CN209955463U - 一种量子点膜用封装膜 - Google Patents
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Abstract
一种量子点膜用封装膜，所述封装膜包括柔性透明基材、匀光层和阻隔层，所述柔性透明基材的一侧为匀光层，另一侧为阻隔层；所述阻隔层分为两层，由上到下依次为第一阻隔层和第二阻隔层；在柔性透明基材和阻隔层之间涂覆有密合层。本实用新型具有如下有益效果：1、结构简单，便于加工，可通过常规涂布方式实现，便于规模化生产；2、阻隔性能和光学性能优异，当构成组件后，可实现量子点显示屏高亮度、宽色域、长寿命的性能；可显著改善阻隔层与量子点胶层之间的粘接性。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种薄膜，特别是显示领域使用的封装膜。
背景技术
随着显示技术的不断发展和进步，显示器能够最大范围的呈现自然的色彩并给观众带来更为真实震撼的视觉体验就变得非常重要。量子点背光中RGB三原色的半峰宽度窄、色纯度高、可实现NTSC 110％的色域，因而，近年来量子点显示技术得到快速发展。然而，量子点材料虽然性能优异，但由于量子点材料比表面积远大于体材料，具有极高的活性，易与空气中的水汽和氧气发生反应而造成性能显著衰退。因此，量子点材料必须使用高阻隔薄膜材料进行封装才能满足其应用需求；另外，对于显示设备来说，还要达到严格的光学性能指标，如透光率、色调等。
中国专利CN105793644A提出集扩散膜和阻隔膜为一体的量子点膜用封装膜，其扩散膜和阻隔膜具备各自的基材，两者通过粘接剂进行复合，其中阻隔膜为蒸镀层和复合被膜层交替层叠2层以上的结构，整体阻隔性能和光学性能达到使用要求，但扩散层和阻隔层部分结构复杂，工艺窗口窄，不易实现生产加工，制造成本较高。有的产品结构解决了高透光问题，但阻隔性能较差；也有的产品结构达到了阻湿性和阻氧性，但却未涉及光学性能的控制。
综上，现有量子点膜用封装膜存在产品结构复杂，加工难度大以及阻隔层与量子点胶层匹配性差等问题。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是针对上述现有技术存在的缺陷提供一种量子点膜用封装膜，该结构阻隔性优异、透光率高、黄度值低，且与量子点胶层之间粘接性优良。
为解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案为：
一种量子点膜用封装膜，所述封装膜包括柔性透明基材、匀光层和阻隔层，所述柔性透明基材的一侧为匀光层，另一侧为阻隔层；所述阻隔层分为两层，由上到下依次为第一阻隔层和第二阻隔层；在柔性透明基材和阻隔层之间涂覆有密合层。
上述量子点膜用封装膜，所述第一阻隔层的厚度范围为100-300nm，最优的厚度范围为150-250nm。该厚度范围内，阻隔层的透光率最佳，不低于90％，黄度值1左右；该阻隔层致密性好、柔韧性好，以保证较高的阻隔性以及优异的可挠性。
上述量子点膜用封装膜，所述第二阻隔层的厚度范围为0.1-2μm，最优的厚度范围为0.5-1.5μm。第二阻隔层的添加能够改善阻隔膜的阻隔性能和光学性能，同时可以增强阻隔层与量子点胶层之间的粘接性。
上述量子点膜用封装膜，所述密合层的厚度范围为0.1-5μm，最优的厚度范围为0.5-2μm。密合层的功能一是平坦基材表面，以避免基材造成的阻隔性劣化；二是改善基材表面的耐热性，使其在后续加工过程中与阻隔层具备相匹配的热收缩率。
上述量子点膜用封装膜，所述匀光层的表面为凹凸形状，匀光层的厚度范围为1-50μm，最优的厚度范围为5-15μm。匀光层的结构可以增强对背光源的匀光效果，降低450nm、540nm、620nm所有波长下封装膜对背光源的反射，并保证其较高的透光率和一定的雾度值。
与现有技术相比，本实用新型具有如下有益效果：
1、结构简单，便于加工，可通过常规涂布方式实现，便于规模化生产。
2、阻隔性能和光学性能优异，当构成组件后，可实现量子点显示屏高亮度、宽色域、长寿命的性能。
3、可显著改善阻隔层与量子点胶层之间的粘接性。
下面结合附图对本实用新型作进一步描述：
附图说明
图1为本实用新型结构示意图；
图2为本实用新型与量子点胶层组装后的结构示意图；
图3为本实用新型与量子点胶层组装后的结构示意图。
图中各标号分别表示为：1、基材层；11、透明基材；12、密合层；2、阻隔层；21、第一阻隔层；22、第二阻隔层；3、匀光层；4、量子点胶层。
具体实施方式
本实用新型中的量子点膜用封装膜，其在柔性透明基材的一侧设置匀光层，另一侧设置阻隔层，其中，柔性透明基材之上涂覆有密合层，进而是第一阻隔层和第二阻隔层。
适用于本实用新型的柔性透明基材要求较高的透光率、一定的机械性能和耐热性能。因此，本实用新型中的柔性透明基材可选用聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚碳酸酯(PC)、聚酰亚胺(PI)中的任意一种，优选PET。柔性透明基材的厚度范围为12-250μm，若基材过薄，机械强度以及耐热性较差，不利于阻隔层的制备；若基材过厚，透光率太低。
所述密合层设置在柔性透明基材的一侧。设置该密合层的目的一是平坦基材表面，以避免基材造成的阻隔性劣化；二是改善基材表面的耐热性，使其在后续加工过程中与阻隔层具备相匹配的热收缩率。密合层可选自聚丙烯酸酯、聚碳酸酯、聚氨酯中的任意一种，其厚度范围为0.1-5μm，最优的厚度范围为0.5-2μm。
所述第一阻隔层设置在密合层之上，该阻隔层要求透光率高、黄度值低，同时要确保较高的阻隔性和良好的柔韧性。适用于本实用新型的阻隔层可选自氧化硅、氧化铝、氮化硅、碳氧化硅、氮氧化硅中的任意一种。其厚度范围为100-300nm，最优的厚度范围为150-250nm。
所述第二阻隔层设置在第一阻隔层之上，该阻隔层的主要作用是实现量子点膜用封装膜与量子点胶之间的粘接性，同时，对阻隔性能和光学性能不造成劣化。适用于本实用新型的阻隔层可选自聚丙烯酸酯、聚碳酸酯、聚氨酯中的任意一种。其涂覆厚度范围为0.1-2μm，最优的厚度范围为0.5-1.5μm。
本实用新型中的匀光层设置于基材的另一侧，其目的是降低450nm、540nm、620nm所有波长下封装膜对背光源的反射，并保证其较高的透光率和一定的雾度值。所用匀光层的涂覆厚度范围为1-50μm，优选5-15μm。
上述用于量子点膜的封装膜，为提高各层之间的附着力，如密合层与透明基材、第一阻隔层与密合层、第二阻隔层与第一阻隔层，可采用氧等离子体电晕处理、辉光放电处理或臭氧处理等预处理方式。
以下结合实施例对本实用新型提供的用于量子点膜的封装膜进行详细说明，但本实用新型的实施方式并不限于此。
本实用新型实施例中薄膜材料阻隔性使用水蒸气透过率进行表征，水蒸气透过率测试按照国标GB/T21529-2008《塑料薄膜和薄片水蒸气透过率的测定电解传感器法》，使用MOCONAQUATRAN2设备进行测定。
实施例1
密合层的制备：
选用100μm厚的PET基材，涂布1μm厚的聚丙烯酸酯密合层。
第一阻隔层的制备：
在上述基材的密合层一侧利用辉光放电进行预处理，然后利用等离子体增强化学气相沉积的方法进行镀制厚度为200nm的碳氧化硅阻隔层。其所得样片的阻隔性为10mg/m2·day，透光率为91％，黄度值为1.2。
第二阻隔层的制备：
在上述阻隔层的表面涂布第二阻隔层，涂布液为改性的聚丙烯酸酯，其厚度为1μm。所得样片的阻隔性为1mg/m2·day，透光率为93％，黄度值为0.95。
匀光层的制备：
在上述基材的另一侧涂布匀光层，其厚度为12μm。所得样片的阻隔性为1.2mg/m2·day，透光率为90％，黄度值为1.0，雾度值为30％。
将上述制备的封装膜用于量子点膜的组装中，其组装结构为封装膜(匀光层//基材//密合层//第一阻隔层//第二阻隔层)//量子点胶层//封装膜(第二阻隔层//第一阻隔层//密合层//基材//匀光层)，如图2，或者封装膜(匀光层//基材//密合层//第一阻隔层//第二阻隔层)//量子点胶层//封装膜(第二阻隔层//第一阻隔层//密合层//基材)，如图3。
实施例2
密合层的制备：
选用125μm厚的PEN基材，在其一侧涂布厚度为1.5μm的聚丙烯酸酯密合层。
第一阻隔层的制备：
在上述基材的密合层一侧利用电子束物理气相沉积法制作厚度为180nm的氧化硅阻隔层。所得样片的阻隔性为50mg/m2·day，透光率为95％，黄度值为0.8。
第二阻隔层的制备：
在上述第一阻隔层的表面利用氧等离子体进行预处理，然后涂布厚度为1.5μm的第二阻隔层，其涂布液为聚丙烯酸酯。所得样片的阻隔性为8mg/m2·day，透光率为96％，黄度值为0.6。
匀光层的制备：
在上述基材的另一侧制作厚度为10μm的匀光层。所得样片的阻隔性为8mg/m2·day，透光率为93％，黄度值为0.9，雾度值为40％。
将上述制备的封装膜用于组装量子点膜，其组装结构同实施例1。
实施例3
密合层的制备：
选用75μm厚的PC基材，在其一侧涂布厚度为2μm的聚氨酯密合层。
第一阻隔层的制备：
在上述基材的密合层一侧采用离子溅射法制作150nm厚的氮氧化硅阻隔层。所得样片的阻隔性为30mg/m2·day，透光率为93％，黄度值为0.8。
第二阻隔层的制备：
将上述第一阻隔层的表面利用氧等离子体电晕处理，然后涂布第二阻隔层，其涂布液为聚碳酸酯，其厚度为1.5μm。所得样片的阻隔性为6mg/m2·day，透光率为92％，黄度值为0.9。
匀光层的制备：
在上述基材的另一侧涂布厚度为8μm的匀光层。所得样片的阻隔性为5.5mg/m2·day，透光率为90％，黄度值为1.0，雾度值为35％。
将上述制备的封装膜用于组装量子点膜，其组装结构同实施例1。
实施例4
密合层的制备：
选用50μm厚的透明PI基材，在其一侧涂布厚度为2μm的聚碳酸酯密合层。
第一阻隔层的制备：
在上述基材的密合层一侧利用臭氧进行预处理，然后利用磁控溅射法制作100nm厚的氧化铝阻隔层。所得样片的阻隔性为10mg/m2·day，透光率为93％，黄度值为0.7。
第二阻隔层的制备：
在上述第一阻隔层的表面涂布第二阻隔层，其涂布液为聚丙烯酸酯，其厚度为2μm。所得样片的阻隔性为1mg/m2·day，透光率为94％，黄度值为0.6。
匀光层的制备：
在上述基材的另一侧涂布厚度为12μm的匀光层。所得样片的阻隔性为1.5mg/m2·day，透光率为91％，黄度值为0.8，雾度值为30％。
将上述制备的封装膜用于组装量子点膜，其组装结构同实施例1。
Claims (6)
1.一种量子点膜用封装膜，其特征在于：所述封装膜包括柔性透明基材(11)、匀光层(3)和阻隔层(2)，所述柔性透明基材(11)的一侧为匀光层(3)，另一侧为阻隔层(2)；所述阻隔层(2)分为两层，由上到下依次为第一阻隔层(21)和第二阻隔层(22)；在柔性透明基材(11)和阻隔层(2)之间涂覆有密合层(12)。
2.根据权利要求1所述的量子点膜用封装膜，其特征在于：所述第一阻隔层(21)的厚度为100-300nm。
3.根据权利要求1所述的量子点膜用封装膜，其特征在于：所述第二阻隔层(22)的厚度为0.1-2μm。
4.根据权利要求1所述的量子点膜用封装膜，其特征在于：所述密合层(12)的厚度范围为0.1-5μm。
5.根据权利要求1所述的量子点膜用封装膜，其特征在于：所述匀光层(3)的厚度为1-50μm。
6.一种量子点膜，其特征在于：在量子点胶层表面设有如权利1-5中任一项所述的量子点膜用封装膜。
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|---|---|---|---|---|
| CN112251157A (zh) * | 2020-09-11 | 2021-01-22 | 衡阳华灏新材料科技有限公司 | 一种cof封装用保持膜基材 |
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