CN208266294U - 一种新型表面处理挂架 - Google Patents

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Abstract

本实用新型公开了一种新型表面处理挂架,包括支撑架和安装于所述支撑架顶部的安装架,待处理工件通过夹持机构固定于所述支撑架,所述安装架挂接预定于工作场地的顶部横梁或墙壁横梁上;所述夹持机构包括至少两组导电夹持组件,各所述导电夹持组件沿所述支撑架的宽度方向均布;所述导电夹持组件包括沿所述支撑架的宽度方向并列布置的第一导电杆和第二导电杆,以及沿轴向安装于所述第一导电杆上的至少两个第一挂钩和沿轴向安装于所述第二导电杆上的至少两个第二挂钩;其专门针对矩阵式产品的表面处理,使得矩阵式产品的镀层的均匀性、一致性得以提升,外观品质得到保证。

Description

一种新型表面处理挂架
技术领域
本实用新型涉及表面处理辅助设备技术领域,尤其涉及一种新型表面处理挂架。
背景技术
随着电子产品的飞速发展,用户除了对使用性能(电性)要求越来越高外,对产品的外观要求也越来越高,对产品镀层的厚度要求也越来越高。目前市场上使用的挂架大部分都是两边导电并且采用的是直线式挂钩,这样的挂架并不适合矩阵式的产品,因为这样的挂架电流不均匀,导致锡离子分布不均匀,进而使得镀层厚度不均匀,影响产品的外观品质。
实用新型内容
本实用新型的目的是为了解决上述存在的至少一个问题,该目的是通过以下技术方案实现的。
本实用新型提供了一种新型表面处理挂架,包括支撑架和安装于所述支撑架顶部的安装架,待处理工件通过夹持机构固定于所述支撑架,所述安装架挂接预定于工作场地的顶部横梁或墙壁横梁上;
所述支撑架包括顶架、底架和用于连接所述顶架和底架的两个端部竖架;
所述夹持机构包括至少两组导电夹持组件,各所述导电夹持组件沿所述支撑架的宽度方向均布;
所述导电夹持组件包括沿所述支撑架的宽度方向并列布置的第一导电杆和第二导电杆,以及沿轴向安装于所述第一导电杆上的至少两个第一挂钩和沿轴向安装于所述第二导电杆上的至少两个第二挂钩;
所述第一导电杆的顶端固接于所述顶架,其底端固接于所述底架,所述第二导电杆的顶端固接于所述顶架,其底端固接于所述底架;
任一所述第一挂钩勾住所述待处理工件的第一侧的顶端,其下方与之相邻的另一所述第一挂钩勾住所述待处理工件的第一侧的底端;任一所述第二挂钩勾住所述待处理工件的第二侧的顶端,其下方与之相邻的另一所述第二挂钩勾住所述待处理工件的第二侧底端。
进一步地,所述顶架包括方形顶框架和安装于所述方形顶框架的顶部加强杆,所述顶部加强杆沿所述支撑架的宽度方向延伸,且各所述第一导电杆的顶端和/或所述第二导电杆的顶端均固接于所述顶部加强杆。
进一步地,所述顶部加强杆上开设有沿其长度方向延伸的顶部滑槽;
所述第一导电杆的顶端卡设于所述顶部滑槽内并能够沿所述顶部滑槽滑动,且/或,所述第二导电杆的顶端卡设于所述顶部滑槽内并能够沿所述顶部滑槽滑动。
进一步地,所述底架包括方形底框架和安装于所述方形底框架的底部加强杆,所述底部加强杆沿所述支撑架的宽度方向延伸,且各所述第一导电杆的底端和/或所述第二导电杆的底端均固接于所述底部加强杆。
进一步地,所述底部加强杆上开设有沿其长度方向延伸的底部滑槽;
所述第一导电杆的底端卡设于所述底部滑槽内并能够沿所述底部滑槽滑动,且/或,所述第二导电杆的底端卡设于所述底部滑槽内并能够沿所述底部滑槽滑动。
进一步地,所述支撑架还包括中部支撑梁,所述中部支撑梁的一端固接于一侧的所述竖架,所述中部支撑梁的另一端固接于另一侧的所述竖架。
进一步地,各所述第一导电杆和/或所述第二导电杆均为铜杆。
本实用新型所提供的新型表面处理挂架专门针对矩阵式产品的表面处理,使得矩阵式产品的镀层的均匀性、一致性得以提升,外观品质得到保证。其通过在挂架上安装至少四根导电管,并将各导电杆均匀地分布在支撑架上,从而使得导电的效果得到明显改善,很大程度上降低了返工率,使得电流能够更加均匀地分布在整个支撑架上,让支撑架的各个区域电流均衡,进而使得锡离子能够很好的吸附在各个区域的产品上,从而保证锡层厚度的均匀性;同时,待处理工件在处理过程中平展地挂在四个挂钩上,增加了待处理工件与支撑架的接触点,保证了待处理工件的平展度和挂接稳定性,使得电流从四个不同的方向接触到待处理工件,可以让待处理工件从四个不同的方向上锡,让锡离子分布得更加均匀,进一步保证了上锡的一致性;另外,待处理工件由原来的竖挂在挂架上改为平铺的挂在支撑架上,使得待处理工件之间不会存在锡离子被遮挡住的情况,提高了镀锡均匀性,相邻待处理工件的前后左右均无遮挡的东西,锡离子就不会被阻挡,就会很均匀地上锡,从而避免了待处理工件的镀层一边厚一边薄的情况,保证了材料镀层厚度的一致性。
附图说明
通过阅读下文优选实施方式的详细描述,各种其他的优点和益处对于本领域普通技术人员将变得清楚明了。附图仅用于示出优选实施方式的目的,而并不认为是对本实用新型的限制。而且在整个附图中,用相同的参考符号表示相同的部件。在附图中:
图1为本实用新型所提供的新型表面处理挂架的一种具体实施方式的结构示意图;
图2为图1所示表面处理挂架的侧视图。
附图标记说明:
100-支撑架
200-安装架
301-第一导电杆
302-第二导电杆
400-待处理工件
具体实施方式
下面将参照附图更详细地描述本公开的示例性实施方式。虽然附图中显示了本公开的示例性实施方式,然而应当理解,可以以各种形式实现本公开而不应被这里阐述的实施方式所限制。相反,提供这些实施方式是为了能够更透彻地理解本公开,并且能够将本公开的范围完整的传达给本领域的技术人员。
请参考图1和图2,图1为本实用新型所提供的新型表面处理挂架的一种具体实施方式的结构示意图;图2为图1所示表面处理挂架的侧视图。
在一种具体实施方式中,本实用新型提供了的新型表面处理挂架用于矩阵式材料的镀锡工艺中,该表面处理挂架包括支撑架100和安装于所述支撑架100顶部的安装架200,待处理工件400通过夹持机构固定于所述支撑架100,所述安装架200挂接预定于工作场地的顶部横梁或墙壁横梁上;其中,所述支撑架100包括顶架、底架和用于连接所述顶架和底架的两个端部竖架;所述夹持机构包括至少两组导电夹持组件,各所述导电夹持组件沿所述支撑架100的宽度方向均布;所述导电夹持组件包括沿所述支撑架100的宽度方向并列布置的第一导电杆301和第二导电杆302,以及沿轴向安装于所述第一导电杆301上的至少两个第一挂钩和沿轴向安装于所述第二导电杆302上的至少两个第二挂钩;所述第一导电杆301的顶端固接于所述顶架,其底端固接于所述底架,所述第二导电杆302的顶端固接于所述顶架,其底端固接于所述底架;任一所述第一挂钩勾住所述待处理工件400的第一侧的顶端,其下方与之相邻的另一所述第一挂钩勾住所述待处理工件400的第一侧的底端;任一所述第二挂钩勾住所述待处理工件400的第二侧的顶端,其下方与之相邻的另一所述第二挂钩勾住所述待处理工件400的第二侧底端。
应当理解的是,在工作过程中,至少各个导电夹持组件是通电的,导电夹持组件至少有两组,每组中均包括有第一导电杆301和第二导电杆302,则总的导电杆至少有四个。在第一导电杆301上设置有多个第一挂钩,第一挂钩的数量和相邻两个第一挂钩支之间的距离可根据工件规格确定,各第一挂钩还可以设置在在第一导电杆301上位置可调的结构形式;相应地,第二导电杆302上设置有多个第二挂钩,第二挂钩的数量和位置与第一挂钩的数量和位置相匹配,即两者的数量相等,相对应设置的第一挂钩和第二挂钩处于同一水平面上,这样,相邻的两个第一挂钩、与该两个第一挂钩分别相匹配的相邻的两个第二挂钩之间形成一个四边形的挂接范围,在同一个导电夹组件中可以存在多个挂接范围。
本实用新型所提供的新型表面处理挂架专门针对矩阵式产品的表面处理,使得矩阵式产品的镀层的均匀性、一致性得以提升,外观品质得到保证。其通过在挂架上安装至少四根导电管,并将各导电杆均匀地分布在支撑架100上,从而使得导电的效果得到明显改善,很大程度上降低了返工率,使得电流能够更加均匀地分布在整个支撑架100上,让支撑架100的各个区域电流均衡,进而使得锡离子能够很好的吸附在各个区域的产品上,从而保证锡层厚度的均匀性;同时,待处理工件400在处理过程中平展地挂在四个挂钩上,增加了待处理工件400与支撑架100的接触点,保证了待处理工件400的平展度和挂接稳定性,使得电流从四个不同的方向接触到待处理工件400,可以让待处理工件400从四个不同的方向上锡,让锡离子分布得更加均匀,进一步保证了上锡的一致性;另外,待处理工件400由原来的竖挂在挂架上改为平铺的挂在支撑架100上,使得待处理工件400之间不会存在锡离子被遮挡住的情况,提高了镀锡均匀性,相邻待处理工件400的前后左右均无遮挡的东西,锡离子就不会被阻挡,就会很均匀地上锡,从而避免了待处理工件400的镀层一边厚一边薄的情况,保证了材料镀层厚度的一致性。
具体地,所述顶架包括方形顶框架和安装于所述方形顶框架的顶部加强杆,所述顶部加强杆沿所述支撑架100的宽度方向延伸,且各所述第一导电杆301的顶端和/或所述第二导电杆302的顶端均固接于所述顶部加强杆;同时,所述底架包括方形底框架和安装于所述方形底框架的底部加强杆,所述底部加强杆沿所述支撑架100的宽度方向延伸,且各所述第一导电杆301的底端和/或所述第二导电杆302的底端均固接于所述底部加强杆,以进一步提高导电杆的安装可靠性和稳定性。
在实际使用过程中,待处理工件400的尺寸规格可能有所差异,为了提高挂架的适用范围,使得其既能够挂接宽度较窄的工件,又能够挂接宽度较宽的工件,可以将第一导电杆301或/和第二导电杆302设计为可移动的形式,以便根据工件的规格调整第一导电杆301和第二导电杆302之间的距离。
具体地,所述顶部加强杆上开设有沿其长度方向延伸的顶部滑槽;所述第一导电杆301的顶端卡设于所述顶部滑槽内并能够沿所述顶部滑槽滑动,且/或,所述第二导电杆302的顶端卡设于所述顶部滑槽内并能够沿所述顶部滑槽滑动;同时,所述底部加强杆上开设有沿其长度方向延伸的底部滑槽;所述第一导电杆301的底端卡设于所述底部滑槽内并能够沿所述底部滑槽滑动,且/或,所述第二导电杆302的底端卡设于所述底部滑槽内并能够沿所述底部滑槽滑动。
进一步地,为了提高支撑架100的稳定性,所述支撑架100还包括中部支撑梁,所述中部支撑梁的一端固接于一侧的所述竖架,所述中部支撑梁的另一端固接于另一侧的所述竖架。
应当指出的是,各所述第一导电杆301和/或所述第二导电杆302均为铜杆,由于铜具有较好的导电性能,因此,选用铝材能够保证导电性能。
应当理解的是,尽管可以在文中使用术语第一、第二、第三等来描述多个元件、部件、区域、层和/或部段,但是,这些元件、部件、区域、层和/或比段不应被这些术语所限制。这些术语可以仅用来将一个元件、部件、区域、层或部段与另一区域、层或部段区分开。除非上下文明确地指出,否则诸如“第一”、“第二”之类的术语以及其它数字术语在文中使用时并不暗示顺序或者次序。
以上所述,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,可轻易想到的变化或替换,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此,本实用新型的保护范围应所述以权利要求的保护范围为准。

Claims (7)

1.一种新型表面处理挂架,其特征在于,包括支撑架和安装于所述支撑架顶部的安装架,待处理工件通过夹持机构固定于所述支撑架,所述安装架挂接预定于工作场地的顶部横梁或墙壁横梁上;
所述支撑架包括顶架、底架和用于连接所述顶架和底架的两个端部竖架;
所述夹持机构包括至少两组导电夹持组件,各所述导电夹持组件沿所述支撑架的宽度方向均布;
所述导电夹持组件包括沿所述支撑架的宽度方向并列布置的第一导电杆和第二导电杆,以及沿轴向安装于所述第一导电杆上的至少两个第一挂钩和沿轴向安装于所述第二导电杆上的至少两个第二挂钩;
所述第一导电杆的顶端固接于所述顶架,其底端固接于所述底架,所述第二导电杆的顶端固接于所述顶架,其底端固接于所述底架;
任一所述第一挂钩勾住所述待处理工件的第一侧的顶端,其下方与之相邻的另一所述第一挂钩勾住所述待处理工件的第一侧的底端;任一所述第二挂钩勾住所述待处理工件的第二侧的顶端,其下方与之相邻的另一所述第二挂钩勾住所述待处理工件的第二侧底端。
2.根据权利要求1所述的新型表面处理挂架,其特征在于,所述顶架包括方形顶框架和安装于所述方形顶框架的顶部加强杆,所述顶部加强杆沿所述支撑架的宽度方向延伸,且各所述第一导电杆的顶端和/或所述第二导电杆的顶端均固接于所述顶部加强杆。
3.根据权利要求2所述的新型表面处理挂架,其特征在于,所述顶部加强杆上开设有沿其长度方向延伸的顶部滑槽;
所述第一导电杆的顶端卡设于所述顶部滑槽内并能够沿所述顶部滑槽滑动,且/或,所述第二导电杆的顶端卡设于所述顶部滑槽内并能够沿所述顶部滑槽滑动。
4.根据权利要求1所述的新型表面处理挂架,其特征在于,所述底架包括方形底框架和安装于所述方形底框架的底部加强杆,所述底部加强杆沿所述支撑架的宽度方向延伸,且各所述第一导电杆的底端和/或所述第二导电杆的底端均固接于所述底部加强杆。
5.根据权利要求4所述的新型表面处理挂架,其特征在于,所述底部加强杆上开设有沿其长度方向延伸的底部滑槽;
所述第一导电杆的底端卡设于所述底部滑槽内并能够沿所述底部滑槽滑动,且/或,所述第二导电杆的底端卡设于所述底部滑槽内并能够沿所述底部滑槽滑动。
6.根据权利要求1所述的新型表面处理挂架,其特征在于,所述支撑架还包括中部支撑梁,所述中部支撑梁的一端固接于一侧的所述竖架,所述中部支撑梁的另一端固接于另一侧的所述竖架。
7.根据权利要求1-6任一项所述的新型表面处理挂架,其特征在于,各所述第一导电杆和/或所述第二导电杆均为铜杆。
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