CN211133897U - 一种具有自清洗功能的反应釜 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种具有自清洗功能的反应釜，包括反应釜本体、第一驱动电机、搅拌轴及自清洗机构；第一驱动电机设置于反应釜本体顶部，搅拌轴一端与第一驱动电机的输出轴传动连接，搅拌轴的另一端贯穿反应釜本体上端面延伸至反应釜本体内底部，搅拌轴上设有搅拌桨组；反应釜本体底部对称设置有两个减震支座；反应釜本体侧壁上部设置有进水口，反应釜本体底部设置有出水口；自清洗机构包括喷淋管、第二驱动电机、旋转轴、清洗杆A、清洗杆B，本实用新型可以对反应釜内壁进行充分的清洗，无工作死角，清洗效果高、效率高，无需人工清洗清洗，减小了人工劳动强度，方便反应釜的再次使用。

Description

一种具有自清洗功能的反应釜

技术领域

本实用新型涉及化工设备技术领域，具体涉及一种具有自清洗功能的反应釜。

背景技术

反应釜广泛应用于石油、医药、化工、食品、橡胶等行业，用来完成硫化、硝化、氢化、烃化、聚合、缩合等工艺过程。由于反应物的特性不同，某些反应物会比较粘稠，反应釜的内壁上就会在长时间使用后积累粘稠物料，积垢的反应釜对产品质量的影响很大，因此，该类设备的清洁是很重要的。现有技术中反应釜的清洁主要依靠进行人工清洗，费时费力，效率不高。除此之外，有些物料在反应釜中进行反应的过程中极易粘附在反应釜的内壁上，使物料无法混合均匀，从而严重影响了产品的质量。

实用新型内容

本实用新型的目的是克服上述不足，提供了一种具有自清洗功能的反应釜，可以对反应釜内壁进行充分的清洗，无工作死角，清洗效果高、效率高，无需人工清洗清洗，减小了人工劳动强度，方便反应釜的再次使用。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案，一种具有自清洗功能的反应釜，包括反应釜本体、第一驱动电机、搅拌轴及自清洗机构；所述第一驱动电机设置于所述反应釜本体顶部，所述搅拌轴一端与所述第一驱动电机的输出轴传动连接，所述搅拌轴的另一端贯穿所述反应釜本体上端面延伸至所述反应釜本体内底部，所述搅拌轴上设有搅拌桨组；所述反应釜本体底部对称设置有两个减震支座；所述反应釜本体侧壁上部设置有进水口，所述反应釜本体底部设置有出水口；

所述自清洗机构包括喷淋管、第二驱动电机、旋转轴、清洗杆A、清洗杆B；所述喷淋管水平设置于所述反应釜本体内部上侧，所述喷淋管下端面均匀设置有若干清洗喷头，所述清洗喷头为自旋转喷嘴，所述喷淋管靠近所述进水口一侧的一端与所述进水口连通；所述第二驱动电机固定于所述反应釜本体底部，所述旋转轴一端与所述第二驱动电机的输出轴传动连接，所述旋转轴另一端贯穿所述反应釜本体下端面延伸至所述反应釜本体内底部，所述旋转轴上端面与所述搅拌轴下端面之间的间距为0.15～0.2厘米；所述旋转轴上固定连接有所述清洗杆A，所述清洗杆A远离所述旋转轴的一端通过连接件与所述清洗杆B 固定连接，所述清洗杆B与所述旋转轴的中心轴线相互平行，所述清洗杆A与所述旋转轴中心轴线相互垂直，所述旋转轴的中心轴线与所述反应釜本体的中心轴线相互重合；所述清洗杆A下端面与所述清洗杆B背离所述旋转轴一侧的侧壁上均设置有清洗毛刷；所述清洗杆 B上的清洗毛刷与其相对的反应釜内壁接触，所述清洗杆A上的清洗毛刷与所述反应釜本体内底壁接触。

通过采用上述技术方案，外接水源通过喷淋管进入反应釜内后再通过清洗喷头喷洒于反应釜内腔及内壁上，同时旋转轴带动清洗杆A与清洗杆B转动，通过清洗杆B上的清洗毛刷对粘附在反应釜本体内壁上的物料进行清洗，通过清洗杆A上的清洗毛刷对粘附在反应釜本体内底壁上的物料进行清洗；旋转轴上端面与搅拌轴下端面之间的间距为0.15～0.2 厘米，旋转轴与搅拌轴同时工作时，互不影响，且本实用新型中的反应釜本体底部还设置有减震支座，能够使反应釜中旋转轴与搅拌轴同时工作时的震动幅度变小；自清洗机构中的清洗杆A和清洗杆B还可在反应釜中物料反应过程中与搅拌轴同时工作，用于防止物料粘附在反应釜内壁上，避免了因物料粘附导致物料无法混合均匀而影响产品质量的问题。

上述的一种具有自清洗功能的反应釜，其中，所述搅拌桨组包括第一搅拌叶片和第二搅拌叶片，所述搅拌轴位于所述反应釜本体内腔部分的外周从上至下依次安装有所述第一搅拌叶片、所述第二搅拌叶片，所述第一搅拌叶片的直径大于所述第二搅拌叶片的直径。

通过采用上述技术方案，第一搅拌叶片的直径大于第二搅拌叶片的直径，第二搅拌叶片搅拌时产生漩涡，上层反应物向下层流动，同时第一搅拌叶片搅动，使上层边缘的反应物向中间流动，从而提高反应物的流动性，达到搅拌充分的效果。

上述的一种具有自清洗功能的反应釜，其中，所述清洗杆A与所述清洗杆B均为不锈钢杆。

通过采用上述技术方案，不锈钢杆的抗腐蚀性较强，使用寿命长。

上述的一种具有自清洗功能的反应釜，其中，所述连接件为电动伸缩杆，所述清洗杆 A远离所述旋转轴的一端通过所述电动伸缩杆与所述清洗杆B固定连接；所述反应釜本体内侧壁上开设有与所述清洗杆B匹配的清洗杆B隐藏槽，所述电动伸缩杆用于驱动所述清洗杆 B进出所述清洗杆B隐藏槽。

通过采用上述技术方案，反应釜内的物料反应过程中若不需要清洗杆A和清洗杆B对反应釜内壁进行刮壁处理时，则清洗杆B可隐藏于清洗杆B隐藏槽内，避免清洗杆B上粘附过多反应物料，造成物料浪费及产品质量下降，同时避免清洗杆位于反应釜本体内腔中占据反应釜内腔的空间。

上述的一种具有自清洗功能的反应釜，其中，所述清洗机构还包括PLC可编程控制器，所述PLC可编程控制器设置于所述反应釜本体外侧，所述反应釜本体还设置有清洗开关，所述清洗杆B隐藏槽内设置有到位感应器，所述PLC可编程控制器分别与所述清洗开关、所述到位感应器、所述电动伸缩杆、所述第二驱动电机电连接。

通过采用上述技术方案，清洗机构工作时，通过清洗开关启动同时接入外接水源，电动伸缩杆驱动清洗杆B从清洗杆B隐藏槽内出来，使清洗杆B与反应釜本体内壁接触，然后第二驱动电机驱动旋转轴旋转，旋转轴驱动清洗杆A和清洗杆B旋转，同时外接水源依次通过喷淋管、清洗喷头喷洒于反应釜内腔及内壁上，对反应釜本体内腔进行清洗；清洗完成后，再次通过清洗开关发送关闭信号至PLC可编程控制器，当到位感应器感应至清洗杆B 旋转至清洗杆B隐藏槽时，PLC可编程控制器控制电动伸缩杆驱动清洗杆B进入清洗杆B隐藏槽内。当清洗杆A与清洗杆B仅用于对反应釜内壁进行刮壁处理并不需要对反应釜内腔进行清洗时，操作步骤与上述清洗机构工作步骤相同，唯一不同的是不需要接入外接水源。

上述的一种具有自清洗功能的反应釜，其中，所述反应釜本体外侧壁上安装有超声波发生器。

通过采用上述技术方案，超声波发生器可以对反应釜本体内的液体发射高频率超声波，超声波发生器在反应釜本体内反应物料反应过程中工作，不仅可以避免物料粘附在反应釜侧壁上，而且可以提高反应釜本体内物料的混合均匀度；自清洗机构对反应釜本体内腔进行清洗时，超声波发生器工作，可以提高清洗效率。

上述的一种具有自清洗功能的反应釜，其中，所述进水口处设有压力表。

通过采用上述技术方案，通过压力表可以方便工作人员检查外接水源的压力，便于调整外接水源压力的调整，提高清洗效果。

上述的一种具有自清洗功能的反应釜，其中，所述清洗毛刷为不锈钢毛刷。

通过采用上述技术方案，清洗毛刷可以避免反应釜内反应物料对反应釜本体内壁造成的损坏，避免了人工清洁装置时发生意外的风险，增加了生产的安全性，同时不锈钢毛刷的耐腐蚀性强。

上述的一种具有自清洗功能的反应釜，其中，所述旋转轴与所述搅拌轴的旋转方向相反。

通过采用上述技术方案，清洗过程中，搅拌轴与旋转轴同时工作且旋转方向相反，可以提高工作效率；反应釜内反应物料反应过程中，旋转轴工作驱动清洗杆B和清洗杆A旋转对反应釜内壁进行刮壁处理时，搅拌轴与旋转轴同时工作且旋转方向相反，进一步提高反应物料搅拌混合均匀度的同时加快反应效率。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果在于：

1、本实用新型一种具有自清洗功能的反应釜，可以对反应釜内壁进行充分的清洗，无工作死角，清洗效果高、效率高，无需人工清洗清洗，减小了人工劳动强度，方便反应釜的再次使用。

2、本实用新型一种具有自清洗功能的反应釜中的反应釜本体底部对称设置有两个减震支座，通过减震支座对反应釜本体进行减震处理，保证反应釜平稳运行。

3、本实用新型一种具有自清洗功能的反应釜清洗机构中清洗杆A和清洗杆B不仅用于对反应釜本体内壁的清洗，还可以用于在反应物料反应过程中对反应釜本体内壁进行刮壁处理，不仅避免反应过程中反应物料粘附在反应釜侧壁上，而且可以提高反应釜本体内物料的混合均匀度，进而提高了产品质量。

4、本实用新型一种具有自清洗功能的反应釜清洗机构中的第一搅拌叶片的直径大于第二搅拌叶片的直径，第二搅拌叶片搅拌时产生漩涡，上层反应物向下层流动，同时第一搅拌叶片搅动，使上层边缘的反应物向中间流动，从而提高反应物的流动性，达到搅拌充分的效果。

5、本实用新型一种具有自清洗功能的反应釜还包括超声波发生器，超声波发生器可以对反应釜本体内的液体发射高频率超声波，超声波发生器在反应釜本体内反应物料反应过程中工作，不仅可以避免物料粘附在反应釜侧壁上，而且可以提高反应釜本体内物料的混合均匀度；自清洗机构对反应釜本体内腔进行清洗时，超声波发生器工作，可以提高清洗效率。

附图说明

图1为本实用新型一种具有自清洗功能的反应釜的外观结构示意图。

图2为本实用新型一种具有自清洗功能的反应釜中清洗杆B位于清洗杆隐藏槽外时反应釜本体的结构示意图。

图3为本实用新型一种具有自清洗功能的反应釜中清洗杆B位于清洗杆隐藏槽内时反应釜本体的结构示意图。

图4为本实用新型一种具有自清洗功能的反应釜中清洗杆A与旋转轴的连接机构示意图。

图5为本实用新型一种具有自清洗功能的反应釜中自清洗机构的控制原理图。

各标记与部件名称对应关系如下：

反应釜本体1、进水口101、出水口102、第一驱动电机2、搅拌轴3、减震支座4、喷淋管5、第二驱动电机6、旋转轴7、清洗杆A8、清洗杆B9、清洗毛刷10、电动伸缩杆 11、清洗杆B隐藏槽12、PLC可编程控制器13、清洗开关14、到位感应器15、超声波发生器16、压力表17、第一搅拌叶片18、第二搅拌叶片19、加强筋20、清洗喷头21。

具体实施方式

为了使实用新型实现的技术手段、创造特征、达成目的和功效易于明白了解，下结合具体图示，进一步阐述本实用新型。

实施例

如图1及图2所示，一种具有自清洗功能的反应釜，包括反应釜本体1、第一驱动电机2、搅拌轴3及自清洗机构；第一驱动电机2设置于反应釜本体1顶部，搅拌轴3一端与第一驱动电机2的输出轴传动连接，搅拌轴3的另一端贯穿反应釜本体1上端面延伸至反应釜本体1内底部，搅拌轴3上设有搅拌桨组；反应釜本体1底部对称设置有两个减震支座4；反应釜本体1侧壁上部设置有进水口101，反应釜本体1底部设置有出水口102。

其中，进水口101处设有压力表17，通过压力表17可以方便工作人员检查外接水源的压力，便于调整外接水源压力的调整，提高清洗效果。

其中，搅拌桨组包括第一搅拌叶片18和第二搅拌叶片19，搅拌轴3位于反应釜本体1内腔部分的外周从上至下依次安装有第一搅拌叶片18、第二搅拌叶片19，第一搅拌叶片18的直径大于第二搅拌叶片19的直径。第一搅拌叶片18的直径大于第二搅拌叶片19 的直径，第二搅拌叶片19搅拌时产生漩涡，上层反应物向下层流动，同时第一搅拌叶片 18搅动，使上层边缘的反应物向中间流动，从而提高反应物的流动性，达到搅拌充分的效果。

自清洗机构包括喷淋管5、第二驱动电机6、旋转轴7、清洗杆A8、清洗杆B9；喷淋管5水平设置于反应釜本体1内部上侧，喷淋管5下端面均匀设置有若干清洗喷头21，清洗喷头21为自旋转喷嘴，喷淋管5靠近进水口101一侧的一端与进水口101连通；第二驱动电机6固定于反应釜本体1底部，旋转轴7一端与第二驱动电机6的输出轴传动连接，旋转轴7另一端贯穿反应釜本体1下端面延伸至反应釜本体1内底部，旋转轴7上端面与搅拌轴3下端面之间的间距为0.15～0.2厘米；旋转轴7上固定连接有清洗杆A8，清洗杆A8远离旋转轴7的一端通过连接件与清洗杆B9固定连接，清洗杆B9与旋转轴7 的中心轴线相互平行，清洗杆A8与旋转轴7中心轴线相互垂直，旋转轴7的中心轴线与反应釜本体1的中心轴线相互重合；清洗杆A8下端面与清洗杆B9背离旋转轴7一侧的侧壁上均设置有清洗毛刷10；清洗杆B9上的清洗毛刷10与其相对的反应釜内壁接触，清洗杆A8上的清洗毛刷10与反应釜本体1内底壁接触。

清洗杆B9下端面上也设置有清洗毛刷10，与清洗杆A8下端面的清洗毛刷10配合保证反应釜本体1内壁的清洗效果。

外接水源通过喷淋管5进入反应釜内后再通过清洗喷头21喷洒于反应釜内腔及内壁上，同时旋转轴7带动清洗杆A8与清洗杆B9转动，通过清洗杆B9上的清洗毛刷10对粘附在反应釜本体1内壁上的物料进行清洗，通过清洗杆A8上的清洗毛刷10对粘附在反应釜本体1内底壁上的物料进行清洗；旋转轴7上端面与搅拌轴3下端面之间的间距为 0.15～0.2厘米，旋转轴7与搅拌轴3同时工作时，互不影响，且本实用新型中的反应釜本体1底部还设置有减震支座4，能够使反应釜中旋转轴7与搅拌轴3同时工作时的震动幅度变小；自清洗机构中的清洗杆A8和清洗杆B9还可在反应釜中物料反应过程中与搅拌轴3同时工作，用于防止物料粘附在反应釜内壁上，避免了因物料粘附导致物料无法混合均匀而影响产品质量的问题。

其中，清洗毛刷10为不锈钢毛刷。清洗毛刷10可以避免反应釜内反应物料对反应釜本体1内壁造成的损坏，避免了人工清洁装置时发生意外的风险，增加了生产的安全性，同时不锈钢毛刷的耐腐蚀性强。

其中，清洗杆A8与清洗杆B9均为不锈钢杆。不锈钢杆的抗腐蚀性较强，使用寿命长。

如图4所示，本实施例中清洗杆A8两侧还分别与旋转轴7之间连接有加强筋20，通过加强筋20增加连接杆A与旋转轴7之间的连接稳固性。

如图2及图3所示，本实施例中的连接件为电动伸缩杆11，清洗杆A8远离旋转轴7的一端通过电动伸缩杆11与清洗杆B9固定连接；反应釜本体1内侧壁上开设有与清洗杆 B9匹配的清洗杆B隐藏槽12，电动伸缩杆11用于驱动清洗杆B9进出清洗杆B隐藏槽12。

本实施例中的清洗杆B9的上端面与反应釜本体1的内侧壁的最高点齐平。

电动伸缩杆11驱动清洗杆B9进入清洗杆B隐藏槽12后，清洗杆B9上设有密封圈，避免反应物料反应过程中物料进入清洗杆B隐藏槽内。

本实施例中的电动伸缩杆11采用的是中国专利公开的一种名称为：一种大推力直线电动推杆，申请号为：201610063870.2。

反应釜内的物料反应过程中若不需要清洗杆A8和清洗杆B9对反应釜内壁进行刮壁处理时，则清洗杆B9可隐藏于清洗杆B隐藏槽12内，避免清洗杆B9上粘附过多反应物料，造成物料浪费及产品质量下降，同时避免清洗杆位于反应釜本体1内腔中占据反应釜内腔的空间。

如图5所示，清洗机构还包括PLC可编程控制器13，PLC可编程控制器13设置于反应釜本体1外侧，反应釜本体1还设置有清洗开关14，清洗杆B隐藏槽12内设置有到位感应器15，PLC可编程控制器13分别与清洗开关14、到位感应器15、电动伸缩杆11、第二驱动电机6电连接。

进一步的，反应釜本体1外侧壁上安装有超声波发生器16。超声波发生器16可以对反应釜本体1内的液体发射高频率超声波，超声波发生器16在反应釜本体1内反应物料反应过程中工作，不仅可以避免物料粘附在反应釜侧壁上，而且可以提高反应釜本体1 内物料的混合均匀度；自清洗机构对反应釜本体1内腔进行清洗时，超声波发生器16工作，可以提高清洗效率。

本实施例中反应釜本体侧壁上对称设置有两个超声波发生器16，反应釜本体1底部还设置有一个超声波发生器16。

本实施例中的反应釜使用完毕后可以通过自清洗机构对反应釜内腔进行清洗，自清洗机构工作时，通过清洗开关14启动同时接入外接水源，电动伸缩杆11驱动清洗杆B9从清洗杆B隐藏槽12内出来，使清洗杆B9与反应釜本体1内壁接触，然后第二驱动电机6 驱动旋转轴7旋转，旋转轴7驱动清洗杆A8和清洗杆B9旋转，同时外接水源依次通过喷淋管5、清洗喷头21喷洒于反应釜内腔及内壁上，对反应釜本体1内腔进行清洗；清洗完成后，再次通过清洗开关14发送关闭信号至PLC可编程控制器13，当到位感应器15 感应至清洗杆B9旋转至清洗杆B隐藏槽12时，PLC可编程控制器13控制电动伸缩杆11 驱动清洗杆B9进入清洗杆B隐藏槽12内。当清洗杆A8与清洗杆B9仅用于对反应釜内壁进行刮壁处理并不需要对反应釜内腔进行清洗时，操作步骤与上述清洗机构工作步骤相同，唯一不同的是不需要接入外接水源。

优选的，本实施例中旋转轴7与搅拌轴3的旋转方向相反。清洗过程中，搅拌轴3 与旋转轴7同时工作且旋转方向相反，可以提高工作效率；反应釜内反应物料反应过程中，旋转轴7工作驱动清洗杆B9和清洗杆A8旋转对反应釜内壁进行刮壁处理时，搅拌轴3 与旋转轴7同时工作且旋转方向相反，进一步提高反应物料搅拌混合均匀度的同时加快反应效率。

综上所述，本实用新型一种具有自清洗功能的反应釜，可以对反应釜内壁进行充分的清洗，无工作死角，清洗效果高、效率高，无需人工清洗清洗，减小了人工劳动强度，方便反应釜的再次使用。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (9)

1.一种具有自清洗功能的反应釜，其特征在于，包括反应釜本体、第一驱动电机、搅拌轴及自清洗机构；所述第一驱动电机设置于所述反应釜本体顶部，所述搅拌轴一端与所述第一驱动电机的输出轴传动连接，所述搅拌轴的另一端贯穿所述反应釜本体上端面延伸至所述反应釜本体内底部，所述搅拌轴上设有搅拌桨组；所述反应釜本体底部对称设置有两个减震支座；所述反应釜本体侧壁上部设置有进水口，所述反应釜本体底部设置有出水口；

所述自清洗机构包括喷淋管、第二驱动电机、旋转轴、清洗杆A、清洗杆B；所述喷淋管水平设置于所述反应釜本体内部上侧，所述喷淋管下端面均匀设置有若干清洗喷头，所述清洗喷头为自旋转喷嘴，所述喷淋管靠近所述进水口一侧的一端与所述进水口连通；所述第二驱动电机固定于所述反应釜本体底部，所述旋转轴一端与所述第二驱动电机的输出轴传动连接，所述旋转轴另一端贯穿所述反应釜本体下端面延伸至所述反应釜本体内底部，所述旋转轴上端面与所述搅拌轴下端面之间的间距为0.15～0.2厘米；所述旋转轴上固定连接有所述清洗杆A，所述清洗杆A远离所述旋转轴的一端通过连接件与所述清洗杆B固定连接，所述清洗杆B与所述旋转轴的中心轴线相互平行，所述清洗杆A与所述旋转轴中心轴线相互垂直，所述旋转轴的中心轴线与所述反应釜本体的中心轴线相互重合；所述清洗杆A下端面与所述清洗杆B背离所述旋转轴一侧的侧壁上均设置有清洗毛刷；所述清洗杆B上的清洗毛刷与其相对的反应釜内侧壁接触，所述清洗杆A上的清洗毛刷与所述反应釜本体内底壁接触。

2.如权利要求1所述的一种具有自清洗功能的反应釜，其特征在于，所述搅拌桨组包括第一搅拌叶片和第二搅拌叶片，所述搅拌轴位于所述反应釜本体内腔部分的外周从上至下依次安装有所述第一搅拌叶片、所述第二搅拌叶片，所述第一搅拌叶片的直径大于所述第二搅拌叶片的直径。

3.如权利要求1所述的一种具有自清洗功能的反应釜，其特征在于，所述清洗杆A与所述清洗杆B均为不锈钢杆。

4.如权利要求1所述的一种具有自清洗功能的反应釜，其特征在于，所述连接件为电动伸缩杆，所述清洗杆A远离所述旋转轴的一端通过所述电动伸缩杆与所述清洗杆B固定连接；所述反应釜本体内侧壁上开设有与所述清洗杆B匹配的清洗杆B隐藏槽，所述电动伸缩杆用于驱动所述清洗杆B进出所述清洗杆B隐藏槽。

5.如权利要求4所述的一种具有自清洗功能的反应釜，其特征在于，所述清洗机构还包括PLC可编程控制器，所述PLC可编程控制器设置于所述反应釜本体外侧，所述反应釜本体还设置有清洗开关，所述清洗杆B隐藏槽内设置有到位感应器，所述PLC可编程控制器分别与所述清洗开关、所述到位感应器、所述电动伸缩杆、所述第二驱动电机电连接。

6.如权利要求1所述的一种具有自清洗功能的反应釜，其特征在于，所述反应釜本体外侧壁上安装有超声波发生器。

7.如权利要求1所述的一种具有自清洗功能的反应釜，其特征在于，所述进水口处设有压力表。

8.如权利要求1所述的一种具有自清洗功能的反应釜，其特征在于，所述清洗毛刷为不锈钢毛刷。

9.如权利要求1所述的一种具有自清洗功能的反应釜，其特征在于，所述旋转轴与所述搅拌轴的旋转方向相反。

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