CN208414266U - 一种彩色陶瓷 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种彩色陶瓷，包含陶瓷面，所述陶瓷面为经过粗化处理后的陶瓷面，所述陶瓷面的材料颗粒结构暴露于该陶瓷面的至少一部分，有暴露材料颗粒结构的该陶瓷面的该部分具有微粒，所述微粒的密度为1～10微米^2,及在有暴露材料颗粒结构的该陶瓷面的该部分的粗糙度Ra为0.01～0.5μm，所述陶瓷面上部设有彩色层，所述陶瓷面下部印刷有油墨层，所述彩色层是由第一膜层和第二膜层交替排列的堆叠膜层，其中所述第一膜层的折射率高于所述第二膜层的折射率。本实用新型采用硬质薄膜材料作为彩色层，提高膜层硬度及耐刮擦特性，改变陶瓷表面粗糙度，调整镜面反射和漫反射占比，控制整体颜色效果，利用真空镀膜技术精确控制膜层厚度保证颜色的稳定性及一致性。

Description

一种彩色陶瓷

技术领域

本实用新型涉及一种陶瓷，尤其是一种彩色陶瓷。

背景技术

针对现有彩色陶瓷，一般是采用色粉添加方法，现有技术一般分为两种：第一种：向陶瓷粉体里掺杂彩色色料，例如专利CN104446457A中所述，目前彩色陶瓷一般是向陶瓷粉体中添加无机颜料，可制得所需颜色陶瓷，以氧化锆为例，本征氧化锆陶瓷为白色，在改性陶瓷材料中添加氧化铒后可得到粉红色氧化锆陶瓷；在改性陶瓷材料中添加氧化钴后可得到咖啡色氧化锆陶瓷；在改性陶瓷材料中添加氧化锰后可得到了蓝色改性氧化锆陶瓷；如果向其中添加多种无机氧化物颜料，则可以调整陶瓷的颜色，达到多彩陶瓷的目的。第二种：在陶瓷表面做颜色涂层，例如专利CN105622169A中，陶瓷表面使用玻璃粉和色料进行颜色调制，然后再烧结抛光，得到与陶瓷相同质感的光洁面，其制作工艺类似于釉中彩工艺，该工艺理论上可以调制出任意颜色，但质感效果难以调节，无法具备金属质感或釉上彩效果。

第一种技术通过向陶瓷粉体中掺杂彩色色料来呈现颜色，颜色主要是通过色料本体颜色或烧结过程中金属离子发生的价态改变来呈现各种颜色，因此，其缺点如下：1、颜色一般较浅，浓度不高，无法做到艳丽且具备金属质感颜色效果；2、陶瓷发色容易出现色斑，不均；3、颜色不够稳定，容易波动；4、生产周期长，工序复杂；5、陶瓷一旦加工成型，颜色无法改变；6、彩色陶瓷存在力学性能隐患。第二种技术是在陶瓷表面做彩色涂层，主要依靠涂层颜色来呈现，因此其缺点如下：1、表面涂层容易引起瓷体翘曲；2、涂层使用过程中存在脱落风险；3、一旦加工成型，颜色无法改变；以上两种彩色陶瓷制备方法得到的样品，其质感均无法具备金属质感颜色效果。

第一种方案导致的技术及对应的原因是：1、因为掺杂的色料比例小，且色料多为无机物，颜色饱和度不够，若比例增大，则容易出现力学性能急剧下降；2、色斑因为添加的色料颗粒存在团聚；不均是色料晶粒长大速度与陶瓷本体材料不匹配所致；3、因添加的氧化物在烧结过程中容易受到气氛，温度波动出现颜色浓度差异；4、因添加的氧化物粉料需均匀与瓷粉混合均匀，有些需和瓷粉一同制备，如共沉淀法，溶胶凝胶法，离子交换法；5、因颜色的显现是在烧结加工后呈现，而烧结晶粒长大是一个不可逆过程，一旦成型无法返工；6、一些陶瓷粉体为达到颜色均匀，将色料与瓷粉一同制备，有些陶瓷粉体材料晶体被色料改变，发生晶格畸变，存在晶体缺陷。第二种方案导致的技术及对应的原因是：1、烧结过程中陶瓷与涂层之间存在膨胀系数差异或者存在热应力，当二者一致性存在差异后会产生翘曲；2、因为涂层在与陶瓷共同受到外力影响时，形变量不一致，且玻璃为脆性材料，容易产生非弹性断裂；3、颜色的烧制是不可逆过程，一旦烧制成型无法改变。

实用新型内容

基于此，本实用新型的目的在于克服上述现有技术的不足之处而提供一种可调节金属质感效果的超硬彩色陶瓷。

为实现上述目的，本实用新型所采取的技术方案为：一种彩色陶瓷，包含陶瓷面，所述陶瓷面为经过粗化处理后的陶瓷面，所述陶瓷面的材料颗粒结构暴露于该陶瓷面的至少一部分，有暴露材料颗粒结构的该陶瓷面的该部分具有微粒，所述微粒的密度为1～10微米^2,及在有暴露材料颗粒结构的该陶瓷面的该部分的粗糙度Ra为0.01～0.5μm，所述陶瓷面上部设有彩色层，所述陶瓷面下部印刷有油墨层，所述彩色层是由第一膜层和第二膜层交替排列的堆叠膜层，其中所述第一膜层的折射率高于所述第二膜层的折射率。

所述陶瓷面粗化均匀，所述微粒密度的选择，使得陶瓷面吸附力强，非常有利于后续彩色层的制备，彩色层与陶瓷面键合强度高，彩色层致密性良好，组织成分均匀。

本实用新型所述彩色层直接设于陶瓷面表面，彩色层为不同高低折射率交替出现的堆叠膜层，可以根据光的干涉效应显现颜色，符合方程布拉格方程：nd＝1/4kλ，且所述膜层厚度是原子级堆积，致密性和细腻程度都远超常规色料；陶瓷在成型后，质感、效果及颜色可调，能呈现金属质感，镜面或非镜面效果；颜色均匀稳定，批次间控制精准；表面光滑致密，粗糙度、光泽度可调节；适用于平面和无遮挡曲面陶瓷；可批量大规模连续性生产。

优选地，所述彩色层上部依次设有SiO₂层、AF膜层。本实用新型彩色层之上是SiO2+AF层，具有防污憎水功能。

优选地，所述第一膜层为TiO₂、PZT、BaTiO₃、Ta₂O₅、ZnO、Si中的至少一种；所述第二膜层为MgO、MgF₂、Y₂O₃、BaO、SiO₂中的至少一种。

优选地，所述彩色层还包含硬质薄膜材料，所述彩色层绝缘非导且无信号屏蔽，可以提升整体耐刮擦能力。

本实用新型所述硬质薄膜材料可以为第一膜层材料，也可以为第二膜层材料，具体根据其与第一膜层、第二膜层折射率的大小进行具体决定，如果硬质薄膜材料的折射率高于第一膜层，则将硬质薄膜材料放在第一膜层；如果硬质薄膜材料的折射率低于第二膜层，则将硬质薄膜材料放在第二膜层；如果硬质薄膜材料的折射率介于第一膜层与第二膜层之间，则硬质薄膜材料放在第一膜层、第二膜层均可以；本实用新型第一膜层与第二膜层的交替排列，主要目的是调色，而所述硬质薄膜材料，具有较好的增强硬度的作用，也可以进行调色；此外，本实用新型第一膜层、第二膜层的厚度并无具体限制，只要两个膜层厚度总和为彩色层厚度即可。

更优选地，所述硬质薄膜材料为碳化物类硬质薄膜材料、氮化物类硬质薄膜材料、硼化物类硬质薄膜材料、硅化物类硬质薄膜材料、氧化物类硬质薄膜材料中的至少一种；

所述碳化物类硬质薄膜材料为类金刚石薄膜材料(DLC)、B₄C薄膜材料、WC薄膜材料、TiC薄膜材料、ZrC薄膜材料、VC薄膜材料、SiC薄膜材料、MoC薄膜材料、NbC薄膜材料、Cr₃C₂薄膜材料、TaC薄膜材料中的至少一种；

所述氮化物类硬质薄膜材料为TiN薄膜材料、VN薄膜材料、TaN薄膜材料、NbN薄膜材料、ZrN薄膜材料、HfN薄膜材料、ThN薄膜材料、BN薄膜材料、AlN薄膜材料、Si₃N₄薄膜材料中的至少一种；

所述硼化物类硬质薄膜材料为TiB₂薄膜材料、VB₂薄膜材料、TaB薄膜材料、WB薄膜材料、ZrB薄膜材料、AlB薄膜材料、SiB薄膜材料、NbB₂薄膜材料、CrB₂薄膜材料、W₂B₅薄膜材料中的至少一种；

所述硅化物类硬质薄膜材料为TiSi薄膜材料、MoSi薄膜材料、ZrSi薄膜材料中的至少一种；

所述氧化物类硬质薄膜材料为Al₂O₃薄膜材料、ZrO₂薄膜材料、Cr₂O₃薄膜材料、Nb₂O₅薄膜材料中的至少一种。

优选地，在选择硬质薄膜材料时，选择较高折射率的硬质薄膜材料。高低折射率交替出现，优选较高的折射率材料是为了拉开与低折射率之间的差值，二者之间的差值较大时，有利于减少设计膜系的层数从而降低生产成本和膜层脱落的风险。

优选地，所述彩色层的厚度为1～1500nm，所述油墨层的厚度为0～50μm。彩色层厚度几乎不增加陶瓷素材厚度，也不会降低陶瓷本体力学特性。

优选地，所述彩色层的厚度为20～1200nm，所述油墨层的厚度为1～45μm。

优选地，所述SiO₂层的厚度为1～50nm，所述AF膜层的厚度为1～50nm。

优选地，所述SiO₂层的厚度为2～45nm，所述AF膜层的厚度为2～45nm。

彩色层厚度的选择可以使彩色层在满足颜色的同时与陶瓷之间的附着力更佳；油墨厚度选择可以满足遮光特性同时保证其可靠性；SiO₂厚度的选择可以满足颜色的同时提高AF膜层的可靠性；AF膜层厚度的选择可以满足防污憎水特性同时，保证其可靠性。

优选地，所述陶瓷面为经过粗化处理后的陶瓷面，所述陶瓷面的粗糙度Ra为0.015～0.2μm。对陶瓷面做粗化处理，可以提高彩色层与陶瓷之间的附着力，提高可靠性。

本专利中基底陶瓷表面通过研磨抛光或喷砂或腐蚀等常用表面加工技术，改变陶瓷表面粗糙度(Ra)和表面微观状态，调节陶瓷表面镜面反射和漫反射占比来控制镀膜角度效应，既可以呈现彩色高光镜面效果，流光溢彩，也可以呈现彩色哑光细腻效果，珠光闪烁，或者处于中间的过渡状态，以上色彩均具备金属质感。陶瓷表面加工技术为常见技术，处理步骤各异，原则为让其表面变得粗糙且粗糙程度一致即可。

相对于现有技术，本实用新型的有益效果为：

本实用新型采用硬质薄膜材料作为彩色层，提高膜层硬度及耐刮擦特性，改变陶瓷表面粗糙度，调整镜面反射和漫反射占比，控制整体颜色效果，利用真空镀膜技术精确控制膜层厚度保证颜色的稳定性及一致性，具体具有以下优点：

1、表面可以呈现镜面或类似珠光效果，颜色均具备金属质感；

2、膜层整体耐磨抗刮伤能力较普通光学镀膜有提升，膜层铅笔硬度≥9H；

3、不改变陶瓷力学性能，仅在陶瓷表面真空镀膜；

4、可针对所有种类的陶瓷作为基底材料；

5、颜色不合适可退去彩色膜，重新镀膜，陶瓷本体可反复利用，降低成本；

6、该方法操作简便，过程无工业三废，绿色环保；

7、整体膜层抗酸抗碱抗腐蚀，经久耐用；

8、可呈现除白色外所有颜色；

9、批次间颜色稳定，容易控制，适合规模化生产；

10、膜层表面憎水防污，可防止指纹残留；

11、彩色层与陶瓷面键合强度高，彩色层致密性良好，组织成分均匀。

附图说明

图1为本实用新型所述彩色陶瓷的一种结构示意图；

其中，1、陶瓷面；2、彩色层；3、油墨层；4、SiO₂层；5、AF膜层。

具体实施方式

为更好的说明本实用新型的目的、技术方案和优点，下面将结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步说明。

实施例1

本实用新型所述彩色陶瓷的一种实施例，本实施例所述彩色陶瓷的一种结构示意图如附图1所示：

一种彩色陶瓷，包含陶瓷面1，所述陶瓷面1为经过粗化处理后的陶瓷面，所述陶瓷面1的材料颗粒结构暴露于该陶瓷面的至少一部分，有暴露材料颗粒结构的该陶瓷面1的该部分具有微粒，所述微粒的密度为1～10微米^2,及在有暴露材料颗粒结构的该陶瓷面的该部分的粗糙度Ra为0.01～0.5μm；陶瓷面1上部依次设有彩色层2、SiO₂层4、AF膜层5，陶瓷面1下部印刷有油墨层3，彩色层2是由第一膜层和第二膜层交替排列的堆叠膜层，其中所述第一膜层的折射率高于所述第二膜层的折射率，所述第一膜层为PZT；所述第二膜层为MgO；彩色层2的厚度为1nm，油墨层3的厚度为50μm，SiO₂层4的厚度为1nm，AF膜层5的厚度为1nm。

彩色层2还包含硬质薄膜材料，所述硬质薄膜材料可以在第一膜层，也可以在第二膜层，具体根据其与第一膜层、第二膜层折射率的大小进行具体决定，如果硬质薄膜材料的折射率高于第一膜层，则将硬质薄膜材料放在第一膜层；如果硬质薄膜材料的折射率低于第二膜层，则将硬质薄膜材料放在第二膜层；如果硬质薄膜材料的折射率介于第一膜层与第二膜层之间，则硬质薄膜材料放在第一膜层、第二膜层均可以；所述硬质薄膜材料为碳化物类硬质薄膜材料，所述碳化物类硬质薄膜材料为类金刚石薄膜材料、B₄C薄膜材料、WC薄膜材料、TiC薄膜材料、ZrC薄膜材料、VC薄膜材料、SiC薄膜材料、MoC薄膜材料、NbC薄膜材料、Cr₃C₂薄膜材料、TaC薄膜材料中的至少一种。

实施例2

本实用新型所述彩色陶瓷的一种实施例，本实施例所述彩色陶瓷的一种结构示意图如附图1所示：

一种彩色陶瓷，包含陶瓷面1，所述陶瓷面1为经过粗化处理后的陶瓷面，所述陶瓷面1的材料颗粒结构暴露于该陶瓷面的至少一部分，有暴露材料颗粒结构的该陶瓷面1的该部分具有微粒，所述微粒的密度为1～10微米^2,及在有暴露材料颗粒结构的该陶瓷面的该部分的粗糙度Ra为0.015～0.2μm；陶瓷面1上部依次设有彩色层2、SiO₂层4、AF膜层5，陶瓷面1下部印刷有油墨层3，彩色层2是由第一膜层和第二膜层交替排列的堆叠膜层，其中所述第一膜层的折射率高于所述第二膜层的折射率；所述第一膜层为BaTiO₃；所述第二膜层为MgF₂；彩色层2的厚度为1500nm，油墨层3的厚度为0μm，SiO₂层4的厚度为50nm，AF膜层5的厚度为50nm。

彩色层2还包含硬质薄膜材料，所述硬质薄膜材料可以在第一膜层，也可以在第二膜层，具体根据其与第一膜层、第二膜层折射率的大小进行具体决定，如果硬质薄膜材料的折射率高于第一膜层，则将硬质薄膜材料放在第一膜层；如果硬质薄膜材料的折射率低于第二膜层，则将硬质薄膜材料放在第二膜层；如果硬质薄膜材料的折射率介于第一膜层与第二膜层之间，则硬质薄膜材料放在第一膜层、第二膜层均可以；所述硬质薄膜材料为氮化物类硬质薄膜材料，所述氮化物类硬质薄膜材料为TiN薄膜材料、VN薄膜材料、TaN薄膜材料、NbN薄膜材料、ZrN薄膜材料、HfN薄膜材料、ThN薄膜材料、BN薄膜材料、AlN薄膜材料、Si₃N₄薄膜材料中的至少一种。

实施例3

本实用新型所述彩色陶瓷的一种实施例，本实施例所述彩色陶瓷的一种结构示意图如附图1所示：

一种彩色陶瓷，包含陶瓷面1，所述陶瓷面1为经过粗化处理后的陶瓷面，所述陶瓷面1的材料颗粒结构暴露于该陶瓷面的至少一部分，有暴露材料颗粒结构的该陶瓷面1的该部分具有微粒，所述微粒的密度为1～10微米^2,及在有暴露材料颗粒结构的该陶瓷面的该部分的粗糙度Ra为0.01～0.5μm；陶瓷面1上部依次设有彩色层2、SiO₂层4、AF膜层5，陶瓷面1下部印刷有油墨层3，彩色层2是由第一膜层和第二膜层交替排列的堆叠膜层，其中所述第一膜层的折射率高于所述第二膜层的折射率；所述第一膜层为Ta₂O₅；所述第二膜层为Y₂O₃；彩色层2的厚度为750nm，油墨层3的厚度为25μm，SiO₂层4的厚度为25nm，AF膜层5的厚度为25nm。

彩色层2还包含硬质薄膜材料，所述硬质薄膜材料可以在第一膜层，也可以在第二膜层，具体根据其与第一膜层、第二膜层折射率的大小进行具体决定，如果硬质薄膜材料的折射率高于第一膜层，则将硬质薄膜材料放在第一膜层；如果硬质薄膜材料的折射率低于第二膜层，则将硬质薄膜材料放在第二膜层；如果硬质薄膜材料的折射率介于第一膜层与第二膜层之间，则硬质薄膜材料放在第一膜层、第二膜层均可以；所述硬质薄膜材料为硅化物类硬质薄膜材料，所述硅化物类硬质薄膜材料为TiSi薄膜材料、MoSi薄膜材料、ZrSi薄膜材料中的至少一种。

实施例4

本实用新型所述彩色陶瓷的一种实施例，本实施例所述彩色陶瓷的一种结构示意图如附图1所示：

一种彩色陶瓷，包含陶瓷面1，所述陶瓷面1为经过粗化处理后的陶瓷面，所述陶瓷面1的材料颗粒结构暴露于该陶瓷面的至少一部分，有暴露材料颗粒结构的该陶瓷面1的该部分具有微粒，所述微粒的密度为1～10微米^2,及在有暴露材料颗粒结构的该陶瓷面的该部分的粗糙度Ra为0.01～0.5μm；陶瓷面1上部依次设有彩色层2、SiO₂层4、AF膜层5，陶瓷面1下部印刷有油墨层3，彩色层2是由第一膜层和第二膜层交替排列的堆叠膜层，其中所述第一膜层的折射率高于所述第二膜层的折射率，其中第一膜层材料为Si，第二膜层材料为SiO₂；本实用新型彩色层2还包含硬质薄膜材料，所述硬质薄膜材料为类金刚石薄膜材料，增强硬度，但同时它折射率比Si低，所以三种材料顺序是SiO₂-Si-DLC，从这种程度上来讲，DLC也是第二膜层，只不过它是无色的，不起调色作用，彩色层2为玫瑰金颜色，具体彩色陶瓷的设计过程为：

1、膜系设计，基于TFCALC上经行的设计，要求在可见光380～720nm波段呈现玫瑰金效果，经过一系列的优化设计后得到的膜系结构如表1所示，该膜系结构为彩色层高低折射率膜层堆叠结构，其中Si为高折射率薄膜材料，SiO₂为低折射率薄膜材料：

表1膜系结构设计

膜层	SiO<sub>2</sub>	Si	SiO<sub>2</sub>	Si	SiO<sub>2</sub>	Si	SiO<sub>2</sub>
								厚度/nm	74	43	85	59	75	30	90

2、溅射机溅射镀膜，设置镀膜参数：

2.1起始真空度：6.0～7.0×10^-4torr，镀膜温度：80～85℃，镀膜前使用RF处理，自由基源功率：3400～3600W，氧气流量：120sccm，时间300s；

2.2硅靶材溅射功率：7600～8000W，氩气流量：110～120sccm，氧气流量90sccm，自由基源功率：3600W，溅射SiO₂；

2.3硅靶材溅射功率：8000～8500W，氩气流量：260～270sccm，自由基源物功率：3100W～3200W，溅射Si；

2.4类金刚石膜层溅射参数：高纯石墨靶材与陶瓷之间间距为9.5cm，真空度为5.0～6.0×10^-4torr，氩气流量为30sccm，氢气流量为15sccm，氮气流量为5sccm，控制通入氩气，氢气和氮气体积比为1:1:0.2，磁控溅射工作电压为500V，功率为5KW，溅射25s；

3、将待镀白色哑光陶瓷样品(Ra＝0.05～0.08μm)贴在高温胶上，放入溅射机装载基片板上，取2颗AF药丸放置在阻蒸舟内，供镀AF膜使用；

4、关闭炉门，启动真空泵，开始镀膜，点击成膜开始；

5、通气，冷却时间：7min，通气时间：4min；

6、打开炉门，将样品取下，取低粘PET膜包覆产品；

7、测量Lab值，详见表2。Lab值是一种颜色的表示方法，其中L表示亮度，越正越亮，0为黑色；a表示红色或绿色，越正越红，越负越绿，0则为无色；b表示黄色或者蓝色，越正越黄，越负越蓝，0则为无色。SCI表示肉眼观察下的颜色效果，SCE表示漫反射条件下的颜色效果。

光泽度一栏即可体现金属质感，同样Lab的情况下，具备金属质感效果其光泽度会更高。本实用新型专利中使用的光泽度测试仪选取20°角度下的测量值。

光泽度单位我们叫做光泽单位，国际惯例符号表示为GU，即光泽单位Gloss unit的首字母缩写。根据日本工业JIS标准规定，光泽度单位可以用百分号表示，如40GU的光泽度可以写作40％，又或者直接用数值表示。

测量方法：光泽度测量可使用专业光泽度仪测量，以常用的3nh的光泽度仪HG268型为例，仪器开机后默认状态下开机会自动进行校准，选择光泽度仪测量角度(通用材料选择60度角度，高光泽材料选用20度角度，低光泽材料选用85度角度)后将测量孔紧贴产品表面，按下测量键即可。

数据分析规律：光泽度是一组几何规定条件下对材料表面反射光的能力进行评价的物理量，同一测试角度下，光泽度数据越大表示材料表面反光能力越高。

表2 Lab值

8、将该产品分布放置于pH＝4.6±0.1和pH＝8.8±0.1的酸、碱性溶液中，温度为55±3℃，湿度为90％～95％测试，96h后检测，颜色无变化，AF膜水滴角＞110°。

实施例5

本实用新型所述彩色陶瓷的一种实施例，本实施例所述彩色陶瓷的一种结构示意图如附图1所示：

一种彩色陶瓷，包含陶瓷面1，陶瓷面1的粗糙度Ra为0.015～0.2μm；陶瓷面1上部依次设有彩色层2、SiO₂层4、AF膜层5，陶瓷面1下部印刷有油墨层3，彩色层2是由第一膜层和第二膜层交替排列的堆叠膜层，其中所述第一膜层的折射率高于所述第二膜层的折射率；本实用新型彩色层2还包含硬质薄膜材料Si₃N₄，增强硬度，同时也作为第一膜层材料，与第二膜层材料SiO₂一起调色，彩色层2为亮蓝色颜色，具体彩色陶瓷的设计过程为：

1、膜系设计，基于TFCALC上经行的设计，要求在可见光380～720nm波段呈现亮蓝色效果，经过一系列的优化设计后得到的膜系结构为表3：该膜系结构为彩色层高低折射率膜层堆叠结构，其中Si₃N₄为高折射率薄膜材料，SiO₂为低折射率薄膜材料：

表3膜系结构设计

膜层	SiO<sub>2</sub>	Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub>	SiO<sub>2</sub>	Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub>	SiO<sub>2</sub>	Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub>	SiO<sub>2</sub>	Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub>	SiO<sub>2</sub>
										厚度/nm	51	23	128	28	65	21	113	21	15

2、溅射机溅射镀膜，设置镀膜参数：

2.1起始真空度：6.0～7.0×10^-4torr，镀膜温度：80～85℃，镀膜前使用RF处理，自由基源功率：3400～3600W，氧气流量：120sccm，时间300s；

2.2硅靶材溅射功率：7600～8000W，氩气流量：110～120sccm，氧气流量90sccm，自由基源功率：3600W，溅射SiO₂；

2.3硅靶材溅射功率：8000～8500W，氩气流量：260～270sccm，氮气流量120sccm，自由基源物功率：3100W～3200W，溅射Si₃N₄；

3、将待镀高光黑陶瓷样品(Ra＝0.02～0.03μm)贴在高温胶上，放入溅射机装载基片板上，取2颗AF药丸放置在阻蒸舟内，供蒸镀AF膜使用；

4、关闭炉门，启动真空泵，开始镀膜，点击成膜开始；

5、通气，冷却时间：7min，通气时间：4min；

6、打开炉门，将样品取下，取低粘PET膜包覆产品；

7、测量Lab值，详见下表4；Lab值是一种颜色的表示方法，其中L表示亮度，越正越亮，0为黑色；a表示红色或绿色，越正越红，越负越绿，0则为无色；b表示黄色或者蓝色，越正越黄，越负越蓝，0则为无色。SCI表示肉眼观察下的颜色效果，SCE表示漫反射条件下的颜色效果。光泽度一栏即可体现金属质感，同样Lab的情况下，具备金属质感效果其光泽度会更高。

表4 Lab值

8、将该产品分布放置于pH＝4.6±0.1和pH＝8.8±0.1的酸、碱性溶液中，温度为55±3℃，湿度为90％～95％测试，96h后检测，颜色无变化，AF膜水滴角＞110°。

最后所应当说明的是，以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案而非对本实用新型保护范围的限制，尽管参照较佳实施例对本实用新型作了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本实用新型的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本实用新型技术方案的实质和范围。

Claims (9)

1.一种彩色陶瓷，其特征在于，包含陶瓷面，所述陶瓷面为经过粗化处理后的陶瓷面，所述陶瓷面的材料颗粒结构暴露于该陶瓷面的至少一部分，有暴露材料颗粒结构的该陶瓷面的该部分具有微粒，所述微粒的密度为1～10微米^2,及在有暴露材料颗粒结构的该陶瓷面的该部分的粗糙度Ra为0.01～0.5μm，所述陶瓷面上部设有彩色层，所述陶瓷面下部印刷有油墨层，所述彩色层是由第一膜层和第二膜层交替排列的堆叠膜层，其中所述第一膜层的折射率高于所述第二膜层的折射率。

2.如权利要求1所述的彩色陶瓷，其特征在于，所述彩色层上部依次设有SiO₂层、AF膜层。

3.如权利要求1所述的彩色陶瓷，其特征在于，所述第一膜层为TiO₂、PZT、BaTiO₃、Ta₂O₅、ZnO、Si中的至少一种；所述第二膜层为MgO、MgF₂、Y₂O₃、BaO、SiO₂中的至少一种。

4.如权利要求1所述的彩色陶瓷，其特征在于，所述彩色层还包含硬质薄膜材料，所述彩色层绝缘非导且无信号屏蔽。

5.如权利要求4所述的彩色陶瓷，其特征在于，所述硬质薄膜材料为碳化物类硬质薄膜材料、氮化物类硬质薄膜材料、硼化物类硬质薄膜材料、硅化物类硬质薄膜材料、氧化物类硬质薄膜材料中的至少一种；

所述碳化物类硬质薄膜材料为类金刚石薄膜材料、B₄C薄膜材料、WC薄膜材料、TiC薄膜材料、ZrC薄膜材料、VC薄膜材料、SiC薄膜材料、MoC薄膜材料、NbC薄膜材料、Cr₃C₂薄膜材料、TaC薄膜材料中的至少一种；

所述氮化物类硬质薄膜材料为TiN薄膜材料、VN薄膜材料、TaN薄膜材料、NbN薄膜材料、ZrN薄膜材料、HfN薄膜材料、ThN薄膜材料、BN薄膜材料、AlN薄膜材料、Si₃N₄薄膜材料中的至少一种；

所述硼化物类硬质薄膜材料为TiB₂薄膜材料、VB₂薄膜材料、TaB薄膜材料、WB薄膜材料、ZrB薄膜材料、AlB薄膜材料、SiB薄膜材料、NbB₂薄膜材料、CrB₂薄膜材料、W₂B₅薄膜材料中的至少一种；

所述硅化物类硬质薄膜材料为TiSi薄膜材料、MoSi薄膜材料、ZrSi薄膜材料中的至少一种；

所述氧化物类硬质薄膜材料为Al₂O₃薄膜材料、ZrO₂薄膜材料、Cr₂O₃薄膜材料、Nb₂O₅薄膜材料中的至少一种。

6.如权利要求1所述的彩色陶瓷，其特征在于，所述彩色层的厚度为1～1500nm，所述油墨层的厚度为0～50μm。

7.如权利要求6所述的彩色陶瓷，其特征在于，所述彩色层的厚度为20～1200nm，所述油墨层的厚度为1～45μm。

8.如权利要求2所述的彩色陶瓷，其特征在于，所述SiO₂层的厚度为1～50nm，所述AF膜层的厚度为1～50nm。

9.如权利要求1～8任一项所述的彩色陶瓷，其特征在于，所述陶瓷面的粗糙度Ra为0.015～0.2μm。