CN208172621U - 一种化工设备用温控装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种化工设备用温控装置，包括支架和广口反应罐，所述支架顶部开口向上固定连接有壳体，所述壳体内部固定连接有U型加热管，所述广口反应罐开口向上插接在壳体内，所述广口反应罐顶部左右两端均通过连接螺栓与壳体顶部固定连接。本实用新型通过在将加热管设置成U型，并且将U型加热管置于广口反应罐外部，可以对广口反应罐侧面和底部的水进行加热，提高加热的均匀性，稳定反应效果，由于在壳体底部设置有排水管，便于后期操作人员对壳体内部水源进行排出更换，较为实用，适合广泛推广与使用。

Description

一种化工设备用温控装置

技术领域

本实用新型涉及化工领域，特别涉及一种化工设备用温控装置。

背景技术

目前，化工行业中，反应装置是必不可少的，对于一些物质化学反应需要对反应环境中的温度进行控制，现有的反应设备只能进行单一的温度控制，温度控制受限，温度控制难度大，从而会影响反应物的化学反应，影响研究人员的研究进程，不便于研究人员的使用。

专利号为CN201720404272.7公开了一种化工机械温控系统装置，包括壳体，所述壳体右侧的顶部连通有加水管，所述加水管远离壳体的一端连通有广口漏斗，所述广口漏斗的顶部设置有漏斗盖，所述壳体的内腔设置有杯体，所述杯体的顶部延伸至壳体的外部，所述壳体内腔的两侧均固定连接有加热管，所述壳体的顶部且位于杯体的两侧均开设有螺纹孔，所述杯体两侧的顶部均固定连接有安装板，所述安装板位于壳体的外部，所述安装板的顶部贯穿设置有螺栓，但是该装置只是在壳体内部的左右两端设置加热管，对于壳体内部底端的水加热效率低导致壳体内部水加热不均匀，影响反应效率，并且该装置没有设置出水管导致后期对壳体内的水清理不便。因此，我们提出一种化工设备用温控装置。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种化工设备用温控装置，可以有效解决背景技术中的问题。

为实现上述目的，本实用新型采取的技术方案为：

一种化工设备用温控装置，包括支架和广口反应罐，所述支架顶部开口向上固定连接有壳体，所述壳体内部固定连接有U型加热管，所述广口反应罐开口向上插接在壳体内，所述广口反应罐顶部左右两端均通过连接螺栓与壳体顶部固定连接，所述广口反应罐顶部盖合有盖板，所述盖板顶端中部固定连接有把手，所述壳体底端中部垂直贯穿密封连接有排水管，所述壳体右端上部连通有进水管，所述广口反应罐外部套有螺旋冷却水管，所述螺旋冷却水管首端水平密封贯穿于壳体左侧上部，且螺旋冷却水管首端安装有第一电磁阀，所述第一电磁阀位于壳体左方上部。

进一步的，所述广口反应罐位于U型加热管内侧。

进一步的，所述排水管下端安装有第二电磁阀。

进一步的，所述螺旋冷却水管尾端垂直密封贯穿于壳体后侧中部。

与现有技术相比，本实用新型具有如下有益效果：

1.本实用新型的化工设备用温控装置，通过在将加热管设置成U型，并且将U型加热管置于广口反应罐外部，可以对广口反应罐侧面和底部的水进行加热，提高加热的均匀性，稳定反应效果。

2.本实用新型的化工设备用温控装置，由于在壳体底部设置有排水管，便于后期操作人员对壳体内部水源进行排出更换。

附图说明

图1为本实用新型化工设备用温控装置的整体结构示意图；

图2为本实用新型化工设备用温控装置的螺旋冷却水管尾端与壳体后侧连接位置俯视结构示意图。

图中：1、支架；2、广口反应罐；3、壳体；4、进水管；5、连接螺栓；6、螺旋冷却水管；7、盖板；8、把手；9、第一电磁阀；10、U型加热管；11、排水管；12、第二电磁阀。

具体实施方式

为使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本实用新型。

如图1-2所示，一种化工设备用温控装置，包括支架1和广口反应罐2，所述支架1顶部开口向上固定连接有壳体3，所述壳体3内部固定连接有U型加热管10，所述广口反应罐2开口向上插接在壳体3内，所述广口反应罐2顶部左右两端均通过连接螺栓5与壳体3顶部固定连接，所述广口反应罐2顶部盖合有盖板7，所述盖板7顶端中部固定连接有把手8，所述壳体3底端中部垂直贯穿密封连接有排水管11，所述壳体3右端上部连通有进水管4，所述广口反应罐2外部套有螺旋冷却水管6，所述螺旋冷却水管6首端水平密封贯穿于壳体3左侧上部，且螺旋冷却水管6首端安装有第一电磁阀9，所述第一电磁阀9位于壳体3左方上部。

其中，所述广口反应罐2位于U型加热管10内侧。

其中，所述排水管11下端安装有第二电磁阀12。

其中，所述螺旋冷却水管6尾端垂直密封贯穿于壳体3后侧中部。

工作原理：使用时，将反应物放置在广口反应罐2的内腔，通过进水管4向在壳体3与广口反应罐2之间的容腔装满水源，U型加热管10对壳体3与广口反应罐2之间的水进行加热，从而对广口反应罐2进行加热，从而对广口反应罐2内腔的反应物质进行加热，第一电磁阀9打开，螺旋冷却水管6的内腔流进冷却液，从而对广口反应罐2进行冷却，从而对广口反应罐2的温度进行控制，第二电磁阀12打开后壳体3内腔的水通过排水管11流出。

以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

Claims (4)

1.一种化工设备用温控装置，包括支架(1)和广口反应罐(2)，其特征在于：所述支架(1)顶部开口向上固定连接有壳体(3)，所述壳体(3)内部固定连接有U型加热管(10)，所述广口反应罐(2)开口向上插接在壳体(3)内，所述广口反应罐(2)顶部左右两端均通过连接螺栓(5)与壳体(3)顶部固定连接，所述广口反应罐(2)顶部盖合有盖板(7)，所述盖板(7)顶端中部固定连接有把手(8)，所述壳体(3)底端中部垂直贯穿密封连接有排水管(11)，所述壳体(3)右端上部连通有进水管(4)，所述广口反应罐(2)外部套有螺旋冷却水管(6)，所述螺旋冷却水管(6)首端水平密封贯穿于壳体(3)左侧上部，且螺旋冷却水管(6)首端安装有第一电磁阀(9)，所述第一电磁阀(9)位于壳体(3)左方上部。

2.根据权利要求1所述的化工设备用温控装置，其特征在于：所述广口反应罐(2)位于U型加热管(10)内侧。

3.根据权利要求1所述的化工设备用温控装置，其特征在于：所述排水管(11)下端安装有第二电磁阀(12)。

4.根据权利要求1所述的化工设备用温控装置，其特征在于：所述螺旋冷却水管(6)尾端垂直密封贯穿于壳体(3)后侧中部。