CN208147186U - 一种用于激光打标机的真空吸附台 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提出了一种用于激光打标机的真空吸附台，包括吸附腔，所述吸附腔与吸风口连接，所述吸附腔上放置支架，所述支架上放置多个吸附单元，所述吸附单元包括顶板和底板，所述顶板和底板上均开有通孔，所述顶板的底面通过弹簧连接膜片，所述膜片的中心位置与所述底板上孔的中心位置对齐，所述吸附单元的四周设置隔板。有以下有益效果：将传统的吸附平台设置为多个吸附单元，每个吸附单元均能对上方有无工件做出判断，当吸附单元上方有工件时，膜片不动作，真空吸附台将工件吸附住，当吸附单元上方没有工件时，膜片和底板之间的气流速度大，压强减小，膜片在大气压的作用下与底板贴住，当运转停止时，受弹簧的弹力作用，恢复到原位。
Description
技术领域
本实用新型属于激光焊接技术领域，具体涉及一种用于激光打标机的真空吸附台。
背景技术
真空吸附工作台是一种常用的工件支撑设备，其用于在线路板制造、液晶显示面板制造、半导体工艺、光学薄膜制造等领域中支撑并定位工件，以便对工件进行各种处理。在激光焊接及激光打标等领域，由于工作时的压力不大，因此实用真空吸附工作台较为理想。在吸附工件时，其他未放置工件的地方对空气吸附，造成吸力减弱，目前常通过放置挡板的方式，但工件的大小不确定，且形状各异，要覆盖所有未吸附工件的孔很困难。
实用新型内容
为解决上述技术问题，本实用新型提出了一种用于激光打标机的真空吸附台，包括吸附腔，所述吸附腔与吸风口连接，所述吸附腔上放置支架，所述支架上放置多个吸附单元，所述吸附单元包括顶板和底板，所述顶板和底板上均开有通孔，所述顶板的底面通过弹簧连接膜片，所述膜片的中心位置与所述底板上孔的中心位置对齐，所述吸附单元的四周设置隔板。
优选的，相邻的所述吸附单元之间通过密封条连接固定。
优选的，所述支架上设置密封圈，所述吸附单元的隔板与所述密封圈压紧。
优选的，所述膜片的底面设置圆弧凸起，所述底板上设置凹槽。
优选的，所述膜片的材料为硅胶。
本实用新型有以下有益效果：将传统的吸附平台设置为多个吸附单元，每个吸附单元均能对上方有无工件做出判断，当吸附单元上方有工件时，膜片不动作，真空吸附台将工件吸附住，当吸附单元上方没有工件时，膜片和底板之间的气流速度大，压强减小，膜片在大气压的作用下与底板贴住，当运转停止时，受弹簧的弹力作用，恢复到原位。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍。
图1为本实用新型一种用于激光打标机的真空吸附台的俯视图；
图2为本实用新型一种用于激光打标机的真空吸附台的吸附单元的结构示意图；
图3为本实用新型一种用于激光打标机的真空吸附台的吸附腔和支架的俯视图；
其中，1、吸附腔；2、支架；3、吸附单元；31、底板；311、通孔；32、顶板；33、隔板；34、弹簧；35、膜片；351、凸起；4、吸风口。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。
如图1-图3所示，本实用新型提出了一种用于激光打标机的真空吸附台，包括吸附腔1，吸附腔1与吸风口4连接，吸附腔1上放置支架2，支架2上放置多个吸附单元3，吸附单元3包括顶板32和底板31，顶板32和底板31上均开有通孔311，顶板32的底面通过弹簧34连接膜片35，膜片35的中心位置与底板31上孔的中心位置对齐，吸附单元3的四周设置隔板33。
具体地，再无外力作用时，膜片35在弹簧34的拉力作用下，在底板31与顶板32之间悬空，当受到底板31下方气流的吸力及两侧气流的流动导致的压强减小的作用力时，膜片35向下运动，直到与底板31贴紧，将底板31上的通孔311封住。
相邻的吸附单元3之间通过密封条连接固定；
使多个吸附单元3组成的真空吸附台不漏气，气流仅从顶板32的位置吸出。
支架2上设置密封圈，吸附单元3的隔板33与密封圈压紧。
膜片35的底面设置圆弧凸起351，底板31上设置凹槽；
通过设置凸起351和凹槽，增大膜片35与底板31的接触面积，使密封效果更好。
膜片35的材料为硅胶；
设置硅胶的目的是增大膜片35与底板31之间的密封性；
将传统的吸附平台设置为多个吸附单元3，每个吸附单元3均能对上方有无工件做出判断，当吸附单元3上方有工件时，膜片35不动作，真空吸附台将工件吸附住，当吸附单元3上方没有工件时，膜片35和底板31之间的气流速度大，压强减小，膜片35在大气压的作用下与底板31贴住，当运转停止时，受弹簧34的弹力作用，恢复到原位。
对实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本实用新型的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本实用新型将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。
Claims (5)
1.一种用于激光打标机的真空吸附台，其特征在于：包括吸附腔，所述吸附腔与吸风口连接，所述吸附腔上放置支架，所述支架上放置多个吸附单元，所述吸附单元包括顶板和底板，所述顶板和底板上均开有通孔，所述顶板的底面通过弹簧连接膜片，所述膜片的中心位置与所述底板上孔的中心位置对齐，所述吸附单元的四周设置隔板。
2.根据权利要求1所述的一种用于激光打标机的真空吸附台，其特征在于:相邻的所述吸附单元之间通过密封条连接固定。
3.根据权利要求1所述的一种用于激光打标机的真空吸附台，其特征在于:所述支架上设置密封圈，所述吸附单元的隔板与所述密封圈压紧。
4.根据权利要求1所述的一种用于激光打标机的真空吸附台，其特征在于:所述膜片的底面设置圆弧凸起，所述底板上设置凹槽。
5.根据权利要求1所述的一种用于激光打标机的真空吸附台，其特征在于:所述膜片的材料为硅胶。
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