CN207970822U - 一种用于生产阴离子表面活性剂的搪瓷反应釜 - Google Patents

一种用于生产阴离子表面活性剂的搪瓷反应釜 Download PDF

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Abstract

本实用新型公开了一种用于生产阴离子表面活性剂的搪瓷反应釜,包括支撑座和驱动机,所述支撑座的上方中间处设置有机壳,且机壳的顶部设置有顶盖,所述活动盘的下方中间处连接有研磨块,所述转轴的两侧均设置有搅拌杆,且搅拌杆的外侧端口处连接有刮板,所述机壳的下方中间处设置有出料口,所述连接盘上面设置有通孔,所述活动盘的下方设置有研磨槽,所述机壳的左下方安装有加热装置,且加热装置和机壳之间设置有O型圈,所述研磨槽背对驱动机的一侧上设置有进料口。该用于生产阴离子表面活性剂的搪瓷反应釜,在需要添加固态颗粒时,能够事先对固态颗粒进行研磨,通过减小固态颗粒的直径来加快反应速率,且能够有效的降低材料残留。

Description

一种用于生产阴离子表面活性剂的搪瓷反应釜
技术领域
本实用新型涉及搪瓷反应釜技术领域,具体为一种用于生产阴离子表面活性剂的搪瓷反应釜。
背景技术
搪瓷反应釜是一种常用于石油化工、橡胶、农药、染料和医药等行业,用以完成磺化、硝化、氢化、烃化、聚合和缩合等工艺过程,以及有机染料和中间体的许多其它工艺过程的反应设备,阴离子表面活性剂的生产过程中,常用到搪瓷反应釜。当前的阴离子表面活性剂用搪瓷反应釜在使用时还存在一些问题,比如说在和固态颗粒进行混合时,不能事先对固态颗粒进行研磨,导致反应过程变慢,且在反应完成后,机壳内侧壁上面会残留材料,导致不能完全将材料排出,会造成浪费,因此我们提出一种用于生产阴离子表面活性剂的搪瓷反应釜,来解决上述问题。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种用于生产阴离子表面活性剂的搪瓷反应釜,以解决上述背景技术中提出的生产阴离子表面活性剂用搪瓷反应釜不能对固态颗粒进行研磨和不能解决材料残留的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种用于生产阴离子表面活性剂的搪瓷反应釜,包括支撑座和驱动机,所述支撑座的上方中间处设置有机壳,且机壳的顶部设置有顶盖,所述驱动机的下方连接有转轴,且驱动机的两侧均设置有活动盘,所述活动盘的下方中间处连接有研磨块,所述顶盖的下方设置有连接盘,所述转轴的两侧均设置有搅拌杆,且搅拌杆的外侧端口处连接有刮板,所述机壳的下方中间处设置有出料口,所述连接盘上面设置有通孔,所述活动盘的下方设置有研磨槽,所述机壳的左下方安装有加热装置,且加热装置和机壳之间设置有O型圈,所述研磨槽背对驱动机的一侧上设置有进料口。
优选的,所述机壳和支撑座的上端之间固定连接,且机壳和顶盖之间构成拆卸结构。
优选的,所述活动盘设有两块,且活动盘和研磨槽之间构成转动结构。
优选的,所述研磨块和活动盘之间构成一体式结构,且研磨块的下端设为圆台状,并且研磨块的下端的形状和研磨块内部底端的形状相同。
优选的,所述连接盘的形状为圆形,且连接盘和转轴之间固定连接。
优选的,所述搅拌杆和刮板之间构成一体式结构,且刮板的形状为梯形,并且刮板和机壳之间相贴合。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:该用于生产阴离子表面活性剂的搪瓷反应釜,在需要添加固态颗粒时,能够事先对固态颗粒进行研磨,通过减小固态颗粒的直径来加快反应速率,且能够有效的降低材料残留,
(1)设有机壳和顶盖,机壳和顶盖之间可拆卸,便于对机壳内部进行清理,避免材料残留时间过长会变质;
(2)设有驱动机、转轴和搅拌杆,驱动机能够带动转轴转动,进而转轴可以带动搅拌杆对机壳内部的材料进行搅拌,让不同的混合材料能够反应,从而对阴离子表面活性剂进行制备;
(3)设有刮板,刮板的设置能够将机壳内侧壁上面残留的材料清理下来,且刮板的侧面设为倾斜状,使得刮下来的材料可以沿着刮板的侧壁流到下方;
(4)设有加热装置,加热装置的设置能够增加反应速率,进而加快产品生产进程;
(5)设有活动盘和研磨块,当固态颗粒从进料口进入到研磨槽中后,可以转动活动盘,使活动盘带动研磨块转动,研磨块的底部会和研磨槽底部的内侧壁之间相互配合,能够将固态颗粒研磨的更小,进而当固态颗粒进入到下方后,能够增加反应速率。
附图说明
图1为本实用新型正视剖面结构示意图;
图2为本实用新型图1中A处结构示意图;
图3为本实用新型图1中B处结构示意图;
图4为本实用新型连接盘俯视结构示意图;
图5为本实用新型搅拌杆和刮板侧视结构示意图。
图中:1、支撑座,2、机壳,3、顶盖,4、驱动机,5、转轴,6、活动盘,7、研磨块,8、连接盘,9、搅拌杆,10、刮板,11、出料口,12、通孔,13、研磨槽,14、加热装置,15、O型圈,16、进料口。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1-5,本实用新型提供一种技术方案:一种用于生产阴离子表面活性剂的搪瓷反应釜,包括支撑座1、机壳2、顶盖3、驱动机4、转轴5、活动盘6、研磨块7、连接盘8、搅拌杆9、刮板10、出料口11、通孔12、研磨槽13、加热装置14、O型圈15和进料口16,支撑座1的上方中间处设置有机壳2,且机壳2的顶部设置有顶盖3,机壳2和支撑座1的上端之间固定连接,且机壳2和顶盖3之间构成拆卸结构,便于对机壳2的内部进行清理,驱动机4的下方连接有转轴5,且驱动机4的两侧均设置有活动盘6,活动盘6设有两块,且活动盘6和研磨槽13之间构成转动结构,活动盘6能够带动研磨块7旋转,进而能够对研磨槽13内部的固态颗粒进行研磨,活动盘6的下方中间处连接有研磨块7,研磨块7和活动盘6之间构成一体式结构,且研磨块7的下端设为圆台状,并且研磨块7的下端的形状和研磨块7内部底端的形状相同,研磨块7的底部会和研磨槽13底部的内侧壁之间相互配合,能够将固态颗粒研磨的更小,进而当固态颗粒进入到下方后,能够增加反应速率,顶盖3的下方设置有连接盘8,连接盘8的形状为圆形,且连接盘8和转轴5之间固定连接,连接盘8能够被转轴5带动着旋转,进而能够对上方落下的固态颗粒进行打散,且能够均匀的将固态颗粒分散到下方,转轴5的两侧均设置有搅拌杆9,且搅拌杆9的外侧端口处连接有刮板10,搅拌杆9和刮板10之间构成一体式结构,且刮板10的形状为梯形,并且刮板10和机壳2之间相贴合,搅拌杆9和刮板10之间相互配合,能够对机壳2内侧壁上残留的材料刮下来,且能够对加快混合材料的反应速率,机壳2的下方中间处设置有出料口11,所述连接盘8上面设置有通孔12,活动盘6的下方设置有研磨槽13,机壳2的左下方安装有加热装置14,且加热装置14和机壳2之间设置有O型圈15,研磨槽13背对驱动机4的一侧上设置有进料口16。
工作原理:在使用该用于生产阴离子表面活性剂的搪瓷反应釜时,应先检查该装置的各个零件是否完好,将支撑座1和机壳2水平放置,当该装置工作时,可以将原料从进料口16投入到机壳2中,然后打开驱动机4,使转轴5带动搅拌杆9和刮板10转动,搅拌杆9能够增加材料混合速率,而刮板10能够有效的将机壳2内侧壁上面的材料刮下来,可以打开加热装置14对混合的材料进行加热,进而增加反应速率,O型圈15能够防止材料泄漏,当投入的材料有固态颗粒时,可以将固态颗粒放进研磨槽13中,然后转动活动盘6,使活动盘6带动研磨块7转动,研磨块7下方的圆台状结构能够和研磨槽13底部的内侧壁相互配合,将固态颗粒研磨成较小的颗粒,进而当颗粒进入到混合材料中时,能够加快反应速率,颗粒会落到连接盘8上,连接盘8能够被转轴5带动着旋转,进而能够对上方落下的固态颗粒进行打散,且能够均匀的将固态颗粒分散到下方,而通孔12能够使固体颗粒通过,能够有效的避免固体颗粒滞留在连接盘8上,最终成品可以通过出料口11放出,该过程即为本实用新型的工作流程。
以上对本实用新型实施例所提供的技术方案进行了详细介绍,本文中应用了具体个例对本实用新型实施例的原理以及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只适用于帮助理解本实用新型实施例的原理;同时,对于本领域的一般技术人员,依据本实用新型实施例,在具体实施方式以及应用范围上均会有改变之处,综上所述,本说明书内容不应理解为对本实用新型的限制。

Claims (6)

1.一种用于生产阴离子表面活性剂的搪瓷反应釜,包括支撑座(1)和驱动机(4),其特征在于:所述支撑座(1)的上方中间处设置有机壳(2),且机壳(2)的顶部设置有顶盖(3),所述驱动机(4)的下方连接有转轴(5),且驱动机(4)的两侧均设置有活动盘(6),所述活动盘(6)的下方中间处连接有研磨块(7),所述顶盖(3)的下方设置有连接盘(8),所述转轴(5)的两侧均设置有搅拌杆(9),且搅拌杆(9)的外侧端口处连接有刮板(10),所述机壳(2)的下方中间处设置有出料口(11),所述连接盘(8)上面设置有通孔(12),所述活动盘(6)的下方设置有研磨槽(13),所述机壳(2)的左下方安装有加热装置(14),且加热装置(14)和机壳(2)之间设置有O型圈(15),所述研磨槽(13)背对驱动机(4)的一侧上设置有进料口(16)。
2.根据权利要求1所述的一种用于生产阴离子表面活性剂的搪瓷反应釜,其特征在于:所述机壳(2)和支撑座(1)的上端之间固定连接,且机壳(2)和顶盖(3)之间构成拆卸结构。
3.根据权利要求1所述的一种用于生产阴离子表面活性剂的搪瓷反应釜,其特征在于:所述活动盘(6)设有两块,且活动盘(6)和研磨槽(13)之间构成转动结构。
4.根据权利要求1所述的一种用于生产阴离子表面活性剂的搪瓷反应釜,其特征在于:所述研磨块(7)和活动盘(6)之间构成一体式结构,且研磨块(7)的下端设为圆台状,并且研磨块(7)的下端的形状和研磨块(7)内部底端的形状相同。
5.根据权利要求1所述的一种用于生产阴离子表面活性剂的搪瓷反应釜,其特征在于:所述连接盘(8)的形状为圆形,且连接盘(8)和转轴(5)之间固定连接。
6.根据权利要求1所述的一种用于生产阴离子表面活性剂的搪瓷反应釜,其特征在于:所述搅拌杆(9)和刮板(10)之间构成一体式结构,且刮板(10)的形状为梯形,并且刮板(10)和机壳(2)之间相贴合。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111250005A (zh) * 2020-03-04 2020-06-09 王晓伟 一种表面活化剂的脱醇分层方法

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