CN210045233U - 用于反应釜的清洁装置以及包括该清洁装置的反应釜 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种用于反应釜(1)的清洁装置(2)，反应釜内设置有搅拌器(3)，清洁装置包括中空的伸缩杆(21)和清洁头(22)，其中该伸缩杆包括连接到反应釜的顶部(11)的第一端(21a)和延伸进入反应釜内的第二端(21b)，清洁头(22)与伸缩杆的中空部分流体连通并且可旋转地安装到伸缩杆的第二端(21b)，使得清洁头能在反应釜(1)内上下移动，并且伸缩杆的第一端(21a)通过设置在进料口(4)上方的托架(5)可枢转地安装在反应釜的顶部(11)，使得清洁头能在反应釜(1)内可以前后、左右枢转移动。这种清洁装置能方便地清洗大高度的反应釜，并且能够实现360°无死角清洗。

Description

用于反应釜的清洁装置以及包括该清洁装置的反应釜

技术领域

本实用新型涉及反应釜清洁领域，尤其涉及能够高效清洁设有复杂搅拌器且容积较大的反应釜的清洁装置。

背景技术

化工生产中反应釜的清洁是一项关键的技术，直接影响到再次生产的产品的质量。传统技术通常采用碱液浸泡法或者高压水喷淋法对反应釜进行清洁。高压水喷淋法通常将高压水管穿过反应釜的顶部开口或进料口来向反应釜的内壁上喷淋高压水，这种方法的清洁效率低，并且难免会存在死角。碱液浸泡会产生大量的工业废水，且加热也会浪费大量能源。

另外，反应釜一般高度较高，例如20-30米，搅拌器的结构复杂，反应物颗粒容易粘附于其上，难以清洗去除。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种反应釜清洁装置，其能够高效地清洁固定有复杂搅拌器且容积较大的反应釜。

为了实现上述目的，本实用新型提供一种用于反应釜的清洁装置，反应釜的顶部设有进料口并且内部设置有搅拌器，清洁装置包括中空的伸缩杆和清洁头，其中该伸缩杆包括连接到反应釜的顶部的第一端和延伸进入该反应釜内的第二端，所述清洁头与所述伸缩杆的中空部分流体连通并且可旋转地安装到所述伸缩杆的第二端，使得该清洁头能在反应釜内上下移动，其中该伸缩杆经该进料口延伸进入该反应釜内，并且该伸缩杆的第一端通过设置在该进料口上方的托架可枢转地安装在所述反应釜的顶部。通过上述清洁装置，当需要清洗反应釜时，通过操作伸缩杆，可以使清洁头在反应釜内上下移动，能方便地清洗大高度的反应釜。另外，通过伸缩杆的枢转，清洁头可以在反应釜内前后、左右枢转移动，从而获得更大的清洁范围，并且由于清洁头可旋转，因此能够实现360°无死角清洗。

优选地，该清洁头构造成具有关于其旋转轴线旋转对称的至少两个喷嘴，使得该清洁头能够自驱动旋转。

优选地，所述伸缩杆包括多节相互嵌套且能够相对滑动的外筒部和内筒部。通过将伸缩杆设置成多节，可以使清洁头沿竖向到达反应釜内的多个位置。

优选地，清洁头配置成能在三维空间内全方位自由旋转，即可绕任意方向的轴线旋转。

优选地，伸缩杆的第二端可设有超声波传感器，用于在初步清洗后检测反应釜的侧壁和/或搅拌器的叶片上是否附着残余物料。

有利的是，清洁头上还可设有超声清洗机构，在通过清洁头喷水清洗后，如果超声传感器检测到反应釜的侧壁和/或搅拌器的叶片上依然附着有难以去除的残余物料，则可启动超声清洗机构辅助清洗，以更有效地对反应釜进行清洁。

在本实用新型中，清洁装置还包括泵，该泵将来自清洗水源的清洗水加压，用于向清洁头供应高压水，该泵通过输水管流体连接到该伸缩杆的第一端。

在本实用新型中，清洁装置还包括分别连接到伸缩杆、超声波传感器以及超声清洗机构的控制系统。

优选地，所述清洁头的主体可以构造为盘形件，该清洁头的旋转轴线延伸穿过该盘形件的中心，所述主体上设有两个喷嘴，其中所述两个喷嘴沿盘形件的直径相对并配置成出水方向与所述清洁头的主体相切且反向。

本实用新型还提供了一种设置有搅拌器和上述清洁装置的反应釜。

根据本实用新型，当不需要进行清洁作业时，例如在反应釜中的反应正在进行期间，清洁头缩回上升至接近反应釜顶端的位置，从而不会影响反应的进行；当需要进行清洁作业时，清洁头可伸展下降至位于搅拌器附近的多个高度位置，从而能够有效地清洁搅拌器。此外，通过伸缩杆的伸缩以及枢转，清洁头可以移动到反应釜的任意高度上位置，以对反应釜的内壁进行无死角清洁。

附图说明

构成本申请的一部分的附图用来提供对本实用新型的进一步理解，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中：

图1是示出了根据本实用新型一实施例的反应釜清洁装置的示意图；

图2示出了清洁头的一个示例性实施例；

图3示出了清洁头的另一个示例性实施例。

具体实施方式

下面将参照附图并通过实施例来描述根据本实用新型实现的用于反应釜的清洁装置。在下面的描述中，阐述了许多具体细节以便使所属技术领域的技术人员更全面地了解本实用新型。但是，对于所属技术领域内的技术人员明显的是，本实用新型的实现可不具有这些具体细节中的一些。此外，应当理解的是，本实用新型并不限于所介绍的特定实施例。相反，可以考虑用下面的特征和要素的任意组合来实施本实用新型，而无论它们是否涉及不同的实施例。

图1是示出了根据本实用新型一个示例性实施例的反应釜清洁装置的示意图。如图1所示，反应釜1包括顶部11、侧壁12和底部13。在反应釜1的内部设置有搅拌器3。搅拌器3设置在反应釜1的中央，其驱动轴31穿过在顶部11的中央形成的开口连接到诸如电机之类的驱动装置32。在反应釜1的顶部11上形成有进料口4。

用于反应釜的清洁装置2包括清洗水源6、对清洗水进行加压的泵7、用于输送高压水的输送管8、中空的伸缩杆21、以及用于在反应釜1的内部喷洒高压水的清洁头22。清洗水源6经泵7以及输送管8与伸缩杆21的形成流体通道的中空部分流体连通。伸缩杆21包括第一端21a和相对的第二端21b，伸缩杆的第一端21a通过设置在该进料口4上方的托架5可枢转地安装在反应釜1的顶部11，伸缩杆的第二端21b例如经进料口4延伸进入反应釜1内。清洁头22可旋转地安装到伸缩杆21的第二端21b，并且与伸缩杆的中空部分流体连通，从而来自清洗水源6的清洗水在泵7的加压作用下经输送管8、伸缩杆21从清洁头22喷出，对反应釜的侧壁12以及搅拌器3进行清洗作业。

在本实施例中，伸缩杆21包括多节相互嵌套且能够相对滑动的外筒部和内筒部，靠近顶部的一节的外筒部和内筒部中的一者固定到反应釜1的顶部11上，靠近底部的一节的外筒部和内筒部中的一者固定到清洁头22上，由此使得清洁头22能够在反应釜的顶部11和底部13之间上下移动到不同的多个位置。然而应当理解，本实用新型并不局限于此，而是可以采用能够允许清洁头在反应釜的顶部11和底部13之间移动的任何其他结构。例如，代替伸缩杆21，也可以提供与反应釜1的高度接近的不可伸缩式直杆，通过直杆的上下移动来实现清洁头22在反应釜的顶部11和底部13之间移动。有利的是，采用伸缩杆21可以减小清洁装置2在顶部11上方的尺寸。

当清洁头22移动到搅拌器3附近(更确切地说，移动到搅拌器3的叶片3a附近)的状态。在该状态下，清洁头22可以向搅拌器3喷洒高压水，以清除在反应过程中依附在搅拌器3上的残余物料。图1中所示的搅拌器3具有多个叶片3a。对于叶片3a的数目和布置方式没有特别的限制。清洁头22可以穿过各叶片3a之间的角度间隙而上下移动。

图2示出了可旋转的清洁头22的一个示例性实施例。该清洁头22可以绕任意方向的轴线旋转。在该实施例中，清洁头22的主体构造为盘形件22a，该清洁头22的旋转轴线22b延伸穿过该盘形件22a的中心，该清洁头具有关于该旋转轴线旋转对称的两个喷嘴23，其中所述两个喷嘴沿盘形件22a的直径相对，并配置成出水方向d1,d2与所述清洁头的主体相切且反向，使得当高压水从两个喷嘴喷出时，清洁头22能够自驱动旋转，而不需要额外的驱动力。然而，本领域技术人员应当理解，如图3所示，清洁头22也可以设置三个周向均匀间隔开的喷嘴23，或者其它合适数目的喷嘴；另外，清洁头的主体也可以设置成球形，或者其它合适的形状，这些同样涵盖在本申请的范围内。

在本实用新型中，优选地，伸缩杆21的第二端21b可设有超声波传感器(未示出)，用于在初步清洗后检测反应釜1的侧壁12和/或搅拌器3的叶片3a上是否附着残余物料。

优选地，清洁头22还可设置有超声清洗机构，在通过清洁头喷水清洗后，如果超声传感器检测到反应釜的侧壁和/或搅拌器的叶片上依然附着有难以去除的残余物料，则可启动超声清洗机构辅助清洗。

优选地，清洁装置2还包括分别连接到伸缩杆21、超声波传感器以及超声清洗机构的控制系统10。控制系统10用来控制伸缩杆21的缩回和伸展，从而使清洁头22在反应釜内上下移动。控制系统还用来控制伸缩杆21绕托架5的枢转，从而使伸缩杆21在反应釜1内前后、左右枢转运动(也可以说是摆动)，从而更方便地清洗搅拌器3的叶片3a以及反应釜1的侧壁12。

下面简要描述根据本实用新型的反应釜清洁装置的工作过程。在不需要进行清洁作业的情况下，包括在反应釜中的反应正在进行期间以及反应停止期间，清洁头22处于接近反应釜1的顶部2的位置。在该位置，清洁头22远离搅拌器3，从而不会影响反应的进行。当需要进行清洁作业时，来自清洗水源6的清洗水被泵7加压至约1000-1500Kg的压力。加压后的高压水经由输送管8以及中空的伸缩杆供给到清洁头22。在清洁过程中，可借助于伸缩杆21的伸缩和枢转而使清洁头22反应釜内的多个位置之间移动，同时清洁头22可以在三维空间内全方位自由旋转，由此能够清除在反应过程中依附在反应釜1内壁上的不同位置的残余物料。特别是，当清洁头22移动到搅拌器附近的位置时，能够有效地清洁在反应过程中依附在搅拌器3上的残余物料。

虽然本实用新型已以较佳实施例披露如上，但本实用新型并非限定于此。任何本领域技术人员，在不脱离本实用新型的精神和范围内所作的各种更动与修改，均应纳入本实用新型的保护范围内，因此本实用新型的保护范围应当以权利要求所限定的范围为准。

Claims (10)

1.一种用于反应釜的清洁装置，所述反应釜(1)的顶部设有进料口(4)并且内部设有搅拌器(3)，所述清洁装置(2)包括中空的伸缩杆(21)和清洁头(22)，其特征在于，该伸缩杆包括连接到所述反应釜的顶部(11)的第一端(21a)和延伸进入该反应釜(1)内的第二端(21b)，所述清洁头(22)与所述伸缩杆的中空部分流体连通并且可旋转地安装到所述伸缩杆的第二端(21b)，使得该清洁头能在所述反应釜(1)内上下移动，其中该伸缩杆(21)经该进料口(4)延伸进入该反应釜(1)内，并且该伸缩杆的第一端(21a)通过设置在该进料口(4)上方的托架(5)可枢转地安装在所述反应釜的顶部(11)。

2.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，该清洁头(22)构造成具有关于其旋转轴线旋转对称的至少两个喷嘴(23)，使得该清洁头能够自驱动旋转。

3.根据权利要求1或2所述的清洁装置，其特征在于，所述伸缩杆(21)包括多节相互嵌套且能够相对滑动的外筒部和内筒部。

4.根据权利要求1或2所述的清洁装置，其特征在于，所述伸缩杆(21)的第二端(21b)设有超声波传感器。

5.根据权利要求4所述的清洁装置，其特征在于，所述清洁头(22)还设置有超声清洗机构。

6.根据权利要求1或2所述的清洁装置，其特征在于，所述清洁头(22)安装成能够在三维空间内全方位自由旋转。

7.根据权利要求1或2所述的清洁装置，其特征在于，还包括泵(7)，该泵将来自清洗水源(6)的清洗水加压，用于向所述清洁头供应高压水，所述泵通过输水管(8)流体连接到所述伸缩杆(21)的第一端(21a)。

8.根据权利要求5所述的清洁装置，其特征在于，还包括分别连接到所述伸缩杆(21)、超声波传感器以及超声清洗机构的控制系统(10)。

9.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述清洁头(22)的主体构造为盘形件，该清洁头的旋转轴线延伸穿过该盘形件的中心，所述主体上设有两个喷嘴(23)，其中所述两个喷嘴配置成沿该盘形件的直径相对并且出水方向与所述清洁头的主体相切且反向。

10.一种反应釜，其特征在于，设置有搅拌器(3)和根据权利要求1至9中任一项所述的清洁装置(2)。

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