与所述初始化信号线延伸方向相同的发光控制信号线，以及与所述初始化信号线延伸方向垂直的电源信号线；

所述子像素驱动电路呈阵列分布，沿所述行的延伸方向，划分为多行子像素驱动电路，沿与所述行的延伸方向垂直的列方向，划分为多列子像素驱动电路，所述初始化信号线和所述发光控制信号线均与所述多行子像素驱动一一对应，位于同一行的子像素驱动电路共用对应的一条发光控制信号线，且共用对应的一条所述初始化信号线；所述电源信号线与所述多列子像素驱动电路一一对应，位于同一列的子像素驱动共用对应的一条电源信号线；

所述成像小孔在所述基底上的正投影，位于前一行子像素驱动电路对应的发光控制信号线在所述基底上的正投影，与相邻的后一行子像素驱动电路对应的初始化信号线在所述基底上的正投影之间；和/或，

所述成像小孔在所述基底上的正投影，位于所述目标子像素对应的所述金属图形在所述基底上的正投影，与该所述目标子像素对应的所述电源信号线在所述基底上的正投影之间。

15.根据权利要求14所述的显示面板，其特征在于，所述成像小孔在所述基底上的正投影与所述发光控制信号线在所述基底上的正投影之间的最小距离，所述成像小孔在所述基底上的正投影与所述初始化信号在所述基底上的正投影之间的最小距离，所述成像小孔在所述基底上的正投影与所述电源信号线在所述基底上的正投影之间的最小距离，以及所述成像小孔在所述基底上的正投影与所述金属图形在所述基底上的正投影之间的最小距离均大于预设基准值。

16.根据权利要求7或8所述的显示面板，其特征在于，所述反射光屏蔽层与所述阳极图形同层同材料设置。

17.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，多个所述成像小孔呈阵列分布，所述成像小孔位于所述显示面板的显示区域内的任一局部区域；或者，所述成像小孔分布在整个所述显示区域内。

18.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1～17中任一项所述的显示面板。

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