CN207980973U - 金属清洗剂温控加工设备 - Google Patents

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许静
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Abstract

本实用新型公开了一种金属清洗剂温控加工设备,包括壳体,在壳体内设置有轴杆,在壳体的顶部设置有驱动电机,在壳体的内壁上等间距设置有至少两个圆环形凹槽,在圆环形凹槽内设置有加热结构,加热结构包括圆环块,在圆环块的内壁面上均匀设置有导热柱,在圆环块与导热柱内设置有相连通的加热腔,在加热腔内设置有加热块,在搅拌叶上设置有外侧面开口的槽孔,在壳体内固定有温度传感器,在壳体的外壁上设置有与温度传感器相连接的温度指示计,在壳体上设置有与电源插接端子相连接的调温器。本实用新型的结构设置合理,其采用圆环块配合导热柱,可以保证加热地均匀性,同时可以根据需要调节不同加热结构的温度,温控效果好,适用性强且实用性好。

Description

金属清洗剂温控加工设备
技术领域
本实用新型属于清洗剂加工设备技术领域,具体涉及一种金属清洗剂温控加工设备。
背景技术
金属清洗剂是一种常用于金属加工前后的表面除油、除垢等清洗工艺,在一些印刷电路板焊接后也必须采用清洗剂清洗有害残留物,现有技术的金属清洗剂在使用时需要对温度进行控制,因为当温度过高时容易使清洗剂失去活性,而且现有技术的清洗剂在加工过程中其温度并不均匀,从而容易影响清洗剂的加工质量,适用性和实用性受到限制。
发明内容
本实用新型的目的是提供一种结构设置合理且加热均匀的金属清洗剂温控加工设备。
实现本实用新型目的的技术方案是一种金属清洗剂温控加工设备,包括壳体,在所述壳体上设置有进料口,在所述壳体的侧壁底部设置有出料口,在所述壳体内设置有轴杆,在所述壳体的顶部设置有与所述轴杆相连接的驱动电机,在所述壳体的内壁上等间距设置有至少两个圆环形凹槽,在所述圆环形凹槽内设置有加热结构,在所述壳体的外壁上设置有与所述加热结构相连通的电源连接端口,所述加热结构包括圆环块,在所述圆环块的内壁面上均匀设置有导热柱,导热柱的长度小于圆环块的半径,在所述圆环块与导热柱内设置有相连通的加热腔,在所述加热腔内设置有加热块,在所述圆环块的外环面上设置有与所述电源连接端口相连接的电源插接端子,在所述轴杆上设置有搅拌叶,在所述搅拌叶上设置有外侧面开口的槽孔,所述圆环块处于槽孔内,在所述壳体内固定有温度传感器,在所述壳体的外壁上设置有与所述温度传感器相连接的温度指示计,在所述壳体上设置有与所述电源插接端子相连接的调温器,所述电源插接端子通过调温器与所述电源连接端口相连接。
在所述圆环块的顶面和底面均设置有密封凹槽,在所述密封凹槽内设置有密封压板,在所述密封压板的底端与密封凹槽的底壁之间均设置有抵压弹簧,在所述密封压板的表面包裹有耐高温橡胶层。
在所述导热柱的表面均匀设置有用于增大接触面积的半球状凸起。
所述导热柱为铝材柱体。
本实用新型具有积极的效果:本实用新型的结构设置合理,其采用圆环块配合导热柱,可以保证加热地均匀性,同时可以根据需要调节不同加热结构的温度,温控效果好,适用性强且实用性好。
附图说明
为了使本实用新型的内容更容易被清楚的理解,下面根据具体实施例并结合附图,对本实用新型作进一步详细的说明,其中:
图1为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
(实施例1)
图1显示了本实用新型的一种具体实施方式,其中图1为本实用新型的结构示意图。
见图1,一种金属清洗剂温控加工设备,包括壳体1,在所述壳体1上设置有进料口2,在所述壳体1的侧壁底部设置有出料口3,在所述壳体1内设置有轴杆4,在所述壳体1的顶部设置有与所述轴杆4相连接的驱动电机5,在所述壳体1的内壁上等间距设置有至少两个圆环形凹槽6,在所述圆环形凹槽6内设置有加热结构7,在所述壳体1的外壁上设置有与所述加热结构7相连通的电源连接端口8,所述加热结构7包括圆环块71,在所述圆环块71的内壁面上均匀设置有导热柱72,导热柱72的长度小于圆环块的半径,在所述圆环块71与导热柱72内设置有相连通的加热腔73,在所述加热腔73内设置有加热块74,在所述圆环块71的外环面上设置有与所述电源连接端口8相连接的电源插接端子9,在所述轴杆4上设置有搅拌叶10,在所述搅拌叶上设置有外侧面开口的槽孔11,所述圆环块处于槽孔内,在所述壳体1内固定有温度传感器12,在所述壳体1的外壁上设置有与所述温度传感器12相连接的温度指示计13,在所述壳体1上设置有与所述电源插接端子9相连接的调温器14,所述电源插接端子9通过调温器14与所述电源连接端口8相连接。
在所述圆环块71的顶面和底面均设置有密封凹槽15,在所述密封凹槽内设置有密封压板16,在所述密封压板的底端与密封凹槽的底壁之间均设置有抵压弹簧17,在所述密封压板的表面包裹有耐高温橡胶层18。
在所述导热柱的表面均匀设置有用于增大接触面积的半球状凸起19。
所述导热柱为铝材柱体。
本实用新型的结构设置合理,其采用圆环块配合导热柱,可以保证加热地均匀性,同时可以根据需要调节不同加热结构的温度,温控效果好,适用性强且实用性好。
显然,本实用新型的上述实施例仅仅是为清楚地说明本实用新型所作的举例,而并非是对本实用新型的实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说,在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而这些属于本实用新型的实质精神所引伸出的显而易见的变化或变动仍属于本实用新型的保护范围。

Claims (4)

1.一种金属清洗剂温控加工设备,包括壳体,在所述壳体上设置有进料口,在所述壳体的侧壁底部设置有出料口,在所述壳体内设置有轴杆,在所述壳体的顶部设置有与所述轴杆相连接的驱动电机,其特征在于:在所述壳体的内壁上等间距设置有至少两个圆环形凹槽,在所述圆环形凹槽内设置有加热结构,在所述壳体的外壁上设置有与所述加热结构相连通的电源连接端口,所述加热结构包括圆环块,在所述圆环块的内壁面上均匀设置有导热柱,导热柱的长度小于圆环块的半径,在所述圆环块与导热柱内设置有相连通的加热腔,在所述加热腔内设置有加热块,在所述圆环块的外环面上设置有与所述电源连接端口相连接的电源插接端子,在所述轴杆上设置有搅拌叶,在所述搅拌叶上设置有外侧面开口的槽孔,所述圆环块处于槽孔内,在所述壳体内固定有温度传感器,在所述壳体的外壁上设置有与所述温度传感器相连接的温度指示计,在所述壳体上设置有与所述电源插接端子相连接的调温器,所述电源插接端子通过调温器与所述电源连接端口相连接。
2.根据权利要求1所述的金属清洗剂温控加工设备,其特征在于:在所述圆环块的顶面和底面均设置有密封凹槽,在所述密封凹槽内设置有密封压板,在所述密封压板的底端与密封凹槽的底壁之间均设置有抵压弹簧,在所述密封压板的表面包裹有耐高温橡胶层。
3.根据权利要求2所述的金属清洗剂温控加工设备,其特征在于:在所述导热柱的表面均匀设置有用于增大接触面积的半球状凸起。
4.根据权利要求3所述的金属清洗剂温控加工设备,其特征在于:所述导热柱为铝材柱体。
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