CN210477811U - 一种钼靶保护膜表面处理装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种钼靶保护膜表面处理装置，包括机架，所述机架内部安装有输送轴，所述输送轴外侧包裹有输送带，所述输送带表面均匀设置成放置板，所述放置板上表面可拆卸安装有放置筒；所述机架上表面设置有承载架，所述承载架上表面安装有冲压气缸，所述冲压气缸的输出端连接有升降柱，所述升降柱外侧固定安装有上挡板，所述升降柱底端可拆卸安装有下挡板，所述升降柱外侧滑动安装有冲裁筒，所述下挡板底面设置有弹性伸缩杆，所述弹性伸缩杆的伸缩端可拆卸安装有施压筒。有益效果在于：能够对钼靶表面进行自动覆膜，大大提高了覆膜的效率并提高了可靠性；各部件采用可拆卸安装，根据钼靶尺寸进行拆装更换，满足不同尺寸钼靶的生产需求。

Description

一种钼靶保护膜表面处理装置

技术领域

本实用新型涉及钼靶生产装置技术领域，具体涉及一种钼靶保护膜表面处理装置。

背景技术

钼靶在生产，运输和存放过程中，容易氧化发黑。为了防止表面氧化，在钼靶表面附着一层保护膜，从而实现钼靶的表面处理，通过保护膜防止钼靶表面氧化。但是，目前的钼靶覆膜工序为人工覆膜，效率低，品质稳定性差。

实用新型内容

本实用新型的目的就在于为了解决上述问题而提供一种钼靶保护膜表面处理装置，以解决现有技术中目前的钼靶覆膜工序为人工覆膜，效率低，品质稳定性差等技术问题。本实用新型提供的诸多技术方案中优选的技术方案能够对钼靶表面进行自动覆膜，大大提高了覆膜的效率并提高了可靠性；各部件采用可拆卸安装，便于根据钼靶尺寸进行拆装更换，能够满足不同尺寸钼靶的生产需求等技术效果，详见下文阐述。

为实现上述目的，本实用新型提供了以下技术方案：

本实用新型提供的一种钼靶保护膜表面处理装置，包括机架，所述机架内部对称安装有两根输送轴，所述输送轴外侧包裹有输送带，所述输送带表面均匀设置成放置板，所述放置板上表面可拆卸安装有放置筒，所述放置筒内底部设置有放置槽，用于实现钼靶的定位放置，所述机架外侧安装有输送电机，所述输送电机与任一根所述输送轴相连接；

所述机架上表面设置有承载架和收卷架，所述承载架成“7”字型结构，所述承载架上表面安装有冲压气缸，所述冲压气缸的输出端竖直向下贯穿所述承载架且连接有升降柱，所述升降柱外侧固定安装有上挡板，所述升降柱底端可拆卸安装有下挡板，所述升降柱位于所述上挡板和所述下挡板之间的外侧滑动安装有冲裁筒，所述冲裁筒底端开口且为刀刃，所述升降柱外侧套装有缓冲弹簧，所述缓冲弹簧位于所述上挡板和所述冲裁筒上表面之间；所述下挡板底面设置有弹性伸缩杆，所述弹性伸缩杆的伸缩端竖直向下且可拆卸安装有施压筒；

所述承载架靠近输送带的竖直侧面设置有放膜架，所述放膜架内部转动安装有放膜辊，用于承载保护膜，所述收卷架与所述放膜架相对应，所述收卷架内部转动安装有收卷辊，用于收卷保护膜废料，所述收卷架外侧安装有收卷电机，所述收卷电机输出端与所述收卷辊相连接。

采用上述一种钼靶保护膜表面处理装置，使用装置时，将所述放膜辊外侧的保护膜的端部缠绕在所述收卷辊外侧，使保护膜位于所述放置筒上方，进行覆膜时，将钼靶放置在所述放置筒内底面的所述放置槽内部，所述输送电机通过所述输送轴带动所述输送带移动，实现钼靶的自动输送，所述放置筒移动至所述冲裁筒下方且与所述冲裁筒同轴时，所述冲压气缸带动所述升降柱下降，所述冲裁筒底部的刀刃与保护膜相接触，配合放置筒实现对保护膜的冲裁，所述升降柱继续下降，所述缓冲弹簧收缩，使所述冲裁筒在所述升降筒外侧滑动，同时所述施压筒与保护膜接触，随着所述升降柱的下降，利用所述弹性伸缩杆的弹性下压所述施压筒，通过所述施压筒将保护膜压紧在钼靶表面，所述收卷电机带动所述收卷辊旋转，对冲压剩余的保护膜废料进行收卷，实现自动覆膜，大大提高了覆膜的效率并提高了可靠性；所述放置筒、所述施压筒和所述下挡板均采用可拆卸安装，从而根据不同尺寸的钼靶进行所述放置筒、所述施压筒和所述冲裁筒的拆装更换，以满足不同尺寸的钼靶的覆膜需求，适用范围广。

作为优选，所述放置板上表面、所述施压筒密封端上表面和所述下挡板上表面均设置有螺栓，所述放置筒底面、所述弹性伸缩杆伸缩端的底面和所述升降柱的底面均设置有螺纹孔，用于配合螺栓实现可拆卸安装。

作为优选，所述冲裁筒上表面贯穿设置有滑动孔，所述升降柱从所述滑动孔内部贯穿，所述升降柱与所述滑动孔的截面均为方形，且所述升降柱与所述滑动孔间隙配合。

作为优选，所述弹性伸缩杆包括固定管，所述固定管上端密封且底端开口，所述固定管密封端与所述下挡板相连接，所述固定管开口端安装有限位板，所述限位板表面贯穿设置有导向孔，所述导向孔内部滑动安装有升降杆，所述升降杆底端与所述施压筒可拆卸连接，所述升降杆上端伸入所述固定管内部且连接有升降块，所述升降块和所述固定管的密封端之间连接有压紧弹簧。

作为优选，所述升降杆和所述导向孔的截面均为方形结构，且所述升降杆和所述导向孔间隙配合。

作为优选，所述机架内部设置有撑顶板，所述撑顶板位于所述施压筒正下方，所述撑顶板位于所述输送带构成的环形结构内部，且所述撑顶板与上层所述输送带相接触。

有益效果在于：能够对钼靶表面进行自动覆膜，大大提高了覆膜的效率并提高了可靠性；各部件采用可拆卸安装，便于根据钼靶尺寸进行拆装更换，能够满足不同尺寸钼靶的生产需求。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本实用新型的立体结构示意图；

图2是本实用新型的主视剖视图；

图3是本实用新型的主视剖视局部放大示意图；

图4是本实用新型的弹性伸缩杆结构放大示意图；

图5是本实用新型的放置筒内部结构放大示意图。

附图标记说明如下：

1、机架；2、收卷电机；3、收卷架；4、收卷辊；5、输送电机；6、输送带；7、输送轴；8、承载架；9、冲压气缸；10、放膜辊；11、放膜架；12、放置板；13、放置筒；1301、放置槽；14、撑顶板；15、冲裁筒；1501、滑动孔；16、缓冲弹簧；17、上挡板；18、升降柱；19、下挡板；20、弹性伸缩杆；2001、固定管；2002、压紧弹簧；2003、限位板；2004、升降杆；2005、导向孔；2006、升降块；21、施压筒。

具体实施方式

为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将对本实用新型的技术方案进行详细的描述。显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所得到的所有其它实施方式，都属于本实用新型所保护的范围。

参见图1-图5所示，本实用新型提供了一种钼靶保护膜表面处理装置，包括机架1，机架1内部对称安装有两根输送轴7，输送轴7外侧包裹有输送带6，输送带6表面均匀设置成放置板12，放置板12上表面可拆卸安装有放置筒13，放置筒13内底部设置有放置槽1301，用于实现钼靶的定位放置，机架1外侧安装有输送电机5，输送电机5与任一根输送轴7相连接；

机架1上表面设置有承载架8和收卷架3，承载架8成“7”字型结构，承载架8上表面安装有冲压气缸9，冲压气缸9的输出端竖直向下贯穿承载架8且连接有升降柱18，升降柱18外侧固定安装有上挡板17，升降柱18底端可拆卸安装有下挡板19，升降柱18位于上挡板17和下挡板19之间的外侧滑动安装有冲裁筒15，冲裁筒15底端开口且为刀刃，升降柱18外侧套装有缓冲弹簧16，缓冲弹簧16位于上挡板17和冲裁筒15上表面之间；下挡板19底面设置有弹性伸缩杆20，弹性伸缩杆20的伸缩端竖直向下且可拆卸安装有施压筒21；

承载架8靠近输送带6的竖直侧面设置有放膜架11，放膜架11内部转动安装有放膜辊10，用于承载保护膜，收卷架3与放膜架11相对应，收卷架3内部转动安装有收卷辊4，用于收卷保护膜废料，收卷架3外侧安装有收卷电机2，收卷电机2输出端与收卷辊4相连接。

作为可选的实施方式，放置板12上表面、施压筒21密封端上表面和下挡板19上表面均设置有螺栓，放置筒13底面、弹性伸缩杆20伸缩端的底面和升降柱18的底面均设置有螺纹孔，用于配合螺栓实现可拆卸安装。

冲裁筒15上表面贯穿设置有滑动孔1501，升降柱18从滑动孔1501内部贯穿，升降柱18与滑动孔1501的截面均为方形，且升降柱18与滑动孔1501间隙配合，这样设置能够使冲裁筒15在升降柱18外侧平稳升降，同时能够防止冲裁筒15在升降柱18外侧旋转，保证冲裁筒15对保护膜的冲裁效果。

弹性伸缩杆20包括固定管2001，固定管2001上端密封且底端开口，固定管2001密封端与下挡板19相连接，固定管2001开口端安装有限位板2003，限位板2003表面贯穿设置有导向孔2005，导向孔2005内部滑动安装有升降杆2004，升降杆2004底端与施压筒21可拆卸连接，升降杆2004上端伸入固定管2001内部且连接有升降块2006，升降块2006和固定管2001的密封端之间连接有压紧弹簧2002，这样设置，利用压紧弹簧2002的弹力，使升降块2006带动升降杆2004在固定管2001内部升降，实现弹性伸缩杆20的整体弹性伸缩。

升降杆2004和导向孔2005的截面均为方形结构，且升降杆2004和导向孔2005间隙配合，这样设置能够防止升降杆2004在导向孔2005内部旋转，抱着施压筒21的稳固性，确保施压筒21对保护膜的施压效果，从而保证覆膜效果。

机架1内部设置有撑顶板14，撑顶板14位于施压筒21正下方，撑顶板14位于输送带6构成的环形结构内部，且撑顶板14与上层输送带6相接触，这样设置通过撑顶板14对放置板12进行撑顶，保证对保护膜的冲裁和施压效果。

采用上述结构，使用装置时，将放膜辊10外侧的保护膜的端部缠绕在收卷辊4外侧，使保护膜位于放置筒13上方，进行覆膜时，将钼靶放置在放置筒13内底面的放置槽1301内部，输送电机5通过输送轴7带动输送带6移动，实现钼靶的自动输送，放置筒13移动至冲裁筒15下方且与冲裁筒15同轴时，冲压气缸9带动升降柱18下降，冲裁筒15底部的刀刃与保护膜相接触，配合放置筒13实现对保护膜的冲裁，升降柱18继续下降，缓冲弹簧16收缩，使冲裁筒15在升降筒外侧滑动，同时施压筒21与保护膜接触，随着升降柱18的下降，利用弹性伸缩杆20的弹性下压施压筒21，通过施压筒21将保护膜压紧在钼靶表面，收卷电机2带动收卷辊4旋转，对冲压剩余的保护膜废料进行收卷，实现自动覆膜，大大提高了覆膜的效率并提高了可靠性；放置筒13、施压筒21和下挡板19均采用可拆卸安装，从而根据不同尺寸的钼靶进行放置筒13、施压筒21和冲裁筒15的拆装更换，以满足不同尺寸的钼靶的覆膜需求，适用范围广。

以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (6)

1.一种钼靶保护膜表面处理装置，其特征在于：包括机架(1)，所述机架(1)内部对称安装有两根输送轴(7)，所述输送轴(7)外侧包裹有输送带(6)，所述输送带(6)表面均匀设置成放置板(12)，所述放置板(12)上表面可拆卸安装有放置筒(13)，所述放置筒(13)内底部设置有放置槽(1301)，用于实现钼靶的定位放置，所述机架(1)外侧安装有输送电机(5)，所述输送电机(5)与任一根所述输送轴(7)相连接；

所述机架(1)上表面设置有承载架(8)和收卷架(3)，所述承载架(8)成“7”字型结构，所述承载架(8)上表面安装有冲压气缸(9)，所述冲压气缸(9)的输出端竖直向下贯穿所述承载架(8)且连接有升降柱(18)，所述升降柱(18)外侧固定安装有上挡板(17)，所述升降柱(18)底端可拆卸安装有下挡板(19)，所述升降柱(18)位于所述上挡板(17)和所述下挡板(19)之间的外侧滑动安装有冲裁筒(15)，所述冲裁筒(15)底端开口且为刀刃，所述升降柱(18)外侧套装有缓冲弹簧(16)，所述缓冲弹簧(16)位于所述上挡板(17)和所述冲裁筒(15)上表面之间；所述下挡板(19)底面设置有弹性伸缩杆(20)，所述弹性伸缩杆(20)的伸缩端竖直向下且可拆卸安装有施压筒(21)；

所述承载架(8)靠近输送带(6)的竖直侧面设置有放膜架(11)，所述放膜架(11)内部转动安装有放膜辊(10)，用于承载保护膜，所述收卷架(3)与所述放膜架(11)相对应，所述收卷架(3)内部转动安装有收卷辊(4)，用于收卷保护膜废料，所述收卷架(3)外侧安装有收卷电机(2)，所述收卷电机(2)输出端与所述收卷辊(4)相连接。

2.根据权利要求1所述一种钼靶保护膜表面处理装置，其特征在于：所述放置板(12)上表面、所述施压筒(21)密封端上表面和所述下挡板(19)上表面均设置有螺栓，所述放置筒(13)底面、所述弹性伸缩杆(20)伸缩端的底面和所述升降柱(18)的底面均设置有螺纹孔，用于配合螺栓实现可拆卸安装。

3.根据权利要求1所述一种钼靶保护膜表面处理装置，其特征在于：所述冲裁筒(15)上表面贯穿设置有滑动孔(1501)，所述升降柱(18)从所述滑动孔(1501)内部贯穿，所述升降柱(18)与所述滑动孔(1501)的截面均为方形，且所述升降柱(18)与所述滑动孔(1501)间隙配合。

4.根据权利要求1所述一种钼靶保护膜表面处理装置，其特征在于：所述弹性伸缩杆(20)包括固定管(2001)，所述固定管(2001)上端密封且底端开口，所述固定管(2001)密封端与所述下挡板(19)相连接，所述固定管(2001)开口端安装有限位板(2003)，所述限位板(2003)表面贯穿设置有导向孔(2005)，所述导向孔(2005)内部滑动安装有升降杆(2004)，所述升降杆(2004)底端与所述施压筒(21)可拆卸连接，所述升降杆(2004)上端伸入所述固定管(2001)内部且连接有升降块(2006)，所述升降块(2006)和所述固定管(2001)的密封端之间连接有压紧弹簧(2002)。

5.根据权利要求4所述一种钼靶保护膜表面处理装置，其特征在于：所述升降杆(2004)和所述导向孔(2005)的截面均为方形结构，且所述升降杆(2004)和所述导向孔(2005)间隙配合。

6.根据权利要求1所述一种钼靶保护膜表面处理装置，其特征在于：所述机架(1)内部设置有撑顶板(14)，所述撑顶板(14)位于所述施压筒(21)正下方，所述撑顶板(14)位于所述输送带(6)构成的环形结构内部，且所述撑顶板(14)与上层所述输送带(6)相接触。

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