CN208004103U - 一种化药混悬液用胶体磨的密封装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种化药混悬液用胶体磨的密封装置,胶体磨包括底座支架、设置在底座支架上的第一电机、设置在第一电机上方的磨腔以及设置在磨腔上方的进料斗,磨腔内设有动磨盘和静磨盘,动磨盘通过转轴与第一电机连接,密封装置包括均套设在转轴上的密封板和转动盘,密封板呈T型,包括水平段和竖直段,水平段位于磨腔的底面,竖直段位于磨腔下方,转动盘位于磨腔的底面且顶部与动磨盘连接,转动盘的直径从顶端至底端逐渐增大,转动盘的侧壁上沿周向均匀设有若干个贯穿转动盘顶部与底部的第一凹槽,转动盘的底面设有第二凹槽,水平段嵌套在第二凹槽内,防止流体或固体微粒从相邻结合面间泄漏以及防止外界杂质如灰尘与水分等侵入胶体磨内部。
Description
技术领域
本实用新型涉及化药混悬液用加工设备技术领域,具体的说是一种化药混悬液用胶体磨的密封装置。
背景技术
在兽药等领域,许多药剂都会需要胶体磨对其进行研磨细化,从而提高兽药等药物的药效以及稳定性。如:混悬液制备等。胶体磨由不锈钢、半不锈钢胶体磨组成,胶体磨的基本原理是流体或半流体物料通过高速相对连动的定齿与动齿之间,使物料受到强大的剪切力,磨擦力及高频振动等作用,有效地被粉碎、乳化、均质、温合,从而获得满意的精细加工的产品。其主机部份由壳体、动磨、静磨、调节机构、冷却机构、电机等组成。其主要零件均采用不锈钢制造,耐腐蚀,无毒。使用单位可依不同物料特性,生产效率,不同用途,选用不同规格型号的胶体磨,使之达到良好的效果。其磨合时,使用的磨合结构是两个能咬合的动磨和静磨构成;
随着社会的进步,工业技术水平的不断提高,对生产设备的安全性和便捷性要求也越来越高,用于制备化药混悬液的胶体磨往往在碾磨原料过程中会发生有坚硬的较大颗粒混入时,无法及时发现,直接在胶体磨内研磨易造成磨盘磨损,增加其故障率,且易影响设备研磨效果;并且由于进料颗粒大小不均匀,碾磨时间长,且需人工多次取液并检测,才能确认所制得混悬液等成品颗粒度是否合适,劳动强度大,导致整体的加工效率不高,同时转轴在转动过程中,磨腔内的原料如果漏料后会直接进入到传动轴的轴承座内,会对电机的使用寿命有一定的影响,甚至会造成电机烧毁。
实用新型内容
为解决上述问题,本实用新型提供一种化药混悬液用胶体磨的密封装置,防止流体或固体微粒从相邻结合面间泄漏以及防止外界杂质如灰尘与水分等侵入胶体磨内部,且本实用新型在进料时对原料进行初步筛选,防止其直接进入胶体磨内研磨而造成磨盘磨损,减小故障率和研磨效率,且增加一次研磨的成品率,减小二次研磨的频率,增加加工效率。
本实用新型通过以下技术方案来实现:
一种化药混悬液用胶体磨的密封装置,所述胶体磨包括底座支架、设置在底座支架上的第一电机、设置在第一电机上方的磨腔以及设置在磨腔上方的进料斗,所述磨腔内设有动磨盘和静磨盘,所述动磨盘通过转轴与第一电机连接,所述密封装置包括均套设在转轴上的密封板和转动盘,所述密封板呈T型,包括水平段和竖直段,所述水平段位于磨腔的底面,所述竖直段位于磨腔下方,所述转动盘位于磨腔的底面且顶部与动磨盘连接,所述转动盘的底面直径与磨腔底部直径相同,所述转动盘的直径从顶端至底端逐渐增大,所述转动盘的侧壁上沿周向均匀设有若干个贯穿转动盘顶部与底部的第一凹槽,所述转动盘的底面设有第二凹槽,所述水平段嵌套在第二凹槽内。
优选的,所述进料斗的内壁为空腔结构,所述进料斗内设置有向下倾斜的振动筛,所述进料斗的一侧外壁上设有控制振动筛振动的第二电机,所述进料斗与振动筛较低一端连接的内壁上设有大颗粒出口。
优选的,所述进料斗顶部通过第一进料口连接有第一进料管。
优选的,所述胶体磨磨腔的底部一侧设有出料口,所述出料口连接有向下倾斜设置的第一出料管,所述第一出料管内靠近出料口依次设有第一滤网和第二滤网,所述第一滤网的过滤孔直径大于第二滤网的过滤孔直径,位于第一滤网与第二滤网之间的第一出料管构成大颗粒储存室,所述大颗粒储存室竖直向上设置有与进料斗相连通的第二进料管,所述第二进料管与大颗粒储存室靠近的一端侧壁设有引风机,所述大颗粒储存室的底端设有检测器。
优选的,所述大颗粒储存室设置有透视窗。
优选的,所述底座支架为空腔结构,所述底座支架内设有减震装置。
优选的,所述减震装置包括与底座支架内腔顶部与底部连接的减震弹簧。
优选的,所述水平段的直径小于磨腔的底面直径。
本实用新型的有益效果在于:
(1)本实用新型在转轴上套设有转动盘和密封板,转动盘设置在磨腔的底面,顶部与动磨盘连接,转动盘的直径从顶端至底端逐渐增大,转动盘的侧壁上沿周向设有若干个第一凹槽,当研磨过的原料掉落至转动盘时,从第一凹槽中滑下来且伴随着转动从第一出料管出料,避免物料从转轴缝隙中流出,同时在转动盘底部第二凹槽中设置密封板的水平段,其竖直段位于磨腔下方,进一步对转轴密封,进一步避免物料从转轴缝隙中流出对电机造成损坏;
(2)本实用新型在进料斗内设有倾斜设置的振动筛,对进料进行再次筛选,符合研磨条件的原料颗粒从振动筛落下进入胶体磨本体内进行研磨,而筛选出来较大的颗粒从大颗粒出口流出,增加一次研磨的成品率,减小二次研磨的频率,增加加工效率;
(3)本实用新型在胶体磨本体的底部一侧设有出料口,研磨过的原料从出料口进入第一出料管,经过第一滤网以及第二滤网的拦截过滤,合格的原料从第一出料管的末端流出,而不合格的原料集聚在大颗粒储存室,经检测器检测到集聚到一定量时,控制器打开风机以及第二进料管的阀门,经过第二进料管重新进入进料斗,增加成品合格率。
附图说明
图1是本实用新型的整体结构示意图;
图2是本实用新型的密封板的结构示意图;
图3是本实用新型的转动盘的结构示意图;
附图标记:1、底座支架,2、第一电机,3、磨腔,4、进料斗,5、振动筛,6、第二电机,7、大颗粒出口,8、动磨盘,9、静磨盘,10、转轴,11、密封板,12、转动盘,13、出料口,14、第一出料管,15、第一滤网,16、第二滤网,17、大颗粒储存室,18、第二进料管,19、引风机,20、检测器,21、第一进料管。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本实用新型作进一步说明:
一种化药混悬液用胶体磨的密封装置,所述胶体磨包括底座支架1、设置在底座支架上的第一电机2、设置在第一电机2上方的磨腔3以及设置在磨腔3上方的进料斗4,所述底座支架1为空腔结构,所述底座支架1内设有减震装置,所述减震装置包括与底座支架1内腔顶部与底部连接的减震弹簧,减小机器震动对机器部件造成损坏,所述进料斗4的内壁为空腔结构,所述进料斗4顶部通过第一进料口连接有第一进料管21,所述进料斗4内向下倾斜设置有振动筛5,所述进料斗4的一侧外壁上设有控制振动筛5振动的第二电机6,所述进料斗4与振动筛5较低一端连接的内壁上设有大颗粒出口7,对进料进行再次筛选,符合研磨条件的原料颗粒从振动筛5落下进入磨腔3内进行研磨,而筛选出来较大的颗粒从大颗粒出口7流出,增加一次研磨的成品率,减小二次研磨的频率,增加加工效率;
所述磨腔3的底部一侧设有出料口13,所述出料口13连接有向下倾斜设置的第一出料管14,所述第一出料管14内靠近出料口13依次设有第一滤网15和第二滤网16,所述第一滤网15的过滤孔直径大于第二滤网16的过滤孔直径,位于第一滤网15与第二滤网16之间的第一出料管14构成大颗粒储存室17,所述大颗粒储存室17设置有透视窗,所述大颗粒储存室17竖直向上设置有与进料斗4相连通的第二进料管18,第二进料管18上设有阀门,所述第二进料管18与大颗粒储存室17靠近的一端侧壁设有引风机19,所述大颗粒储存室17的底端设有检测器20,经过第一滤网15以及第二滤网16的拦截过滤,合格的原料从第一出料管14的末端流出,而不合格的原料集聚在大颗粒储存室17,经检测器20检测到集聚到一定量时,控制器打开引风机19以及第二进料管18的阀门,经过第二进料管18重新进入进料斗4,增加成品合格率。
所述磨腔3内设有动磨盘8和静磨盘9,所述动磨盘8通过转轴10与第一电机2连接,所述密封装置包括均套设在转轴10上的密封板11和转动盘12,所述密封板11呈T型,包括水平段1101和竖直段1102,所述水平段1101位于磨腔3的底面,所述竖直段1102位于磨腔3下方,所述水平段1101的直径小于磨腔3的底面直径,所述转动盘12位于磨腔3的底面且顶部与动磨盘8连接,所述转动盘12的底面直径与磨腔3底部直径相同,所述转动盘12的直径从顶端至底端逐渐增大,所述转动盘12的侧壁上沿周向均匀设有若干个贯穿转动盘12顶部与底部的第一凹槽,所述转动盘12的底面设有第二凹槽,所述水平段1101嵌套在第二凹槽内,当研磨过的原料掉落至转动盘12时,从第一凹槽中滑下来且伴随着转动从第一出料管14出料,避免物料从转轴10缝隙中流出,同时在转动盘12底部第二凹槽中设置密封板的水平段1101,其竖直段1102位于磨腔下方,进一步对转轴10密封,进一步避免物料从转轴缝隙中流出对电机造成损坏;
以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和优点,本行业的技术人员应该了解,本实用新型不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理,在不脱离本实用新型精神和范围的前提下,本实用新型还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内,本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
Claims (8)
1.一种化药混悬液用胶体磨的密封装置,所述胶体磨包括底座支架、设置在底座支架上的第一电机、设置在第一电机上方的磨腔以及设置在磨腔上方的进料斗,所述磨腔内设有动磨盘和静磨盘,所述动磨盘通过转轴与第一电机连接,其特征在于:所述密封装置包括均套设在转轴上的密封板和转动盘,所述密封板呈T型,包括水平段和竖直段,所述水平段位于磨腔的底面,所述竖直段位于磨腔下方,所述转动盘位于磨腔的底面且顶部与动磨盘连接,所述转动盘的直径从顶端至底端逐渐增大,所述转动盘的底面直径与磨腔底部直径相同,所述转动盘的侧壁上沿周向均匀设有若干个第一凹槽,所述转动盘的底面设有第二凹槽,所述水平段嵌套在第二凹槽内。
2.根据权利要求1所述的一种化药混悬液用胶体磨的密封装置,其特征在于:所述进料斗的内壁为空腔结构,在所述进料斗内设置有向下倾斜的振动筛,所述进料斗的一侧外壁上设有控制振动筛振动的第二电机,所述进料斗与振动筛较低一端连接的内壁上设有大颗粒出口。
3.根据权利要求1或2所述的一种化药混悬液用胶体磨的密封装置,其特征在于:所述进料斗顶部通过第一进料口连接有第一进料管。
4.根据权利要求1所述的一种化药混悬液用胶体磨的密封装置,其特征在于:所述磨腔的底部一侧设有出料口,所述出料口连接有向下倾斜设置的第一出料管,所述第一出料管内靠近出料口处依次设有第一滤网和第二滤网,所述第一滤网的过滤孔直径大于第二滤网的过滤孔直径,位于第一滤网与第二滤网之间的第一出料管构成大颗粒储存室,所述大颗粒储存室竖直向上设置有与进料斗相连通的第二进料管,所述第二进料管与大颗粒储存室靠近的一端侧壁设有引风机,所述大颗粒储存室的底端设有检测器。
5.根据权利要求4所述的一种化药混悬液用胶体磨的密封装置,其特征在于:所述大颗粒储存室设置有透视窗。
6.根据权利要求1所述的一种化药混悬液用胶体磨的密封装置,其特征在于:所述底座支架为空腔结构,所述底座支架内设有减震装置。
7.根据权利要求6所述的一种化药混悬液用胶体磨的密封装置,其特征在于:所述减震装置包括与底座支架内腔顶部与底部连接的减震弹簧。
8.根据权利要求1所述的一种化药混悬液用胶体磨的密封装置,其特征在于:所述水平段的直径小于磨腔的底面直径。
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CN201820115485.2U CN208004103U (zh) | 2018-01-24 | 2018-01-24 | 一种化药混悬液用胶体磨的密封装置 |
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CN112892840A (zh) * | 2019-03-11 | 2021-06-04 | 黄斯斯 | 一种乳制品加工胶体磨机及方法 |
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- 2018-01-24 CN CN201820115485.2U patent/CN208004103U/zh active Active
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