CN210287503U - 一种磁控溅射银镜 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种磁控溅射银镜，包括玻璃基板，还包括依次叠加设置在所述玻璃基板一表面的附着力层、镜面颜色调试层、第一金属反射层、第二金属反射层、保护层、底漆层和面漆层。本实用新型和现有技术相比，除底漆层与面漆层外，其他所有镀层均采用磁控溅射镀膜，避免了硝酸银化学法制镜造成的重金属污染，而且工艺简单、稳定、膜层均匀性良好。使用化学活性低的金属铬替代部分金属银，既节约了成本，同时对银层有一定的保护作用。增加附着力层和保护层，使整个膜层更牢固。增加镜面颜色调试层，既可提升镜面反射又可做成色镜。本实用新型在保证银镜的反射率大于90％的前提下，银的使用量从65.3nm降低到了27nm；色镜用Ag量小于27nm，反射率均高于80％。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种磁控溅射银镜。
背景技术
银镜反射率高、使用寿命长，因此在日常生活中被广泛应用。银镜主要的生产工艺一般为硝酸银化学还原法，采用的主要原料一般为硝酸银与铜，银与铜都是重金属元素，生产过程及报废时都对环境造成影响，而且生产过程中所产生的工业废水也是极难处理。
此外，银为贵重金属，现有技术中，银镜的厚度需要65nm厚，而每10nm厚的银层，每平方的成本约1元，而制镜生产线每小时一般能够生产300-1000平方米。因此，银的成本比较高。
实用新型内容
本实用新型提供了一种磁控溅射银镜，其克服了背景技术中银镜所存在的不足。
本实用新型解决其技术问题的所采用的技术方案是：
一种磁控溅射银镜，包括玻璃基板，所述的玻璃基板上依次设有附着力层、镜面颜色调试层、第一金属反射层、第二金属反射层、保护层、以及漆层：
所述的玻璃基板的厚度为3-12mm；
所述附着力层是选自Si3N4层、SiOx层、SiOxNx层、TiO2层、ZrO2层、ZnSnO3层中的一种，x的取值范围为0-2，厚度25～60nm；
所述镜面颜色调试层选自Si3N4层、SiOx层、SiOxNx层、TiO2层、ZrO2层、ZnSnO3层中的一种，x的取值范围为0-2，厚度为50～140nm；
所述第一金属反射层为Ag层，厚度为15～30nm；
所述第二金属反射层为Cr层，厚度为39nm～49nm；
所述保护层选自Si3N4层、SiOx层、SiOxNx层、TiO2层、ZrO2层、ZnSnO3层中的一种，，x的取值范围为0-2，厚度为10～20nm；
所述漆层的厚度为不小于50μm。优选地，可以为50-60μm。
优选地，所述漆层包括底漆层和面漆层，底漆层厚度27-30μm，面漆层厚度22-24μm，漆层总厚度50-54μm。
在本实用新型的一较佳实施例中，所述的一种磁控溅射银镜，包括玻璃基板，所述的玻璃基板上依次设有附着力层、镜面颜色调试层、第一金属反射层、第二金属反射层、保护层、以及漆层：
所述的玻璃基板的厚度为4mm；
所述附着力层是TiO2层，厚度53.9nm；
所述镜面颜色调试层为SiO2层，厚度为71.6nm；
所述第一金属反射层为Ag层，厚度为27nm；
所述第二金属反射层为Cr层，厚度为40.6nm；
所述保护层为Si3N4层，厚度为10nm；
所述漆层厚度为54μm。
在本实用新型的另一实施例中，一种磁控溅射银镜，包括玻璃基板，所述的玻璃基板上依次设有附着力层、镜面颜色调试层、第一金属反射层、第二金属反射层、保护层、以及漆层，其中：
所述的玻璃基板的厚度为4mm；
所述附着力层是TiO2层，厚度54.0nm；
所述镜面颜色调试层为SiO2层，厚度为130.2nm；
所述第一金属反射层为Ag层，厚度为25.4nm；
所述第二金属反射层为Cr层，厚度为42.1nm；
所述保护层为Si3N4层，厚度为10nm；
所述漆层厚度为52μm。
在本实用新型的再一实施例中，一种磁控溅射银镜，包括玻璃基板，所述的玻璃基板上依次设有附着力层、镜面颜色调试层、第一金属反射层、第二金属反射层、保护层、以及漆层，其中，
所述的玻璃基板的厚度为4mm；
所述附着力层是TiO2层，厚度28.9nm；
所述镜面颜色调试层为SiO2层，厚度为54.3nm；
所述第一金属反射层为Ag层，厚度为16.9nm；
所述第二金属反射层为Cr层，厚度为48.1nm；
所述保护层为Si3N4层，厚度为10nm；
所述漆层厚度为51μm。
本技术方案与背景技术相比，它具有如下优点：
本实用新型和现有技术相比，除底漆层与面漆层外，其他所有镀层均采用磁控溅射镀膜技术，避免了硝酸银化学法制镜造成的重金属污染，而且工艺简单、稳定、膜层均匀性良好。使用化学活性低的金属铬替代部分金属银，既节约了成本，同时对银层有一定的保护作用。增加附着力层和保护层，使整个膜层更牢固。增加镜面颜色调试层，既可提升镜面反射又可做成色镜。本实用新型在保证银镜的反射率大于90％的前提下，银的使用量从厚度65.3nm降低到了27nm以下，每平方可节省约4元，制镜线一个小时可节省约1200-4000元；色镜用Ag厚度小于等于27nm，反射率均高于80％。
附图说明
下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明。
图1为本实用新型的磁控溅射银镜的结构示意图。
图中：
1-玻璃基板 2-附着力层 3-镜面颜色调试层 4-第一金属反射层 5-第二金属反射层 6-保护层 7-底漆层 8-面漆层
具体实施方式
请查阅图1，一种磁控溅射银镜，它包括一种磁控溅射银镜，包括玻璃基板1，所述的玻璃基板上依次设有附着力层2、镜面颜色调试层3、第一金属反射层4、第二金属反射层5、保护层6、以及漆层，所述的漆层包括底漆层7和面漆层8。
所述的玻璃基板的厚度为3-12mm。作为优选，所述玻璃基板为制镜级浮法玻璃。
所述附着力层2作用为增加膜层与玻璃附着力，选自Si3N4层、SiOx层、SiOxNx层、TiO2层、ZrO2层、ZnSnO3层中的一种，x的取值范围为0-2，厚度25～60nm，采用磁控溅射方式镀制而成；
所述镜面颜色调试层3作用为改变镜面颜色和反射，同时连接附着力层和第一反射层，增强膜层附着力，选自Si3N4层、SiOx层、SiOxNx层、TiO2层、ZrO2层、ZnSnO3层中的一种，x的取值范围为0-2，厚度为50～140nm；采用磁控溅射方式镀制而成；
所述第一金属反射层4作用为功能层，起反射光线的作用，为Ag层，厚度为15～30nm；，采用磁控溅射方式镀制而成；
所述第二金属反射层5作用为功能层，起反射光线的作用，为Cr层，厚度为39nm～49nm；，采用磁控溅射方式镀制而成；
所述保护层6作用为保护膜层，减少Ag层腐蚀，选自Si3N4层、SiOx层、SiOxNx层、TiO2层、ZrO2层、ZnSnO3层中的一种，x的取值范围为0-2，厚度为10～20nm；采用磁控溅射方式镀制而成
所述的底漆层作用为保护功能层Ag层防止氧化和腐蚀，厚度27-30μm；采用幕帘式淋漆设备淋漆而成；
所述面漆层作用为保护功能层Ag层防止氧化和腐蚀，厚度22-24μm；采用幕帘式淋漆设备淋漆而成。
漆层总厚度不小于50μm。
实施例1
在本实用新型的第一实施例中，如图1所示，磁控溅射银镜包括玻璃基板1(厚度为4mm的制镜级浮法原片)，所述玻璃基板1的上表面由下而上依次设有附着力层(TiO2层)2、镜面颜色调试层(SiO2层)3、第一金属反射层(Ag层)4、第二金属反射层(Cr层)5、保护层(Si3N4层)6、底漆层7以及面漆层8。
磁控溅射银镜的制备方法包括如下步骤：
使用20％的氧化铈悬浊液，将玻璃基板通过洗片机，使用去离子水进行深度清洗，然后风干；
玻璃基板进入磁控溅射的镀膜区域，在玻璃基板上镀制镜面反射膜层：
磁控溅射TiO2层，用交流中频电源、氧气作反应气体溅射陶瓷氧化钛靶材，氩氧比为520sccm:25sccm，膜层厚度为53.9nm。
磁控溅射SiO2层，用交流中频电源、氧气作反应气体溅射硅铝靶材(质量比为92：8)，氩氧比为520sccm:230sccm,膜层厚度为71.6nm。
磁控溅射Ag层，直流电源溅射，用氩气作工艺气体，气体流量为500sccm，膜层厚度为27nm。
磁控溅射Cr层，直流电源溅射，用氩气作工艺气体，气体流量为500sccm，膜层厚度为40.6nm。
磁控溅射Si3N4层，用交流中频电源、氮气作反应气体溅射硅铝靶材(质量比为92：8)，氩氮比为420sccm):400sccm,膜层厚度为10nm。
保护层镀制完成后，玻璃离开磁控溅射区域，传输至淋漆段，淋漆段采用幕帘式淋漆设备；
玻璃镜面反射镀层上淋底漆层后烘干，烘干时间大于3分钟，烘干温度为95℃，底漆层厚度30um；
底漆烘干到一定硬度后，再在上面淋面漆层后烘干，烘干时间大于3分钟，烘干温度大于130℃，面漆层厚度为24um。
面漆烘干后稍冷却即可进入清洗机进行清洗和辅助冷却；
完成后进行测试：醋酸铜试验、三氯化铁试验、百格试验、盐水试验、磨边试验，各项测试合格；
采用本实施例制造的磁控溅射银镜，银层厚度从65.3nm减少至27nm，反射率与普通银镜相当，通过颜色测色仪对其LAB值测量：
镜面颜色：L＝96.3,a＝-2.9,b＝2.2；对可见光反射率R＝90.7％；
实施例2
本实施例同实施例1基本相同，所不同的是，各镀层厚度有所不同。
在本实施例中，玻璃基板1厚度为4mm；
有附着力层(TiO2层)2厚度为54.0nm；
镜面颜色调试层(SiO2层)3厚度为130.2nm；
第一金属反射层(Ag层)4厚度为25.4nm；
第二金属反射层(Cr层)5厚度为42.1nm；
保护层(Si3N4层)6厚度为10nm；
底漆层7厚度为30μm；
面漆层8厚度为22μm。
完成后进行测试：醋酸铜试验、三氯化铁试验、百格试验、盐水试验、磨边试验，各项测试合格；
采用本实施例制造的磁控溅射银镜为浅金色色镜，银层厚度从65.3nm减少至25.4nm，反射率远大于普通色镜，通过颜色测色仪对其LAB值测量：
镜面颜色：L＝91.9,a＝1.4,b＝15.4；对可见光反射率R＝80.2％；
实施例3
本实施例同实施例1基本相同，所不同的是，各镀层厚度有所不同。
在本实施例中，玻璃基板1厚度为4mm；
有附着力层(TiO2层)2厚度为28.9nm；
镜面颜色调试层(SiO2层)3厚度为54.3nm；
第一金属反射层(Ag层)4厚度为16.9nm；
第二金属反射层(Cr层)5厚度为48.1nm；
保护层(Si3N4层)6厚度为10nm；
底漆层7厚度为27μm；
面漆层8厚度为24μm。
完成后进行测试：醋酸铜试验、三氯化铁试验、百格试验、盐水试验、磨边试验,各项测试合格；
采用本实施方案制造的磁控溅射银镜为浅灰色色镜，银层厚度从65.3nm减少至16.9nm，反射率远大于普通色镜，通过颜色测色仪对其LAB值测量：
镜面颜色：L＝91.8,a＝-3.1,b＝-3.3；对可见光反射率R＝80.1％；
〔详细实验〕
1.抗中性盐雾性能：(JC/T 871-2000银镜国标)
按照GB/T 1771进行测定。将100mm×100mm样品三块置于盐雾试验箱中，与水平成65度～80度夹角，漆面朝上，每24h反转180度，连续测试240h,取出检验。
在抗中性盐雾试验后样品的反射层允许4个直径d≤0.3mm的变点和2个直径d≤2.5mm的保护涂层变点，边缘涂层损失最大向里延伸不大于3.5mm。
2.光学性能：(JC/T 871-2000银镜国标)
银镜的可见光反射率应不小于85％。
对于有色银镜其可见光反射率应不小于75％。
根据以上实施例，本实用新型具有如下优点
1.将原硝酸银化学法制作功能层改为磁控溅射银层,整个膜层结构全部采用磁控溅射，无污水排放和重金属污染，工艺简单、稳定、易控制；
2.在银层前增加附着力层，增加了膜层附着力，使膜层更牢固；增加镜面调试层，可以得到高反射的色镜，且所增加的附着力层和镜面调试层材料为非金属材料，不仅无吸收，而且还能增加反射，使银镜反射更高；
3.在保证镜面反射和镜面颜色的前提下，使用铬层替代部分银层，银层厚度由65.3nm降低为27nm甚至更低，成本得到极大控制，且银层后镀制的铬层为不活跃金属，可以保护银层降低腐蚀；
以上所述，仅为本实用新型较佳实施例而已，故不能依此限定本实用新型实施的范围，即依本实用新型专利范围及说明书内容所作的等效变化与修饰，皆应仍属本实用新型涵盖的范围内。
Claims (6)
1.一种磁控溅射银镜，包括玻璃基板，其特征在于：所述的玻璃基板上依次设有附着力层、镜面颜色调试层、第一金属反射层、第二金属反射层、保护层、以及漆层：
所述的玻璃基板的厚度为3-12mm；
所述附着力层是选自Si3N4层、SiOx层、SiOxNx层、TiO2层、ZrO2层、ZnSnO3层中的一种，x的取值范围为0-2,厚度25～60nm；
所述镜面颜色调试层选自Si3N4层、SiOx层、SiOxNx层、TiO2层、ZrO2层、ZnSnO3层中的一种，x的取值范围为0-2,厚度为50～140nm；
所述第一金属反射层为Ag层，厚度为15～30nm；
所述第二金属反射层为Cr层，厚度为39～49nm；
所述保护层选自Si3N4层、SiOx层、SiOxNx层、TiO2层、ZrO2层、ZnSnO3层中的一种，x的取值范围为0-2,厚度为10～20nm；
所述漆层的厚度为不小于50μm。
2.根据权利要求1所述的一种磁控溅射银镜，其特征在于：所述漆层的厚度为50-60μm。
3.根据权利要求1所述的一种磁控溅射银镜，其特征在于：所述漆层包括底漆层和面漆层，底漆层厚度27-30μm，面漆层厚度22-24μm,总厚度50-54μm。
4.一种磁控溅射银镜，其特征在于：包括玻璃基板，所述的玻璃基板上依次设有附着力层、镜面颜色调试层、第一金属反射层、第二金属反射层、保护层、以及漆层，其中：
所述的玻璃基板的厚度为4mm；
所述附着力层是TiO2层，厚度53.9nm；
所述镜面颜色调试层为SiO2层，厚度为71.6nm；
所述第一金属反射层为Ag层，厚度为27nm；
所述第二金属反射层为Cr层，厚度为40.6nm；
所述保护层为Si3N4层，厚度为10nm；
所述漆层厚度为54μm。
5.一种磁控溅射银镜，其特征在于：包括玻璃基板，其特征在于：所述的玻璃基板上依次设有附着力层、镜面颜色调试层、第一金属反射层、第二金属反射层、保护层、以及漆层，其中：
所述的玻璃基板的厚度为4mm；
所述附着力层是TiO2层，厚度54.0nm；
所述镜面颜色调试层为SiO2层，厚度为130.2nm；
所述第一金属反射层为Ag层，厚度为25.4nm；
所述第二金属反射层为Cr层，厚度为42.1nm；
所述保护层为Si3N4层，厚度为10nm；
所述漆层厚度为52μm。
6.一种磁控溅射银镜，其特征在于：包括玻璃基板，所述的玻璃基板的厚度为4mm，其特征在于：所述的玻璃基板上依次设有附着力层、镜面颜色调试层、第一金属反射层、第二金属反射层、保护层、以及漆层，其中：
所述的玻璃基板的厚度为4mm；
所述附着力层是TiO2层，厚度28.9nm；
所述镜面颜色调试层为SiO2层，厚度为54.3nm；
所述第一金属反射层为Ag层，厚度为16.9nm；
所述第二金属反射层为Cr层，厚度为48.1nm；
所述保护层为Si3N4层，厚度为10nm；
所述漆层厚度为51μm。
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| CN201921130375.4U CN210287503U (zh) | 2019-07-18 | 2019-07-18 | 一种磁控溅射银镜 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112087897A (zh) * | 2020-09-11 | 2020-12-15 | Oppo广东移动通信有限公司 | 壳体组件及其制备方法和电子设备 |
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2019
- 2019-07-18 CN CN201921130375.4U patent/CN210287503U/zh active Active
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| CN112087897A (zh) * | 2020-09-11 | 2020-12-15 | Oppo广东移动通信有限公司 | 壳体组件及其制备方法和电子设备 |
| CN112087897B (zh) * | 2020-09-11 | 2022-05-31 | Oppo广东移动通信有限公司 | 壳体组件及其制备方法和电子设备 |
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