CN209850656U - 一种新型研磨垫及研磨装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种新型研磨垫及研磨装置，包括研磨垫、研磨液供应机构、研磨头和研磨整理机构，所述研磨垫的中部设置有中心孔，且研磨垫的外侧设置有切口，所述研磨垫的上侧表面均匀分布有导流槽，所述研磨垫的下方设置有工作平台，且工作平台的下方设置有驱动电机，所述研磨整理机构的侧下方设置有废料回收槽，所述工作平台的中部上方设置有顶盖板，且工作平台的外侧上方设置有侧盖板，所述侧盖板的内侧均匀分布有通槽。该新型研磨垫及研磨装置，通过带有中心孔和切口的研磨垫可以便于固定在工作平台的圆台斜面外侧，略微倾斜的研磨面配合弧形放射状导流槽使用，可以便于研磨液的扩散和废料废液的快速脱离，提高装置的研磨效果。
Description
技术领域
本实用新型涉及化学机械研磨相关技术领域，具体为一种新型研磨垫及研磨装置。
背景技术
化学机械研磨也被称为为化学机械抛光，其原理是化学腐蚀作用和机械去除作用相结合的加工技术，在半导体加工的晶圆制造中具有广泛运用，现有的化学机械研磨装置通常通过研磨头带动晶片贴紧研磨垫的上平面侧沿配合研磨液供应机构进行研磨，同时设有位于平面外侧的整理机构进行一定的清理，但是由于研磨垫的上表面和所在平面较为平整，使得研磨液不便于快速分布均匀，同时研磨垫侧沿的整理机构清理效果不佳，且运行过程中研磨垫的中部为空闲状态。
针对上述问题，在原有研磨装置的基础上进行创新设计。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种新型研磨垫及研磨装置，以解决上述背景技术中提出化学机械研磨装置研磨液不便于快速分布均匀，废料废液的清理效果不佳的问题。
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种新型研磨垫及研磨装置，包括研磨垫、研磨液供应机构、研磨头和研磨整理机构，所述研磨垫的中部设置有中心孔，且研磨垫的外侧设置有切口，所述研磨液供应机构位于研磨垫中部的侧上方，且研磨垫的上侧表面均匀分布有导流槽，所述研磨垫的下方设置有工作平台，且工作平台的下方设置有驱动电机，所述研磨头位于研磨垫的侧上方，且研磨垫和研磨头之间设置有晶片本体，所述研磨整理机构位于工作平台的外侧上方，且研磨整理机构的侧下方设置有废料回收槽，所述工作平台的中部上方设置有顶盖板，且工作平台的外侧上方设置有侧盖板，所述侧盖板的侧面连接有紧固螺栓，且侧盖板的内侧均匀分布有通槽。
优选的，所述切口的切边位于研磨垫的半径线上，且研磨垫整体为环形结构，并且研磨垫和工作平台的上表面相互贴合。
优选的，所述导流槽均匀分布在研磨垫的上表面，且导流槽整体为弧形结构，并且导流槽在研磨垫的外侧呈放射状分布。
优选的，所述工作平台的上端为圆台形结构，且工作平台的上表面和中心孔相互吻合，并且工作平台的侧表面和研磨垫的下表面相互吻合。
优选的，所述废料回收槽均匀分布在工作平台的外侧下端，且废料回收槽的上方均匀分布有通槽。
优选的，所述顶盖板和侧盖板均与工作平台之间通过紧固螺栓相互连接，且顶盖板位于中心孔的外侧，并且侧盖板位于研磨垫的下端外侧，同时顶盖板和侧盖板均为环形结构。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：该新型研磨垫及研磨装置；
1、设置有中心孔、切口和导流槽，在装置的使用过程中带有中心孔和切口的研磨垫可以便于固定在工作平台的圆台斜面外侧，环带状的研磨垫对研磨面的利用率更高，同时略微倾斜的研磨面配合弧形的放射状导流槽使用，可以便于研磨液的均匀分布和废料废液的快速脱离，提高装置的研磨效果；
2、设置有废料回收槽和通槽，在装置的使用过程中侧盖板配合紧固螺栓使用，可以便于对研磨垫在工作平台上进行连接紧固，同时侧盖板内侧的通槽可以便于从工作平台斜面边沿落下的废料废液快速通过，配合废料回收槽进行回收，提高装置的实用性。
附图说明
图1为本实用新型俯视结构示意图；
图2为本实用新型正面剖视结构示意图；
图3为本实用新型图2中a处放大结构示意图；
图4为本实用新型研磨垫展开后俯视结构示意图。
图中：1、研磨垫；2、中心孔；3、切口；4、研磨液供应机构；5、导流槽；6、工作平台；7、驱动电机；8、研磨头；9、晶片本体；10、研磨整理机构；11、废料回收槽；12、顶盖板；13、侧盖板；14、紧固螺栓；15、通槽。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1-4，本实用新型提供一种技术方案：一种新型研磨垫及研磨装置，包括研磨垫1、中心孔2、切口3、研磨液供应机构4、导流槽5、工作平台6、驱动电机7、研磨头8、晶片本体9、研磨整理机构10、废料回收槽11、顶盖板12、侧盖板13、紧固螺栓14和通槽15，研磨垫1的中部设置有中心孔2，且研磨垫1的外侧设置有切口3，研磨液供应机构4位于研磨垫1中部的侧上方，且研磨垫1的上侧表面均匀分布有导流槽5，研磨垫1的下方设置有工作平台6，且工作平台6的下方设置有驱动电机7，研磨头8位于研磨垫1的侧上方，且研磨垫1和研磨头8之间设置有晶片本体9，研磨整理机构10位于工作平台6的外侧上方，且研磨整理机构10的侧下方设置有废料回收槽11，工作平台6的中部上方设置有顶盖板12，且工作平台6的外侧上方设置有侧盖板13，侧盖板13的侧面连接有紧固螺栓14，且侧盖板13的内侧均匀分布有通槽15。
本例的切口3的切边位于研磨垫1的半径线上，且研磨垫1整体为环形结构，并且研磨垫1和工作平台6的上表面相互贴合，便于便于研磨垫1和工作平台6的配合活动。
导流槽5均匀分布在研磨垫1的上表面，且导流槽5整体为弧形结构，并且导流槽5在研磨垫1的外侧呈放射状分布，便于研磨液通过导流槽5快速的均匀分布，提高研磨效果。
工作平台6的上端为圆台形结构，且工作平台6的上表面和中心孔2相互吻合，并且工作平台6的侧表面和研磨垫1的下表面相互吻合，使得研磨垫1可以在工作平台6的圆台倾斜面外侧进行配合使用。
废料回收槽11均匀分布在工作平台6的外侧下端，且废料回收槽11的上方均匀分布有通槽15，便于研磨垫1和工作平台6上的碎屑废液从侧下方落下回收。
顶盖板12和侧盖板13均与工作平台6之间通过紧固螺栓14相互连接，且顶盖板12位于中心孔2的外侧，并且侧盖板13位于研磨垫1的下端外侧，同时顶盖板12和侧盖板13均为环形结构，便于对研磨垫1和工作平台6之间进行连接紧固。
工作原理：在使用该新型研磨垫及研磨装置时，根据图1-4所示，首先将装置的电源和电网相互连接，将适配的研磨垫1放置在工作平台6的圆台斜面外侧对齐，切口3两侧的切边贴合整齐，中心孔2的侧沿和顶盖板12对齐，之后使用紧固螺栓14对工作平台6和顶盖板12进行固定，同时对研磨垫1进行紧固连接，研磨垫1的下沿侧通过侧盖板13和紧固螺栓14进行连接，且侧盖板13的内侧留有通槽15，之后将工作平台6和现有的研磨液供应机构4、研磨头8和研磨整理机构10进行安装组合即可开始进行使用；
在装置的使用过程中，研磨头8可以带动晶片本体9平行贴紧研磨垫1的侧表面，同时驱动电机7可以带动工作平台6和研磨垫1整体进行转动，且研磨液供应机构4对研磨垫1的打磨面喷出研磨液，研磨液可以在研磨垫1的导流槽5中快速均匀散布，配合研磨垫1对晶片本体9进行化学机械研磨，同时研磨时产生的废料和废液会在研磨整理机构10的辅助下，快速从工作平台6的倾斜侧沿通过通槽15后落入废料回收槽11中，避免对装置研磨面的影响，提高装置整体的研磨效果，本说明书中未作详细描述的内容属于本领域专业技术人员公知的现有技术。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (6)
1.一种新型研磨垫及研磨装置，包括研磨垫(1)、研磨液供应机构(4)、研磨头(8)和研磨整理机构(10)，其特征在于：所述研磨垫(1)的中部设置有中心孔(2)，且研磨垫(1)的外侧设置有切口(3)，所述研磨液供应机构(4)位于研磨垫(1)中部的侧上方，且研磨垫(1)的上侧表面均匀分布有导流槽(5)，所述研磨垫(1)的下方设置有工作平台(6)，且工作平台(6)的下方设置有驱动电机(7)，所述研磨头(8)位于研磨垫(1)的侧上方，且研磨垫(1)和研磨头(8)之间设置有晶片本体(9)，所述研磨整理机构(10)位于工作平台(6)的外侧上方，且研磨整理机构(10)的侧下方设置有废料回收槽(11)，所述工作平台(6)的中部上方设置有顶盖板(12)，且工作平台(6)的外侧上方设置有侧盖板(13)，所述侧盖板(13)的侧面连接有紧固螺栓(14)，且侧盖板(13)的内侧均匀分布有通槽(15)。
2.根据权利要求1所述的一种新型研磨垫及研磨装置，其特征在于：所述切口(3)的切边位于研磨垫(1)的半径线上，且研磨垫(1)整体为环形结构，并且研磨垫(1)和工作平台(6)的上表面相互贴合。
3.根据权利要求1所述的一种新型研磨垫及研磨装置，其特征在于：所述导流槽(5)均匀分布在研磨垫(1)的上表面，且导流槽(5)整体为弧形结构，并且导流槽(5)在研磨垫(1)的外侧呈放射状分布。
4.根据权利要求1所述的一种新型研磨垫及研磨装置，其特征在于：所述工作平台(6)的上端为圆台形结构，且工作平台(6)的上表面和中心孔(2)相互吻合，并且工作平台(6)的侧表面和研磨垫(1)的下表面相互吻合。
5.根据权利要求1所述的一种新型研磨垫及研磨装置，其特征在于：所述废料回收槽(11)均匀分布在工作平台(6)的外侧下端，且废料回收槽(11)的上方均匀分布有通槽(15)。
6.根据权利要求1所述的一种新型研磨垫及研磨装置，其特征在于：所述顶盖板(12)和侧盖板(13)均与工作平台(6)之间通过紧固螺栓(14)相互连接，且顶盖板(12)位于中心孔(2)的外侧，并且侧盖板(13)位于研磨垫(1)的下端外侧，同时顶盖板(12)和侧盖板(13)均为环形结构。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| CN201920375107.2U CN209850656U (zh) | 2019-03-24 | 2019-03-24 | 一种新型研磨垫及研磨装置 |
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| CN201920375107.2U CN209850656U (zh) | 2019-03-24 | 2019-03-24 | 一种新型研磨垫及研磨装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
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| CN209850656U true CN209850656U (zh) | 2019-12-27 |
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| CN201920375107.2U Active CN209850656U (zh) | 2019-03-24 | 2019-03-24 | 一种新型研磨垫及研磨装置 |
Country Status (1)
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|---|---|
| CN (1) | CN209850656U (zh) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111805412A (zh) * | 2020-07-17 | 2020-10-23 | 中国科学院微电子研究所 | 一种抛光液施配器及抛光装置 |
| CN114473846A (zh) * | 2020-11-11 | 2022-05-13 | 中国科学院微电子研究所 | 晶片研磨装置 |
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2019
- 2019-03-24 CN CN201920375107.2U patent/CN209850656U/zh active Active
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