CN209162185U - 镀膜设备 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种镀膜设备，属于镀膜技术领域。所述镀膜设备包括：控制单元、镀膜腔体、对应一个镀膜腔体的至少两个卷绕装置，其中：至少两个卷绕装置分别完成基底的卷绕；控制单元控制至少两个卷绕装置交替进入一个镀膜腔体，以对基底进行镀膜。本申请解决了镀膜腔体在大气环境中的暴露时间长，且镀膜腔体进行抽真空所需的时间较长的问题，减少了镀膜腔体进行抽真空所需的时长，提高了镀膜的效率，本申请用于镀膜设备。

Description

镀膜设备

技术领域

本实用新型涉及镀膜技术领域，特别涉及一种镀膜设备。

背景技术

镀膜工艺通常需要可控的和相对稳定的环境，而真空环境具有可控性和稳定性的特点，因此，镀膜设备在镀膜工艺中得到了广泛的应用。

镀膜设备包括一个卷绕装置和一个镀膜腔体。示例的，在对多个基材中的一个基材进行镀膜时，工作人员需要先将该基材安装在卷绕装置上，然后将承载有该基材的卷绕装置放入镀膜腔体内，并控制镀膜腔体进行抽真空以及在抽真空后对该基材进行镀膜。在对该基材镀膜完毕后，工作人员需要将承载有该基材的卷绕装置移出该镀膜腔体，并将镀膜后的基材从卷绕装置上取下。然后，便可重复上述步骤，以对其他基材进行镀膜。需要说明的是，在将承载有一个基材的卷绕装置移出镀膜腔体前，通常打开镀膜腔体，且在将下一个基材安装在卷绕装置上，并将承载有该下一个基材的卷绕装置放入镀膜腔体的过程中，该镀膜腔体持续处于打开状态；在承载有该下一个基材的卷绕装置进入镀膜腔体后，才会将镀膜腔体关闭。

由于基材在卷绕装置上的安装时间通常较长，若在安装基材前镀膜腔体已经打开，则会导致镀膜腔体在大气环境中的暴露时间较长，进而使得在该基材进入镀膜腔体后，镀膜腔体进行抽真空所需的时间较长，影响镀膜的效率和产品质量。

实用新型内容

本申请提供了一种镀膜设备，可以解决镀膜腔体进行抽真空所需的时间较长的问题，所述技术方案如下：

一方面，提供了一种镀膜设备，所述镀膜设备包括：控制单元、镀膜腔体、对应一个镀膜腔体的至少两个卷绕装置，其中：

所述至少两个卷绕装置分别完成基底的卷绕；

所述控制单元控制所述至少两个卷绕装置交替进入所述一个镀膜腔体，以对所述基底进行镀膜。

可选的，所述控制单元，用于控制所述至少两个卷绕装置顺次执行以下步骤：所述至少两个卷绕装置中的一个完成一个基底的卷绕后，所述控制单元控制所述至少两个卷绕装置中的一个进入所述镀膜腔体，以对所述一个基底进行镀膜；

对所述一个基底镀膜完毕后，所述控制单元控制所述至少两个卷绕装置中的一个移出所述镀膜腔体；

控制完成另一个基底卷绕的所述至少两个卷绕装置中的另一个进入所述镀膜腔体，以对所述另一个基底进行镀膜；

对所述另一个基底镀膜完毕后，所述控制单元控制所述至少两个卷绕装置中的另一个移出所述镀膜腔体。

可选的，所述镀膜设备还包括输送装置，所述输送装置上设置有卷绕位置和装卸位置，所述控制单元控制所述至少两个卷绕装置在所述装卸位置和所述卷绕位置之间移动，所述卷绕装置在所述卷绕位置完成所述基底的卷绕，所述卷绕装置在所述装卸位置进入所述镀膜腔体和从所述镀膜腔体中移出。

可选的，所述输送装置包括：至少一个导轨，所述至少两个卷绕装置可移动地设置于所述至少一个导轨上。

可选的，所述导轨的数量为一个，所述导轨位于所述镀膜腔体的一侧，所述至少两个卷绕装置顺次排列于所述导轨上，所述导轨上设置有一个所述装卸位置和两个所述卷绕位置，所述两个卷绕位置分别设置于所述装卸位置的两侧。

可选的，所述导轨的数量为一个，所述导轨呈开口环状，所述至少两个卷绕装置顺次排列于所述导轨上，所述导轨的两端部分别设置有所述装卸位置，所述导轨的任意位置处设置有所述卷绕位置。

可选的，所述导轨的数量为多个，每一个所述导轨上可移动地设置有所述至少两个卷绕装置中的一个，每一个所述导轨上设置有一个所述装卸位置和一个所述卷绕位置。

可选的，所述控制单元还用于控制所述至少两个卷绕装置卷绕所述基底。

本申请提供的技术方案带来的有益效果至少包括：

本实用新型实施例提供的镀膜设备中，控制单元能够控制至少两个卷绕装置交替进入一个镀膜腔体，以对基底进行镀膜。因此，控制单元控制一个卷绕装置进入镀膜腔体后，另一个卷绕装置可以预先完成基底的卷绕。控制单元在控制该一个卷绕装置移出镀膜腔体后，可以立即将另一个卷绕装置送入镀膜腔体。这样一来，就能够大大地减少镀膜腔体处于打开状态的时长，减少镀膜腔体在大气环境中的暴露时长，进而减少镀膜腔体进行抽真空所需的时长，提高了镀膜的效率和产品品质。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本实用新型实施例提供的第一种镀膜设备的结构示意图；

图2是本实用新型实施例提供的第二种镀膜设备的结构示意图；

图3是本实用新型实施例提供的第三种镀膜设备的结构示意图；

图4是本实用新型实施例提供的第四种镀膜设备的结构示意图；

图5是本实用新型实施例提供的第五种镀膜设备的结构示意图；

图6是本实用新型实施例提供的一种卷绕装置的结构示意图；

图7是本实用新型实施例提供的一种镀膜方法的流程图；

图8是本实用新型实施例提供的另一种镀膜方法的流程图。

具体实施方式

为使本申请的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本申请实施方式作进一步地详细描述。

薄膜由于具有使用材料少、重量轻和易于表面加工等诸多特点，而得到了广泛的应用。通常采用镀膜设备对基材镀膜，以在基材上形成薄膜。

图1为本实用新型实施例提供的第一种镀膜设备的结构示意图，如图1所示，该镀膜设备0可以包括：控制单元03、镀膜腔体01、对应一个镀膜腔体的至少两个卷绕装置(如卷绕装置021和卷绕装置022)。

需要说明的是，图1中以镀膜设备0包括两个卷绕装置为例，可选的，该镀膜设备0中卷绕装置的个数还可以为其他数值，如3、4或5等，本实用新型实施例对此不作限定。

至少两个卷绕装置分别完成基底(图1中未标出)的卷绕；控制单元03控制至少两个卷绕装置交替进入一个镀膜腔体01，以对基底进行镀膜。

综上所述，由于本实用新型实施例提供的镀膜设备包括镀膜腔体、至少两个卷绕装置以及控制单元，且控制单元能够控制至少两个卷绕装置交替进入镀膜腔体，以对卷绕装置上的基底进行镀膜。因此，在控制单元控制一个卷绕装置进入镀膜腔体后，另一个卷绕装置可以预先完成基底的卷绕。控制单元在控制该一个卷绕装置移出镀膜腔体后，可以立即控制另一个卷绕装置进入镀膜腔体。这样一来，就能够大大的减少镀膜腔体处于打开状态的时长，减少镀膜腔体在大气环境中的暴露时长，进而减少镀膜腔体进行抽真空所需的时长，提高了镀膜的效率和产品品质。

需要说明的是，该镀膜设备0可以包括至少一个镀膜腔体01，图1中仅以该镀膜设备0包括一个镀膜腔体01为例，可选的，该镀膜设备0还可以包括多个镀膜腔体01，即镀膜设备中包括多个镀膜腔体，对应一个镀膜腔体的至少两个卷绕装置，由控制单元统一控制的情况，本实用新型实施例对此不作限定。

在本实用新型实施例中，至少两个卷绕装置中的一个(如卷绕装置021)完成一个基底的卷绕后，控制单元03控制这个卷绕装置进入镀膜腔体01，以对该一个基底进行镀膜；对该一个基底镀膜完毕后，控制单元03控制该至少两个卷绕装置中的一个(如卷绕装置021)移出该镀膜腔体01。控制单元03控制完成另一个基底卷绕的至少两个卷绕装置中的另一个(如卷绕装置022)进入镀膜腔体01，以对该另一个基底进行镀膜；在对另一个基底镀膜完毕后，控制单元03可以控制至少两个卷绕装置中的另一个(如卷绕装置022)移出镀膜腔体01。

可选的，该镀膜腔体01可以包括：腔室011和门体012，且门体012能够沿靠近腔室011的方向X3移动，或者门体012能够沿远离腔室011的方向X2移动。可选的，镀膜腔体01还可以包括：伸缩结构013，伸缩结构013连接腔室011和门体012，控制单元03用于通过控制伸缩结构013伸缩，以带动门体012移动。示例的，当伸缩结构013拉伸时，门体012在伸缩结构013的作用下远离腔室011移动；当伸缩结构013收缩时，门体012在伸缩结构013的作用下靠近腔室011移动。

进一步的，腔室011可以包括：腔室本体0111、蒸镀结构0112和抽气结构0113。其中，蒸镀结构0112设置在腔室本体0111内，用于对进入腔室本体0111内的基底进行蒸镀，且蒸镀的方式可以为化学气相沉积方式或物理气相沉积方式等方式，本实用新型实施例对此不作限定。抽气结构0113可以位于腔室本体0111外，且与腔室本体0111连通，用于对腔室本体0111进行抽真空。控制单元03可以用于控制抽气结构0113对腔室本体0111进行抽真空，以及控制蒸镀结构0112对基底进行蒸镀。

可选的，镀膜设备还可以包括：输送装置(图1中未标出)，该输送装置上可以设置有卷绕位置和装卸位置，卷绕装置在卷绕位置完成基底的卷绕，卷绕装置在装卸位置进入镀膜腔体01和从镀膜腔体01中移出。控制单元03可以控制至少两个卷绕装置在装卸位置和卷绕位置之间移动。

可选的，该输送装置可以包括：至少一个导轨04，至少两个卷绕装置可移动地设置于至少一个导轨04上。示例的，每个卷绕装置的底部可以设置有滑轮，且该卷绕装置可以通过该滑轮在导轨上移动。卷绕位置和装卸位置均可以位于导轨04上。

在控制至少两个卷绕装置交替进入镀膜腔体01前，控制单元03还可以用于控制门体012沿远离腔室011的方向X2移动，以使门体012和腔室011分离。该输送装置还可以包括：升降装置(图1中未示出)，当卷绕装置到达装卸位置后，控制单元03还可以通过升降装置将该卷绕装置从装卸位置移动至门体012和腔室011之间，以将卷绕装置卡接在门体012内。之后，控制单元03还可以控制门体012携带卷绕装置沿靠近腔室011的方向X3移动，以将卷绕装置送入腔室011内。此时，腔室011与门体012扣合，镀膜腔体01处于封闭状态，控制单元03可以控制镀膜腔体01对卷绕装置上的基底进行镀膜。

在对卷绕装置上的基底镀膜完毕后，控制单元03可以控制卷绕装置移出该镀膜腔体01。其中，在控制卷绕装置移出镀膜腔体01时，控制单元03可以控制门体012带动卷绕装置沿远离腔室011的方向X2移动，并结合升降装置将卷绕装置移至装卸位置，然后可以控制卷绕装置从装卸位置移动至卷绕位置，以在卸载镀膜的基底后重新卷绕新的基底。

需要说明的是，镀膜设备中的至少一个导轨可以具有多种实现方式，以下将对导轨04的几种实现方式进行举例说明。

导轨的第一种实现方式可以如图1所示，导轨04的数量可以为一个，同时导轨04位于镀膜腔体01的一侧。本实用新型实施例以导轨04位于与镀膜腔体01中的抽气结构0113所在侧为例进行说明，可选的，导轨04还可以位于与镀膜腔体01中的其他侧(如抽气结构0113所在侧的对侧)，本实用新型实施例对此不做限定。可选的，导轨04的延伸方向可以平行于门体012移动的方向X2或方向X3，镀膜设备0中的所有卷绕装置均可以顺次排列于导轨04上。

示例的，该至少两个卷绕装置可以为卷绕装置021和卷绕装置022，导轨上可以设置有一个装卸位置和两个卷绕位置，且这两个卷绕位置分别设置在装卸位置的两侧，两个卷绕装置可以分别在这两个卷绕位置卷绕基底。

当一个卷绕装置021在一个卷绕位置卷绕基底后，控制单元03可以控制该卷绕装置021从该一个卷绕位置向装卸位置移动，以便通过门体012和升降装置将该卷绕装置021送入腔室011，对该卷绕装置021上的基底进行镀膜。在对该卷绕装置021上的基底镀膜完毕后，可以通过门体012和升降装置将该卷绕装置021从腔室移出至装卸位置，并控制该卷绕装置021再次移动至其卷绕基底的一个卷绕位置，以进行基底的卸载。

进一步的，在该一个卷绕装置021进入腔室011后，控制单元03还可以控制另一个卷绕装置022在另一个卷绕位置022完成另一基底的卷绕，并在该一个卷绕装置021从腔室011移出至一个卷绕位置后，可以控制该另一卷绕装置022从另一个卷绕位置移动至装卸位置，以及移动至腔室011内进行基底的镀膜。在对该另一个卷绕装置022上的基底镀膜完毕后，可以通过门体012和升降装置将该卷绕装置022从腔室011移出至装卸位置，并控制该卷绕装置022再次移动至另一个卷绕位置，进行基底的卸载。

导轨的第二种实现方式可以如图2所示，导轨04的数量为两个，且这两个导轨04可以分别设置于镀膜腔体的两侧(如镀膜腔体中抽气结构0113所在侧及其对侧)。并且每个导轨04的延伸方向均可以平行于门体移动的方向X2或方向X3。

示例的，该至少两个卷绕装置可以为卷绕装置021和卷绕装置022，每个导轨04上可以设置有一个卷绕位置、一个装卸位置以及一个卷绕装置，且该卷绕装置在该卷绕位置卷绕基底。

在一个导轨04上的卷绕装置021在一个卷绕位置卷绕基底后，控制单元03可以控制该卷绕装置021在该一个导轨04上移动至一个装卸位置，以便于通过门体012和升降装置控制该卷绕装置021进入腔室011，以对该卷绕装置021上的基底镀膜。在该卷绕装置021上的基底镀膜完毕后，可以通过门体012和升降装置将该卷绕装置021从腔室011移出至该一个导轨04上的一个装卸位置，并控制该卷绕装置021再次移动至其该一个导轨04上的卷绕位置，以进行基底的卸载。

进一步的，在该一个卷绕装置021进入腔室011后，控制单元03还可以控制另一个导轨04上的另一个卷绕装置022卷绕基底，并在该一个卷绕装置021从腔室011移出至卷绕位置后，可以控制该另一卷绕装置022在该另一个导轨上移动至另一个装卸位置，以及移动至腔室011内进行基底的镀膜。在对该另一个卷绕装置022上的基底镀膜完毕后，可以通过门体012和升降装置将该卷绕装置022从腔室011移出至装卸位置，并控制该卷绕装置022再次移动至该另一个导轨04上的另一个卷绕位置，进行基底的卸载。

导轨的第三种实现方式可以如图3所示，镀膜设备0中的导轨04数量为一个，且导轨04呈开口环状，门体012靠近导轨04的开口处。镀膜设备中的所有卷绕装置可以顺次排列于导轨上。环状可以为圆环状、椭圆环状或者矩形环状，本实用新型实施例在此不做限定。

示例的，该至少两个卷绕装置可以为卷绕装置021和卷绕装置022，导轨04的两端部可以分别设置有装卸位置，且导轨的任意位置处设置有卷绕位置。

在一个卷绕装置021卷绕基底后，控制单元03可以控制该卷绕装置021移动至导轨04一个端部的装卸位置，以便于通过门体012和升降装置控制该卷绕装置021进入腔室011，以对该卷绕装置021上的基底镀膜。在该卷绕装置021上的基底镀膜完毕后，可以通过门体012和升降装置将该卷绕装置021从腔室移出至导轨04另一个端部的装卸位置，并控制该卷绕装置021在该导轨04上移动至卷绕位置，以进行基底的卸载。

进一步的，在该一个卷绕装置021进入腔室011后，控制单元03还可以控制另一个卷绕装置022在卷绕位置完成基底的卷绕。在该一个卷绕装置021从腔室011移出至导轨04另一个端部的装卸位置之前，可以控制该另一卷绕装置022在导轨04上从卷绕位置移动至导轨04的一个端部的装卸位置等候，在该一个卷绕装置021从腔室011移出至导轨04另一个端部的装卸位置之后，可以通过门体012和升降装置控制该另一个卷绕装置022移入至腔室011内进行基底的镀膜。在对该另一个卷绕装置022上的基底镀膜完毕后，可以通过门体012和升降装置将该卷绕装置022从腔室011移出至装卸位置，并控制该卷绕装置022再次移动至导轨04另一个端部的装卸位置，并控制该卷绕装置022在该导轨04上移动至卷绕位置，以进行基底的卸载。

需要说明的是，卷绕装置在进入腔室011之前移动至导轨的一个端部的装卸位置还是导轨的另一个端部的装卸位置，在此不做限定，只要保证至少两个卷绕装置顺利执行镀膜即可。

导轨的第四种实现方式可以如图4所示，导轨04的数量为多个，每一个导轨上可移动地设置有一个卷绕装置，每一个导轨上设置有一个装卸位置和一个卷绕位置。示例的，导轨04的数量为两个，且均设置于镀膜腔体01的一侧。图4以两个导轨位于与镀膜腔体中的抽气结构0113所在侧为例，可选的，两个导轨还可以位于与镀膜腔体的其他侧(如抽气结构所在侧的对侧)，本实用新型实施例对此不做限定。并且，每个导轨04的延伸方向均可以垂直于门体移动的方向X2或方向X3，在此不做限定。可选的，每个导轨上可以设置有一个卷绕装置。

示例的，该至少两个卷绕装置可以为卷绕装置021和卷绕装置022，在一个卷绕装置021卷绕基底后，控制单元03可以控制该卷绕装置在其所在的一个导轨04上从卷绕位置移动至装卸位置，以便于通过门体012和升降装置控制该卷绕装置021进入腔室011，以对该卷绕装置021上的基底镀膜。在该卷绕装置021上的基底镀膜完毕后，可以通过门体012和升降装置将该卷绕装置021从腔室011移出至该装卸位置，并控制该卷绕装置再次移动至其卷绕基底的卷绕位置，以进行基底的卸载。

进一步的，在该一个卷绕装置021进入腔室011后，控制单元03还可以控制另一个卷绕装置022卷绕基底，并在该一个卷绕装置021从腔室011移出至卷绕位置后，可以控制该另一卷绕装置022在其所在的另一导轨04上移动至导轨04上的装卸位置，以及移动至腔室011内进行基底的镀膜。在对该另一个卷绕装置022上的基底镀膜完毕后，可以通过门体012和升降装置将该卷绕装置022从腔室011移出至装卸位置，并控制该卷绕装置022再次移动至该另一个导轨04上的卷绕位置，进行基底的卸载。

导轨的第五种实现方式可以如图5所示，在图4的基础上，多个导轨还可以分布在镀膜腔体的两侧，如镀膜腔体中的抽气结构0113所在侧及其对侧。需要说明的是，控制图5中的多个卷绕装置(如卷绕装置021和卷绕装置022)交替进入腔室011的过程可以参考控制图4中多个卷绕装置交替进入腔室011的过程，本实用新型实施例在此不做赘述。

上述几种导轨实现方式中，导轨的延伸方向均可以平行于门体移动的方向X2或X3，或者垂直于门体移动的方向X2或X3，也即，导轨的延伸方向与门体移动的方向X2或X3的夹角为0度或90度。可选的，导轨的延伸方向与门体移动的方向X2或X3的夹角还可以不为0度或90度，如该夹角可以为1度等，本实用新型实施例对此不作限定。

另外，导轨上的卷绕位置可以为一个或多个，也即，卷绕装置可以在导轨上的一个或多个卷绕位置卷绕基底，本实用新型实施例对此不作限定。多个卷绕装置可以按照上述卷绕方式，依次卷绕基底，可选的，该多个卷绕装置也可以在进入腔体前，全部将基底卷绕完毕，本实用新型实施例对此不作限定。输送装置中的导轨还可以通过其他可控制卷绕装置移动的结构替换，如导轨可以通过悬架进行替换，本实用新型实施例对此不作限定。

可选的，镀膜设备中的所有卷绕装置的结构均可以相同，以下将对其中一个卷绕装置的结构进行讲解。

示例的，图6为本实用新型实施例提供的一种卷绕装置的结构示意图，请结合图6以及图1至图5中的任意一幅图，卷绕装置可以包括：支架Z1、收卷结构Z2、放卷结构Z3和过辊Z4。收卷结构Z2、放卷结构Z3以及过辊Z4均设置在支架Z1上，基底A呈卷状且套接在放卷结构Z3上，且基底A的一端经过过辊Z4并卷绕在收卷结构Z2上；控制单元03用于在镀膜腔体01对基底A进行镀膜时，控制收卷结构Z2对基底A进行收卷。

需要说明的是，在收卷结构Z2对基底A进行收卷时，基底A会在收卷结构Z2的作用下，继续往收卷结构Z2上卷绕，此时，放卷结构Z3会对基底进行放卷，也即基底不断脱离放卷结构Z3。示例的，收卷结构Z2、放卷结构Z3和过辊Z4均可以呈柱状，收卷结构Z2可以主动通过绕其轴进行旋转，以对基底A进行收卷；在收卷结构Z2对基底A进行收卷时，放卷结构Z2和过辊Z4也可以主动绕其轴旋转，可选的，放卷结构Z2和过辊Z4还可以不主动旋转，而是在收卷结构Z2的带动下进行被动的旋转，本实用新型实施例对此不作限定。

可选的，请继续结合图6以及图1至图5中的任意一幅图，卷绕装置还可以包括：检测结构Z5，基底A可以呈条状，基底A的一端经过过辊Z4和检测结构Z5并卷绕在收卷结构Z2上。需要说明的是，卷绕装置可以包括一个过辊Z4或者多个过辊Z4，本实用新型实施例中以卷绕装置包括两个过辊Z4为例；卷绕装置中的过辊Z4和检测结构Z5可以依次排布在放卷结构Z3和收卷结构Z2之间，本实用新型实施例中以检测结构Z5位于两个过辊Z4之间为例。

检测结构Z5可以用于检测基底A的卷绕方向B是否平行于基底A的长度方向C；控制单元03还可以用于在基底A的卷绕方向B不平行于基底A的长度方向C时，控制收卷结构Z2和放卷结构Z3中的至少一个结构沿基底A的宽度方向D移动，以调整基底A的两端在基底A的宽度方向D上的相对位置，进而调整基底A的卷绕方向B。

可选的，本实用新型实施例中的基底可以包括：金属薄膜(如铜箔、铝箔、不锈钢箔及合金薄等)和非金属薄膜(如聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚乙烯薄膜、聚酰胺薄膜及各种复合薄膜等)。本实用新型实施例中在基底上形成的膜层可以包括：光伏薄膜、柔性显示薄膜或高阻隔性膜等。

综上所述，由于本实用新型实施例提供的镀膜设备中，镀膜设备包括镀膜腔体、至少两个卷绕装置以及控制单元，且控制单元能够控制至少两个卷绕装置交替进入镀膜腔体，以对卷绕装置上的基底进行镀膜。具体地，在控制单元控制一个卷绕装置进入镀膜腔体后，另一个卷绕装置可以预先完成基底的卷绕。控制单元在控制该一个卷绕装置移出镀膜腔体后，可以立即控制另一个卷绕装置进入镀膜腔体。这样一来，就能够大大的减少镀膜腔体处于打开状态的时长，减少镀膜腔体在大气环境中的暴露时长，进而减少镀膜腔体进行抽真空所需的时长，提高了镀膜的效率和产品品质。

图7为本实用新型实施例提供的一种镀膜方法的流程图，采用图1至图5任一所示的镀膜设备0，如图7所示，该镀膜方法可以包括：

步骤701、至少两个卷绕装置分别完成基底的卷绕。

步骤702、控制至少两个卷绕装置交替进入镀膜腔体，以对基底进行镀膜。

综上所述，由于本实用新型实施例提供的镀膜方法采用地镀膜设备中包括镀膜腔体、至少两个卷绕装置以及控制单元，且控制单元能够控制至少两个卷绕装置交替进入镀膜腔体，以对卷绕装置上的基底进行镀膜。进一步地，在控制单元控制一个卷绕装置进入镀膜腔体后，另一个卷绕装置可以预先完成基底的卷绕。控制单元在控制该一个卷绕装置移出镀膜腔体后，可以立即控制另一个卷绕装置进入镀膜腔体。这样一来，就能够大大的减少镀膜腔体处于打开状态的时长，减少镀膜腔体在大气环境中的暴露时长，进而减少镀膜腔体进行抽真空所需的时长，提高了镀膜的效率和产品品质。

图8为本实用新型实施例提供的一种控制卷绕装置交替进入镀膜腔体的流程图，如图8所示，步骤702可以包括：

步骤7021、在至少两个卷绕装置中的一个完成一个基底的卷绕后，控制单元控制至少两个卷绕装置中的一个进入镀膜腔体，以对一个基底进行镀膜。

示例的，基底可以呈卷状，在将基底承载在卷绕装置上时，可以首先将基底套接在卷绕装置中的放卷结构上，然后，将基底的一端经过过辊卷绕在收卷结构上，以使得基底撑紧在放卷结构和收卷结构之间(也即对基底的张力进行预控制)。可选的，可以将基底的一端在收卷结构上卷绕二至五圈。

其中，收卷结构、放卷结构和过辊均可以呈柱状，收卷结构可以主动通过绕其轴进行旋转，以对基底进行收卷；在收卷结构对基底进行收卷时，放卷结构和过辊也可以主动绕其轴旋转，可选的，放卷结构和过辊还可以不主动旋转，而是在收卷结构的带动下进行被动的旋转，本实用新型实施例对此不作限定。

可选的，卷绕装置对基底的卷绕可以由控制单元控制，或者，卷绕装置对基底的卷绕可以由人工控制，本实用新型实施例对此不作限定。

需要说明的是，控制单元在控制至少两个卷绕装置交替进入镀膜腔体前，需要控制门体沿远离腔室的方向移动，以使得门体与腔室分离。

在一个卷绕装置完成一个基底的卷绕后，控制单元可以控制卷绕装置移动至装卸位置。之后，控制单元还可以通过门体和升降装置将卷绕装置从装卸位置移动至腔室内。此时，腔室与门体扣合，镀膜腔体处于关闭状态，控制单元可以控制镀膜腔体对卷绕装置上的基底进行镀膜。

可选的，在控制镀膜腔体对基底进行镀膜时，可以通过控制单元控制收卷结构对基底进行收卷，以使得蒸镀结构可以对基底上的各个位置均进行镀膜。

步骤7022、对一个基底镀膜完毕后，控制单元控制至少两个卷绕装置中的一个移出镀膜腔体。

在一个卷绕装置上卷绕的一基底镀膜完毕后，控制单元可以控制门体向远离腔室的方向移动以带动该一个卷绕装置移出腔室，并移动至装卸位置，进而移动至卷绕位置。

步骤7023、控制单元控制完成另一个基底卷绕的至少两个卷绕装置中的另一个进入镀膜腔体，以对另一个基底进行镀膜。

需要说明的是，在一个卷绕装置卷绕基底并进入该镀膜腔体后，另一个卷绕装置可以开始卷绕另一个基底，或者该另一个卷绕装置可以在一个卷绕装置进入镀膜腔体前就预先卷绕另一个基底。也即，无需等待一个卷绕装置移出镀膜腔体，就可以预先在另一个卷绕装置上完成另一个基底的卷绕，以为另一个基底的蒸镀做准备工作。在一个卷绕装置移出镀膜腔体后，控制单元可以控制另一个卷绕装置立即进入该镀膜腔体，以对该另一个卷绕装置上卷绕的另一个基底进行镀膜。

步骤7024、对另一个基底镀膜完毕后，控制单元控制至少两个卷绕装置中的另一个移出镀膜腔体。

在另一个卷绕装置上卷绕的另一基底镀膜完毕后，控制单元可以控制门体向远离腔室的方向移动以带动该另一个卷绕装置移出腔室，并移动至装卸位置，进而移动至卷绕位置。

步骤7025、至少两个卷绕装置顺次执行以上步骤，直至镀膜结束。

需要说明的是，本实用新型实施例中仅以控制两个卷绕装置交替进入镀膜腔体为例，可选的，若还需要控制更多的卷绕装置交替进入镀膜腔体，则可以顺次执行上述步骤(步骤7021至步骤7024)，以控制更多的卷绕装置交替进入镀膜腔体，本实用新型实施例在此不做赘述。

综上所述，由于本实用新型实施例提供的镀膜方法采用的镀膜设备包括镀膜腔体、至少两个卷绕装置以及控制单元，且控制单元能够控制至少两个卷绕装置交替进入镀膜腔体，以对卷绕装置上的基底进行镀膜。进一步地，在控制单元控制一个卷绕装置进入镀膜腔体后，另一个卷绕装置可以预先完成基底的卷绕。控制单元在控制该一个卷绕装置移出镀膜腔体后，可以立即控制另一个卷绕装置进入镀膜腔体。这样一来，就能够大大的减少镀膜腔体处于打开状态的时长，减少镀膜腔体在大气环境中的暴露时长，进而减少镀膜腔体进行抽真空所需的时长，提高了镀膜的效率和产品品质。

需要说明的是，本实用新型实施例提供的方法实施例能够与相应的设备实施例相互参考，本实用新型实施例对此不做限定。本实用新型实施例提供的方法实施例步骤的先后顺序能够进行适当调整，步骤也能够根据情况进行相应增减，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到变化的方法，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内，因此不再赘述。

以上所述仅为本申请的可选实施例，并不用以限制本申请，凡在本申请的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本申请的保护范围之内。

Claims (7)

1.一种镀膜设备，其特征在于，所述镀膜设备包括：控制单元、镀膜腔体、对应一个镀膜腔体的至少两个卷绕装置，其中：

所述至少两个卷绕装置分别完成基底的卷绕；

所述控制单元控制所述至少两个卷绕装置交替进入所述一个镀膜腔体，以对所述基底进行镀膜。

2.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述镀膜设备还包括输送装置，所述输送装置上设置有卷绕位置和装卸位置，所述控制单元控制所述至少两个卷绕装置在所述装卸位置和所述卷绕位置之间移动，所述卷绕装置在所述卷绕位置完成所述基底的卷绕，所述卷绕装置在所述装卸位置进入所述镀膜腔体和从所述镀膜腔体中移出。

3.根据权利要求2所述的镀膜设备，其特征在于，所述输送装置包括：至少一个导轨，所述至少两个卷绕装置可移动地设置于所述至少一个导轨上。

4.根据权利要求3所述的镀膜设备，其特征在于，所述导轨的数量为一个，所述导轨位于所述镀膜腔体的一侧，所述至少两个卷绕装置顺次排列于所述导轨上，所述导轨上设置有一个所述装卸位置和两个所述卷绕位置，所述两个卷绕位置分别设置于所述装卸位置的两侧。

5.根据权利要求3所述的镀膜设备，其特征在于，所述导轨的数量为一个，所述导轨呈开口环状，所述至少两个卷绕装置顺次排列于所述导轨上，所述导轨的两端部分别设置有所述装卸位置，所述导轨的任意位置处设置有所述卷绕位置。

6.根据权利要求3所述的镀膜设备，其特征在于，所述导轨的数量为多个，每一个所述导轨上可移动地设置有所述至少两个卷绕装置中的一个，每一个所述导轨上设置有一个所述装卸位置和一个所述卷绕位置。

7.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述控制单元还用于控制所述至少两个卷绕装置卷绕所述基底。