CN208276735U - 一种修整器清洗机构 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种修整器清洗机构，修整器清洗机构适于设于化学机械抛光机的工作平台上，工作平台上还设有抛光盘和修整器，修整器包括固定座和修整主体，固定座固定于工作平台，修整主体与固定座枢接以使修整主体可在位于抛光盘上方的修整位置和偏离抛光盘的清洗位置之间摆动，修整器清洗机构包括：清洗主体，清洗主体设于工作平台上，且清洗主体偏离抛光盘设置，清洗主体被构造成：当修整主体位于清洗位置时，清洗主体可朝向修整主体的至少两个方位喷洒清洗液；防溅组件，防溅组件设于清洗主体上以防止清洗液飞溅至抛光盘处。根据本实用新型的修整器清洗机构，清洗效果好，且同时可避免清洗液飞溅至抛光盘上而影响抛光质量。

Description

一种修整器清洗机构

技术领域

本实用新型涉及化学机械抛光技术领域，尤其是涉及一种修整器清洗机构和具有该修整器清洗机构的化学机械抛光机。

背景技术

化学机械抛光机具有工作平台、抛光盘、修整器、抛光液输送装置、抛光垫和用于夹持待抛光晶圆的抛光头，抛光盘设于工作平台的上表面，抛光垫设于抛光盘上，修整器设于工作平台上以修整晶圆或抛光垫，抛光液输送装置设于工作平台上以朝向抛光盘输送抛光液。抛光机在进行抛光工作时，抛光液将会飞溅至修整器的表面，并且抛光液将会在修整器表面形成抛光液结晶而附着在修整器上，在修整器再次进行修整工作时，由于振动等将会使附着在修整器表面的抛光液结晶掉落在抛光盘上，进而影响晶圆的抛光质量。

由此，为了避免抛光液结晶掉落在抛光盘上而影响抛光质量，需要设置清洗装置在修整器进行修整工作之前，对修整器进行清洗，以除去附着在修整器表面上的抛光液结晶。而相关技术中的清洗装置在清洗过程中通常存在以下问题：1)清洗角度单一，即仅从一个方位对修整器进行清洗，例如仅朝向修整器的底面喷射清洗液，或仅朝向修整器的顶面喷射清洗液等，由此容易造成修整器上存在清洗不到的死角，清洗效果差；2)清洗液在对修整器进行清洗时，将会飞溅至抛光盘而影响抛光质量。

实用新型内容

本实用新型旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本实用新型提出一种修整器清洗机构，所述修整器清洗机构清洗效果好，且同时可避免清洗液飞溅至抛光盘上而影响抛光质量。

本实用新型还提出一种具有上述修整器清洗机构的化学机械抛光机。

根据本实用新型第一方面实施例的修整器清洗机构，所述修整器清洗机构适于设于化学机械抛光机的工作平台上，所述工作平台上还设有抛光盘和修整器，所述修整器包括固定座和修整主体，所述固定座固定于所述工作平台，所述修整主体与所述固定座枢接以使所述修整主体可在位于所述抛光盘上方的修整位置和偏离所述抛光盘的清洗位置之间摆动，所述修整器清洗机构包括：清洗主体，所述清洗主体设于所述工作平台上，且所述清洗主体偏离所述抛光盘设置，所述清洗主体被构造成：当所述修整主体位于所述清洗位置时，所述清洗主体可朝向所述修整主体的至少两个方位喷洒清洗液；防溅组件，所述防溅组件设于所述清洗主体上以防止所述清洗液飞溅至所述抛光盘处。

根据本实用新型实施例的修整器清洗机构，通过使清洗主体可朝向修整主体的至少两个方位喷洒清洗液，即可从多个方位对修整主体进行清洗，清洗覆盖范围更大，清洗更加全面，避免修整器上存在清洗不到的死角，清洗效果好，且同时通过设置防溅组件可避免清洗液飞溅至抛光盘上而影响抛光质量。

另外，根据本实用新型实施例的修整器清洗机构还可以具有如下附加技术特征：

根据本实用新型的一个实施例，所述清洗主体包括沿水平方向延伸的上喷杆，当所述修整主体位于所述清洗位置时，所述修整主体位于所述上喷杆的下方，所述上喷杆内限定出沿其长度方向延伸的上流道，所述上喷杆设有与所述上流道连通的第一进口和至少一个第一出口，所述第一进口与清洗液源连通，所述第一出口设有用于向下喷洒所述清洗液的第一喷嘴。

根据本实用新型的一个实施例，所述防溅组件包括两个第一挡板，两个所述第一挡板分别设于所述第一喷嘴的两侧，每个所述第一挡板的一端与所述上喷杆相连，每个所述第一挡板的另一端朝向所述修整主体的上表面延伸。

根据本实用新型的一个实施例，所述清洗主体包括沿水平方向延伸的下喷杆，当所述修整主体位于所述清洗位置时，所述修整主体位于所述下喷杆的上方，所述下喷杆内限定出沿其长度方向延伸的下流道，所述下喷杆设有与所述下流道连通的第二进口和至少一个第二出口，所述第二进口与清洗液源连通，所述第二出口设有用于向上喷洒所述清洗液的第二喷嘴。

根据本实用新型的一个实施例，所述防溅组件包括两个第二挡板，两个所述第二挡板分别设于所述第二喷嘴的两侧，每个所述第二挡板的一端与所述下喷杆相连，每个所述第二挡板的另一端朝向所述修整主体的下表面延伸。

根据本实用新型的一个实施例，所述修整主体包括悬臂和修整头，所述修整头设于所述悬臂的一端，所述悬臂的另一端与所述固定座枢接，所述清洗主体包括沿竖向延伸的侧喷杆，当所述修整主体位于所述清洗位置时，所述修整头位于所述侧喷杆的左侧，所述侧喷杆内限定出沿其长度方向延伸的侧流道，所述侧喷杆上设有与所述侧流道连通的第三进口和至少一个第三出口，所述第三进口与清洗液源连通，所述第三出口设有用于向左喷洒所述清洗液的第三喷嘴。

根据本实用新型的一个实施例，所述防溅组件包括两个第三挡板，两个所述第三挡板分别设于所述第三喷嘴的两侧，每个所述第三挡板的一端与所述侧喷杆相连，每个所述第三挡板的另一端朝向所述修整头延伸。

根据本实用新型的一个实施例，所述第一进口设有第一流量调节阀

根据本实用新型的一个实施例，所述第二进口设有第二流量调节阀。

根据本实用新型的一个实施例，所述第三进口设有第三流量调节阀。

根据本实用新型第二方面实施例的化学机械抛光机，包括根据本实用新型上述第一方面实施例的修整器清洗机构。

根据本实用新型实施例的化学机械抛光机，通过设置根据本实用新型上述第一方面实施例的修整器清洗机构，从而使得化学机械抛光机具有上述修整器清洗机构具有的全部优点，这里不再赘述。

本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本实用新型的实践了解到。

附图说明

本实用新型的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1是根据本实用新型实施例的修整器清洗机构的剖视图；

图2是根据本实用新型实施例的修整器清洗机构用于清洗修整器的示意图；

图3是根据本实用新型实施例的修整器清洗机构的下喷杆的结构示意图；

图4是根据本实用新型实施例的修整器清洗机构的侧喷杆的结构示意图；

图5是根据本实用新型实施例的修整器清洗机构的流量调节阀的结构示意图；

图6是图1中A处的放大图；

图7是图1中B处的放大图。

附图标记：

修整器清洗机构100；

清洗主体1；上喷杆11；上流道111；第一进口1111；第一喷嘴1112；

下喷杆12；下流道121；第二进口1211；第二出口1212；第二喷嘴1213；

侧喷杆13；侧流道131；第三进口1311；第三出口1312；第三喷嘴1313；上连接口1314；下连接口1315；

防溅组件2；第一挡板21；第二挡板22；高挡板221；低挡板222；第三挡板23；

第一流量调节阀101；第二流量调节阀102；通孔103；外周面104；间隙105；清洗液106；内周面107；

修整器200；固定座201；修整主体202；悬臂2021；修整头2022。

具体实施方式

下面详细描述本实用新型的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本实用新型，而不能理解为对本实用新型的限制。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“轴向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

下面参考图1-图7描述根据本实用新型第一方面实施例的修整器清洗机构100。首先需要说明的是，修整器清洗机构100适于设于化学机械抛光机的工作平台上，化学机械抛光机还包括抛光盘、修整器200、抛光液输送装置、抛光垫和用于夹持待抛光晶圆的抛光头，抛光盘设于工作平台的上表面，抛光垫设于抛光盘上，修整器200设于工作平台上以修整晶圆或抛光垫，抛光液输送装置设于工作平台上以朝向抛光盘输送抛光液，修整器200包括固定座201和修整主体202，固定座201固定于工作平台，修整主体202与固定座201枢接以使修整主体202可在位于抛光盘上方的修整位置和偏离抛光盘的清洗位置之间摆动。当修整主体202位于修整位置时，此时修整主体202可对晶圆或抛光垫的位置进行修整，在修整器200工作过程中，抛光液将会飞溅至修整主体202的表面，并且抛光液将会在修整主体202表面形成抛光液结晶而附着在修整器200上；当修整主体202位于清洗位置时，修整器清洗机构100将会对修整主体202进行清洗以清除附着在修整主体202表面上的抛光液结晶，以避免在修整器200再次进行修整工作时，修整主体202表面的抛光液结晶掉落在抛光盘上而影响晶圆的抛光质量。

如图1-图2所示，根据本实用新型实施例的修整器清洗机构100包括：清洗主体1和防溅组件2。

清洗主体1设于工作平台上，且清洗主体1偏离抛光盘设置，清洗主体1被构造成：当修整主体202位于清洗位置时，清洗主体1可朝向修整主体202的至少两个方位喷洒清洗液106，例如可以同时朝向修整主体202的底面和顶面喷洒清洗液106，或者同时朝向修整主体202的底面和侧面喷洒清洗液106，或者可以同时朝向修整主体202的顶面和侧面喷洒清洗液106，再或者同时朝向修整主体202的顶面、底面和侧面喷洒清洗液106，通过朝向修整主体202的至少两个方位喷洒清洗液106，从而实现从多个方位对修整主体202进行清洗，清洗覆盖范围更大，清洗更加全面，避免修整器200上存在清洗不到的死角，附着在修整主体202表面的抛光液结晶可被清除干净，清洗效果好。需要说明的是，本申请中所述的“清洗液106”的类型可以根据需要任意选定，例如可以为水等。

现有技术中的修整器清洗机构在对修整器进行清洗时，一方面，清洗液将会飞溅至抛光盘处而稀释抛光液；另一方面，修整器上的被清洗液冲刷掉的抛光液结晶也会飞溅至抛光盘上，从而影响抛光质量。

为了解决上述问题，本申请中的修整器清洗机构100还包括防溅组件2，防溅组件2设于清洗主体1上以防止清洗液106飞溅至抛光盘处而稀释抛光液，同时也可避免修整器200上的被清洗液106冲刷掉的抛光液结晶飞溅至抛光盘处，从而保证抛光质量。

根据本实用新型实施例的修整器清洗机构100，通过使清洗主体1可朝向修整主体202的至少两个方位喷洒清洗液106，即可从多个方位对修整主体202进行清洗，清洗覆盖范围更大，清洗更加全面，避免修整器200上存在清洗不到的死角，清洗效果好，同时通过设置防溅组件2，可以避免清洗液106飞溅至抛光盘处而稀释抛光液，同时也可避免修整器200上的被清洗液106冲刷掉的抛光液结晶飞溅至抛光盘处，从而保证抛光质量。

在本实用新型的一个实施例中，如图1-图2中所示，清洗主体1包括沿水平方向延伸的上喷杆11，当修整主体202位于清洗位置时，修整主体202位于上喷杆11的下方，上喷杆11内限定出沿其长度方向延伸的上流道111，上喷杆11设有与上流道111连通的第一进口1111和至少一个第一出口，第一进口1111与清洗液源连通，清洗液106通过第一进口1111流入上流道111内，第一出口设有用于向下喷洒清洗液106的第一喷嘴1112，即通过第一喷嘴1112将上流道111内的清洗液106向下喷洒至修整主体202的顶面，以冲刷掉修整主体202上的抛光液结晶，清洗主体1结构简单且清洗效果好。

优选地，如图1-图2中所示，第一出口包括沿上喷杆11长度方向依次间隔设置的多个，每个第一出口处均设有一个第一喷嘴1112，通过设置多个第一喷嘴1112，可以使得清洗主体1对修整主体202的冲刷范围更大，清洗效果更好。

可选地，如图6中所示，第一进口1111设有第一流量调节阀101，由此可以调节上流道111内的清洗液106的量和压力，进而调节第一喷嘴1112的喷射量和喷射压力，由此使得修整器清洗机构100的适用性更好。

进一步地，如图1和图2中所示，防溅组件2包括两个第一挡板21，两个第一挡板21分别设于第一喷嘴1112的两侧，每个第一挡板21的一端(如图1-图2中所示的上端)与上喷杆11相连，每个第一挡板21的另一端(如图1-图2中所示的下端)朝向修整主体202的上表面延伸，由此可以避免由第一喷嘴1112喷洒出的清洗液106飞溅至抛光盘上，同时避免冲刷掉的抛光液结晶飞溅至抛光盘上。

在本实用新型的一个实施例中，如图1-图3中所示，清洗主体1包括沿水平方向延伸的下喷杆12，当修整主体202位于清洗位置时，修整主体202位于下喷杆12的上方，下喷杆12内限定出沿其长度方向延伸的下流道121，下喷杆12设有与下流道121连通的第二进口1211和至少一个第二出口1212，第二进口1211与清洗液源连通，清洗液106通过第二进口1211进入下流道121，第二出口1212设有用于向上喷洒清洗液106的第二喷嘴1213，通过第二喷嘴1213将下流道121内的清洗液106向上喷洒至修整主体202的底面，以冲刷掉修整主体202上的抛光液结晶，清洗主体1结构简单且清洗效果好。

优选地，如图1-图3中所示，第二出口1212包括沿下喷杆12长度方向依次间隔设置的多个，每个第二出口1212处均设有一个第二喷嘴1213，通过设置多个第二喷嘴1213，可以使得清洗主体1对修整主体202的冲刷范围更大，清洗效果更好。

可选地，如图7中所示，第二进口1211设有第二流量调节阀102，由此可以调节下流道121内的清洗液106的量和压力，进而调节第二喷嘴1213的喷射量和喷射压力，由此使得修整器清洗机构100的适用性更好。

进一步地，如图1和图2中所示，防溅组件2包括两个第二挡板22，两个第二挡板22分别设于第二喷嘴1213的两侧，每个第二挡板22的一端(如图1和图2中所示的下端)与下喷杆12相连，每个第二挡板22的另一端(如图1和图2中所示的上端)朝向修整主体202的下表面延伸，由此可以避免由第二喷嘴1213喷洒出的清洗液106飞溅至抛光盘上，同时避免冲刷掉的抛光液结晶飞溅至抛光盘上。

在本实用新型的一个实施例中，如图1-图2以及图4中所示，修整主体202包括悬臂2021和修整头2022，修整头2022设于悬臂2021的一端(如图2中所示的右端)，悬臂2021的另一端(如图2中所示的左端)与固定座201枢接，清洗主体1包括沿竖向延伸的侧喷杆13，当修整主体202位于清洗位置时，修整头2022位于侧喷杆13的左侧，侧喷杆13内限定出沿其长度方向延伸的侧流道131，侧喷杆13上设有与侧流道131连通的第三进口1311和至少一个第三出口1312，第三进口1311与清洗液源连通，清洗液106通过第三进口1311进入侧流道131内，第三出口1312设有用于向左喷洒清洗液106的第三喷嘴1313，即通过第三喷嘴1313将侧流道131内的清洗液106向左喷洒至修整头2022的侧面，以冲刷掉修整头2022上的抛光液结晶，清洗主体1结构简单且清洗效果好。

优选地，如图1-图2以及图4中所示，第三出口1312包括沿侧喷杆13长度方向依次间隔设置的多个，每个第三出口1312处均设有一个第三喷嘴1313，通过设置多个第三喷嘴1313，可以使得清洗主体1对修整头2022的冲刷范围更大，清洗效果更好。

可选地，第三进口1311设有第三流量调节阀(图未示出)，由此可以调节侧流道131内的清洗液106的量和压力，进而调节第三喷嘴1313的喷射量和喷射压力，由此使得修整器清洗机构100的适用性更好。

进一步地，如图1-图2中所示，防溅组件2包括两个第三挡板23，两个第三挡板23分别设于第三喷嘴1313的两侧，每个第三挡板23的一端(如图1-图2中所示的右端)与侧喷杆13相连，每个第三挡板23的另一端(如图1-图2中所示的左端)朝向修整头2022延伸，由此可以避免由第三喷嘴1313喷洒出的清洗液106飞溅至抛光盘上，同时避免冲刷掉的抛光液结晶飞溅至抛光盘上。

在本实用新型的一个具体实施例中，如图1-图5中所示，清洗主体1包括上述上喷杆11、下喷杆12和侧喷杆13，上喷杆11和下喷杆12均沿左右方向延伸，侧喷杆13沿竖向延伸，上喷杆11间隔设于下喷杆12的上方，第一出口设于上喷杆11的底部，第二出口1212设于下喷杆12的顶部，第三出口1312设于侧喷杆13的左侧，第一进口1111设于上喷杆11的右端部，第二进口1211设于下喷杆12的右端部，第三进口1311设于侧喷杆13的下端部，侧喷杆13的左侧还设有上连接口1314和下连接口1315，第三出口1312位于上连接口1314和下连接口1315之间，上喷杆11和下喷杆12均连接于侧喷杆13的左侧，且第一进口1111和第一连接口对接，第二进口1211和第二连接口对接，第三进口1311连通清洗液源，即清洗液106通过第三进口1311进入侧流道131内，侧流道131内的清洗液106通过第一连接口和第一进口1111进入上流道111内，同时侧流道131内的清洗液106还可以通过第二连接口和第二进口1211进入下流道121内，当修整主体202位于清洗位置时，上喷杆11位于修整主体202的正上方，下喷杆12位于修整主体202的正下方，侧喷杆13位于修整主体202的右侧，第一喷嘴1112向下喷洒清洗液106，第二喷嘴1213向上喷洒清洗液106，第三喷嘴1313向左喷洒清洗液106，即修整主体202的上、下和右侧均受到清洗液106的冲刷，修整主体202表面冲刷范围覆盖完整，清洗效果好。

进一步地，如图6和图7中所示，第一进口1111设有第一流量调节阀101，第二进口1211设有第二流量调节阀102，第一流量调节阀101和第二流量调节阀102均形成圆柱状结构，第一流量调节阀101和第二流量调节阀102均具有在其轴向上贯通的通孔103，第一流量调节阀101的外周面104与第一进口1111的内周面107贴合，第一流量调节阀101的通孔103分别与上流道111和侧流道131连通，第二流量调节阀102的外周面104与第二进口1211的内周面107贴合，第二流量调节阀102的通孔103分别与下流道121和侧流道131连通。通过更换通孔103孔径不同的调节阀，可以调节第一喷嘴1112和第二喷嘴1213的喷射量和喷射压力，具体地，通孔103孔径越大，第一喷嘴1112和第二喷嘴1213的喷射量和喷射压力越大，通孔103孔径越小，第一喷嘴1112和第二喷嘴1213的喷射量和喷射压力越小。

进一步地，防溅组件2包括上述两个第一挡板21、两个第二挡板22和两个第三挡板23，可以理解地，第一挡板21、第二挡板22和第三挡板23与修整主体202之间具有间隙105，以保证修整主体202可在修整位置和清洗位置之间摆动，所述间隙105越小，防溅组件2的防溅效果越好。

如图2中所示，修整主体202包括悬臂2021和修整头2022，修整头2022的部分结构向下凸出于悬臂2021，为了使得第二挡板22与修整主体202之间配合更加紧凑(即避免第二挡板22与修整主体202之间的间隙105过大)，以更好地避免清洗液106或冲刷掉的抛光液结晶飞溅至抛光盘上，每个第二挡板22均包括高挡板221和低挡板222，每个高挡板221的下端与下喷杆12相连，每个高挡板221的上端朝向悬臂2021下表面延伸，每个低挡板222的下端与下喷杆12相连，每个低挡板222的上端朝向修整头2022的下表面延伸，高挡板221用于防止冲刷悬臂2021下表面的清洗液106飞溅，低挡板222用于防止冲刷修整头2022下表面的清洗液106飞溅，高挡板221的高度大于低挡板222的高度，由此可以避免悬臂2021的下表面与第二挡板22之间的间隙105过大，而影响第二挡板22的防溅效果。

在上述的实施例中，参照图1-图2所示，通过第一进口1111和第一连接口、第二进口1211和第二连接口直接对接，而实现侧流道131与上流道111以及侧流道131和下流道121之间的连通，当然本申请并不限于此，在其他示例中，第一进口1111和第一连接口之间，以及第二进口1211和第二连接口之间还可以通过连接管相连，流量调节阀设于连接管上，通过连接管实现第一进口1111和第一连接口、以及第二进口1211和第二连接口之间的连接，使得修整器清洗机构100的结构设计更加灵活。

根据本实用新型第二方面实施例的化学机械抛光机，包括根据本实用新型上述第一方面实施例的修整器清洗机构100。

根据本实用新型实施例的化学机械抛光机，通过设置根据本实用新型上述第一方面实施例的修整器清洗机构100，从而使得化学机械抛光机具有上述修整器清洗机构100具有的全部优点，这里不再赘述。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示意性实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，本领域的普通技术人员可以理解：在不脱离本实用新型的原理和宗旨的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由权利要求及其等同物限定。

Claims (11)

1.一种修整器清洗机构，其特征在于，所述修整器清洗机构适于设于化学机械抛光机的工作平台上，所述工作平台上还设有抛光盘和修整器，所述修整器包括固定座和修整主体，所述固定座固定于所述工作平台，所述修整主体与所述固定座枢接以使所述修整主体可在位于所述抛光盘上方的修整位置和偏离所述抛光盘的清洗位置之间摆动，所述修整器清洗机构包括：

清洗主体，所述清洗主体设于所述工作平台上，且所述清洗主体偏离所述抛光盘设置，所述清洗主体被构造成：当所述修整主体位于所述清洗位置时，所述清洗主体可朝向所述修整主体的至少两个方位喷洒清洗液；

防溅组件，所述防溅组件设于所述清洗主体上以防止所述清洗液飞溅至所述抛光盘处。

2.根据权利要求1所述的修整器清洗机构，其特征在于，所述清洗主体包括沿水平方向延伸的上喷杆，当所述修整主体位于所述清洗位置时，所述修整主体位于所述上喷杆的下方，所述上喷杆内限定出沿其长度方向延伸的上流道，所述上喷杆设有与所述上流道连通的第一进口和至少一个第一出口，所述第一进口与清洗液源连通，所述第一出口设有用于向下喷洒所述清洗液的第一喷嘴。

3.根据权利要求2所述的修整器清洗机构，其特征在于，所述防溅组件包括两个第一挡板，两个所述第一挡板分别设于所述第一喷嘴的两侧，每个所述第一挡板的一端与所述上喷杆相连，每个所述第一挡板的另一端朝向所述修整主体的上表面延伸。

4.根据权利要求1所述的修整器清洗机构，其特征在于，所述清洗主体包括沿水平方向延伸的下喷杆，当所述修整主体位于所述清洗位置时，所述修整主体位于所述下喷杆的上方，所述下喷杆内限定出沿其长度方向延伸的下流道，所述下喷杆设有与所述下流道连通的第二进口和至少一个第二出口，所述第二进口与清洗液源连通，所述第二出口设有用于向上喷洒所述清洗液的第二喷嘴。

5.根据权利要求4所述的修整器清洗机构，其特征在于，所述防溅组件包括两个第二挡板，两个所述第二挡板分别设于所述第二喷嘴的两侧，每个所述第二挡板的一端与所述下喷杆相连，每个所述第二挡板的另一端朝向所述修整主体的下表面延伸。

6.根据权利要求1所述的修整器清洗机构，其特征在于，所述修整主体包括悬臂和修整头，所述修整头设于所述悬臂的一端，所述悬臂的另一端与所述固定座枢接，所述清洗主体包括沿竖向延伸的侧喷杆，当所述修整主体位于所述清洗位置时，所述修整头位于所述侧喷杆的左侧，所述侧喷杆内限定出沿其长度方向延伸的侧流道，所述侧喷杆上设有与所述侧流道连通的第三进口和至少一个第三出口，所述第三进口与清洗液源连通，所述第三出口设有用于向左喷洒所述清洗液的第三喷嘴。

7.根据权利要求6所述的修整器清洗机构，其特征在于，所述防溅组件包括两个第三挡板，两个所述第三挡板分别设于所述第三喷嘴的两侧，每个所述第三挡板的一端与所述侧喷杆相连，每个所述第三挡板的另一端朝向所述修整头延伸。

8.根据权利要求2或3所述的修整器清洗机构，其特征在于，所述第一进口设有第一流量调节阀。

9.根据权利要求4或5所述的修整器清洗机构，其特征在于，所述第二进口设有第二流量调节阀。

10.根据权利要求6或7所述的修整器清洗机构，其特征在于，所述第三进口设有第三流量调节阀。

11.一种化学机械抛光机，其特征在于，包括根据权利要求1-10中任一项所述的修整器清洗机构。