CN214142524U - 用于磁控溅射设备倒置的固定多个基片的夹具 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及磁控溅射设备技术领域，且公开了用于磁控溅射设备倒置的固定多个基片的夹具，包括支架，所述支架的内侧右上端设置有导向滑轨，所述导向滑轨的底部连接有滑块，所述滑块的前端面上设置有连接块，所述连接块的底部连接有连接板，所述连接板的左下侧连接有固定件，所述滑块的右端连接有气缸，所述气缸的右端与支架相连接，所述滑块的左端连接有连杆，所述连杆的左上端与连接件的底部相连接，本实用新型夹具中固定件是夹紧在基片的两侧，因此，在多个基片倒置的情况下，也不会发生基片跌落，能够顺利地完成磁控溅射镀膜过程，另外由于固定件的底面与基片的底面是平齐的，可以防止产生遮挡、电场不均等现象。
Description
技术领域
本实用新型涉及磁控溅射设备技术领域，具体为用于磁控溅射设备倒置的固定多个基片的夹具。
背景技术
磁控溅射是物理气相沉积的一种，一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，在磁控溅射时，会使用到固定基片的夹具，虽然夹具的种类有很多，但是依然无法满足使用者的需求。
现有的夹具，在使用时，在多个基片倒置的情况下，容易发生基片跌落，无法顺利地完成磁控溅射镀膜过程，另外现有的夹具由于固定件的底面与基片的底面不齐平，容易产生遮挡和电场不均等现象，因此迫切的需要用于磁控溅射设备倒置的固定多个基片的夹具来解决上述不足之处。
实用新型内容
针对现有技术的不足，本实用新型提供了用于磁控溅射设备倒置的固定多个基片的夹具，解决了现有的夹具，在使用时，在多个基片倒置的情况下，容易发生基片跌落，无法顺利地完成磁控溅射镀膜过程，另外现有的夹具由于固定件的底面与基片的底面不齐平，容易产生遮挡和电场不均等现象的问题。
本实用新型提供如下技术方案：用于磁控溅射设备倒置的固定多个基片的夹具，包括支架，所述支架的内侧右上端设置有导向滑轨，所述导向滑轨的底部连接有滑块，所述滑块的前端面上设置有连接块，所述连接块的底部连接有连接板，所述连接板的左下侧连接有固定件，所述滑块的右端连接有气缸，所述气缸的右端与支架相连接，所述滑块的左端连接有连杆，所述连杆的左上端与连接件的底部相连接，所述连接件的中心位置连接有定位轴，所述定位轴的上端与轴承相连接，所述轴承设置在支架的顶端内部。
优选的，所述导向滑轨、滑块、连接块、连接板、固定件、气缸和连杆的数量均设置为两个，且均关于连接件的中点中心对称设置。
优选的，所述导向滑轨与滑块活动连接。
优选的，所述滑块的左上端连接有限位挡板。
优选的，所述固定件的底面与基片的底面相齐平。
优选的，所述定位轴的底面与基片的顶面相齐平。
与现有技术对比，本实用新型具备以下有益效果：
本实用新型夹具中固定件是夹紧在基片的两侧，因此，在多个基片倒置的情况下，也不会发生基片跌落，能够顺利地完成磁控溅射镀膜过程，另外由于固定件的底面与基片的底面是平齐的，可以防止产生遮挡、电场不均等现象。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图；
图2为本实用新型连杆与连接件位置关系的俯视结构示意图；
图3为本实用新型图1中A处放大结构示意图。
图中：1、支架；2、导向滑轨；3、滑块；4、连接块；5、连接板；6、固定件；7、气缸；8、连杆；9、连接件；10、定位轴；11、轴承。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1-3，用于磁控溅射设备倒置的固定多个基片的夹具，包括支架1，支架1的内侧右上端设置有导向滑轨2，导向滑轨2的底部连接有滑块3，滑块3的前端面上设置有连接块4，连接块4的底部连接有连接板5，连接板5的左下侧连接有固定件6，滑块3的右端连接有气缸7，气缸7的右端与支架1相连接，滑块3的左端连接有连杆8，连杆8的左上端与连接件9的底部相连接，连接件9的中心位置连接有定位轴10，定位轴10的上端与轴承11相连接，轴承11设置在支架1的顶端内部，导向滑轨2、滑块3、连接块4、连接板5、固定件6、气缸7和连杆8的数量均设置为两个，且均关于连接件9的中点中心对称设置，两个固定件6是夹紧在基片的两侧，因此，在多个基片倒置的情况下，也不会发生基片跌落，能够顺利地完成磁控溅射镀膜过程，导向滑轨2与滑块3活动连接，滑块3的左上端连接有限位挡板，固定件6的底面与基片的底面相齐平，可以防止产生遮挡、电场不均等现象，定位轴10的底面与基片的顶面相齐平。
本实用新型的工作原理及使用流程：首先将多个基片放置在两个固定件6之间，然后驱动两个气缸7带动两个滑块3沿着导向滑轨2向中间运动，此时连杆8带动连接件9进行旋转一定的角度，从而带动定位轴10在轴承11的轴心处进行旋转一定角度，滑块3运动的同时，连接块4也随之运动，使得连接板5上的固定件6向中间靠拢，此时两个固定件6相向运动夹紧基片的两侧，使得固定件6的底面与基片的底面相齐平，定位轴10的底面抵触到基片的顶面。
所需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (6)
1.用于磁控溅射设备倒置的固定多个基片的夹具，包括支架(1)，其特征在于；所述支架(1)的内侧右上端设置有导向滑轨(2)，所述导向滑轨(2)的底部连接有滑块(3)，所述滑块(3)的前端面上设置有连接块(4)，所述连接块(4)的底部连接有连接板(5)，所述连接板(5)的左下侧连接有固定件(6)，所述滑块(3)的右端连接有气缸(7)，所述气缸(7)的右端与支架(1)相连接，所述滑块(3)的左端连接有连杆(8)，所述连杆(8)的左上端与连接件(9)的底部相连接，所述连接件(9)的中心位置连接有定位轴(10)，所述定位轴(10)的上端与轴承(11)相连接，所述轴承(11)设置在支架(1)的顶端内部。
2.根据权利要求1所述的用于磁控溅射设备倒置的固定多个基片的夹具，其特征在于：所述导向滑轨(2)、滑块(3)、连接块(4)、连接板(5)、固定件(6)、气缸(7)和连杆(8)的数量均设置为两个，且均关于连接件(9)的中点中心对称设置。
3.根据权利要求1所述的用于磁控溅射设备倒置的固定多个基片的夹具，其特征在于：所述导向滑轨(2)与滑块(3)活动连接。
4.根据权利要求1所述的用于磁控溅射设备倒置的固定多个基片的夹具，其特征在于：所述滑块(3)的左上端连接有限位挡板。
5.根据权利要求1所述的用于磁控溅射设备倒置的固定多个基片的夹具，其特征在于：所述固定件(6)的底面与基片的底面相齐平。
6.根据权利要求1所述的用于磁控溅射设备倒置的固定多个基片的夹具，其特征在于：所述定位轴(10)的底面与基片的顶面相齐平。
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| CN113981404A (zh) * | 2021-11-04 | 2022-01-28 | 济南丰创光电技术有限公司 | 一种柱状光学器件侧面镀膜夹具 |
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