CN207512256U - 一种真空镀膜机 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种真空镀膜机，包括机身，所述机身顶部设有镀膜室，所述镀膜室内腔顶部设有电磁铁，所述电磁铁两侧均设有连接杆，所述连接杆外壁套设有套环，所述连接杆底端设有限位块，所述连接杆之间设有活动杆，所述活动杆顶部设有磁石。本实用新型通过设有变频器、电磁铁、磁石和与连接杆活动连接的活动杆，利用变频器控制电磁铁接入线路中电流的大小调节电磁铁磁场的强度，从而对磁石进行不同力度的吸附，活动杆两端的套环在连接杆外壁进行上下移动，使固定夹具进行上下移动，改变了传统机械结构连接的方式，无需与外部机械结构进行对接，保证了镀膜室真空密封的完整性，提高了产品镀膜的质量。
Description
技术领域
本实用新型涉及机械领域，特别涉及一种真空镀膜机。
背景技术
真空镀膜机主要指一类在较高真空度下对工件进行镀膜的设备，其中，镀膜的技术具有很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
需要镀膜的对象被称为工件(或基片)，需要镀在工件上的材料被称为靶材，如硅靶、铌靶、铝靶、钛靶等。工件与靶材同在真空腔中。在真空条件下，通入一定气压的氩气，氩气在高电压(300-800V)电场作用下电离为氩离子，氩离子加速轰击靶材，从而将靶材材料溅射到工件表面，形成薄膜。
目前的真空镀膜机在镀膜过程中内部固定夹具和基片的移动机构大多结构复杂，需要与外部传动机构作机械性连接，容易导致镀膜室的密封性能不够，会使得镀膜的效果不佳，影响产品的品质。
因此，发明一种真空镀膜机来解决上述问题很有必要。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种真空镀膜机，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种真空镀膜机，包括机身，所述机身顶部设有镀膜室，所述镀膜室内腔顶部设有电磁铁，所述电磁铁两侧均设有连接杆，所述连接杆外壁套设有套环，所述连接杆底端设有限位块，所述连接杆之间设有活动杆，所述活动杆顶部设有磁石，所述活动杆底部设有马达，所述马达输出轴底端设有固定夹具，所述镀膜室内腔底部设有喷射口，所述喷射口底部设有加热器，所述加热器一侧设有抽气管，所述镀膜室底部设有固件室，所述固件室内腔设有真空泵，所述真空泵一侧设有镀膜物质室，所述镀膜物质室顶部设有加热管，所述镀膜物质室一侧设有蓄电池，所述蓄电池顶部设有控制主机，所述控制主机一侧设有变频器，所述机身侧壁设有控制面板，所述控制面板上设有触控屏。
优选的，所述连接杆、套环和限位块的数量均设置为2个且通过活动杆对称设置。
优选的，所述活动杆通过套环与连接杆活动连接，所述连接杆顶端与镀膜室内腔顶部固定连接。
优选的，所述电磁铁与变频器电性连接 ，所述变频器、加热管、加热器、马达、真空泵和触摸屏均与控制主机电性连接，所述变频器型号设置为hlp-sk180。
优选的，所述抽气管贯穿镀膜室底部延伸至固件室内与真空泵连接，所述加热管设置于加热器正下方，所述镀膜物质室、蓄电池、变频器和控制主机均设置于固件室内腔。
优选的，所述电磁铁磁极方向与磁石磁极方向相同。
本实用新型的技术效果和优点：通过设有变频器、电磁铁、磁石和与连接杆活动连接的活动杆，利用变频器控制电磁铁接入线路中电流的大小调节电磁铁磁场的强度，从而对磁石进行不同力度的吸附，活动杆两端的套环在连接杆外壁进行上下移动，使固定夹具进行上下移动，改变了传统机械结构连接的方式，无需与外部机械结构进行对接，保证了镀膜室真空密封的完整性，提高了产品镀膜的质量，通过设有触控屏和控制主机，有利于操作人员对机器进行具体程序的操作，降低了使用难度，通过设有马达，可对固定夹具进行旋转，调整固定夹具上基片原料的角度，便于进行镀膜工作。
附图说明
图1为本实用新型整体结构示意图；
图2为本实用新型工作原理图。
图中：1机身、2镀膜室、3电磁铁、4连接杆、5套环、6限位块、7活动杆、8磁石、9马达、10固定夹具、11喷射口、12加热器、13抽气管、14固件室、15真空泵、16镀膜物质室、17加热管、18蓄电池、19控制主机、20变频器、21控制面板、22触控屏。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
本实用新型提供了如图1-2所示的一种真空镀膜机，包括机身1，所述机身1顶部设有镀膜室2，所述镀膜室2内腔顶部设有电磁铁3，所述电磁铁3两侧均设有连接杆4，所述连接杆4外壁套设有套环5，所述连接杆4底端设有限位块6，所述连接杆4之间设有活动杆7，限位块6用于防止活动杆7和套环5从连接杆4上脱落，所述活动杆7顶部设有磁石8，所述活动杆7底部设有马达9，通过设有马达9，可对固定夹具10进行旋转，调整固定夹具10上基片原料的角度，便于进行镀膜工作，所述马达9输出轴底端设有固定夹具10，用于对基片原料进行固定，所述镀膜室2内腔底部设有喷射口11，所述喷射口11底部设有加热器12，所述加热器12一侧设有抽气管13，所述镀膜室2底部设有固件室14，所述固件室14内腔设有真空泵15，真空泵15配合抽气管13对镀膜室2内进行真空处理，所述真空泵15一侧设有镀膜物质室16，所述镀膜物质室16顶部设有加热管17，加热管17配合加热器12对镀膜物质室16内的靶材进行加热，所述镀膜物质室16一侧设有蓄电池18，所述蓄电池18顶部设有控制主机19，所述控制主机19一侧设有变频器20，用于调节电磁铁3线路中电流的大小，所述机身1侧壁设有控制面板21，所述控制面板21上设有触控屏22，通过设有触控屏22和控制主机19，有利于操作人员对机器进行具体程序的操作，降低了使用难度。
所述连接杆4、套环5和限位块6的数量均设置为2个且通过活动杆7对称设置，所述活动杆7通过套环5与连接杆4活动连接，所述连接杆4顶端与镀膜室2内腔顶部固定连接，所述电磁铁3与变频器20电性连接 ，所述变频器20、加热管17、加热器12、马达9、真空泵15和触摸屏均与控制主机19电性连接，所述变频器20型号设置为hlp-sk180，所述抽气管13贯穿镀膜室2底部延伸至固件室14内与真空泵15连接，所述加热管17设置于加热器12正下方，所述镀膜物质室16、蓄电池18、变频器20和控制主机19均设置于固件室14内腔，所述电磁铁3磁极方向与磁石8磁极方向相同。
本实用新型工作原理：工作时，通过触控屏22调节变频器20，控制电磁铁3接入线路中电流的大小调节电磁铁3磁场的强度，从而对磁石8进行不同力度的吸附，活动杆7两端的套环5在连接杆4外壁进行上下移动，使固定夹具10进行上下移动，改变了传统机械结构连接的方式，无需与外部机械结构进行对接，保证了镀膜室2真空密封的完整性，提高了产品镀膜的质量，控制加热管17和加热器12工作对镀膜物质室16内的靶材原料进行加热，同时控制真空泵15工作，配合抽气管13将镀膜室2内的空气抽出，使其真空，马达9工作对固定夹具10进行旋转，调整固定夹具10上基片原料的角度，便于进行镀膜工作。
最后应说明的是：以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (6)
1.一种真空镀膜机，包括机身（1），其特征在于：所述机身（1）顶部设有镀膜室（2），所述镀膜室（2）内腔顶部设有电磁铁（3），所述电磁铁（3）两侧均设有连接杆（4），所述连接杆（4）外壁套设有套环（5），所述连接杆（4）底端设有限位块（6），所述连接杆（4）之间设有活动杆（7），所述活动杆（7）顶部设有磁石（8），所述活动杆（7）底部设有马达（9），所述马达（9）输出轴底端设有固定夹具（10），所述镀膜室（2）内腔底部设有喷射口（11），所述喷射口（11）底部设有加热器（12），所述加热器（12）一侧设有抽气管（13），所述镀膜室（2）底部设有固件室（14），所述固件室（14）内腔设有真空泵（15），所述真空泵（15）一侧设有镀膜物质室（16），所述镀膜物质室（16）顶部设有加热管（17），所述镀膜物质室（16）一侧设有蓄电池（18），所述蓄电池（18）顶部设有控制主机（19），所述控制主机（19）一侧设有变频器（20），所述机身（1）侧壁设有控制面板（21），所述控制面板（21）上设有触控屏（22）。
2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜机，其特征在于：所述连接杆（4）、套环（5）和限位块（6）的数量均设置为2个且通过活动杆（7）对称设置。
3.根据权利要求1所述的一种真空镀膜机，其特征在于：所述活动杆（7）通过套环（5）与连接杆（4）活动连接，所述连接杆（4）顶端与镀膜室（2）内腔顶部固定连接。
4.根据权利要求1所述的一种真空镀膜机，其特征在于：所述电磁铁（3）与变频器（20）电性连接 ，所述变频器（20）、加热管（17）、加热器（12）、马达（9）、真空泵（15）和触摸屏均与控制主机（19）电性连接，所述变频器（20）型号设置为hlp-sk180。
5.根据权利要求1所述的一种真空镀膜机，其特征在于：所述抽气管（13）贯穿镀膜室（2）底部延伸至固件室（14）内与真空泵（15）连接，所述加热管（17）设置于加热器（12）正下方，所述镀膜物质室（16）、蓄电池（18）、变频器（20）和控制主机（19）均设置于固件室（14）内腔。
6.根据权利要求1所述的一种真空镀膜机，其特征在于：所述电磁铁（3）磁极方向与磁石（8）磁极方向相同。
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111349893A (zh) * | 2020-04-20 | 2020-06-30 | 胡均松 | 一种可快速干燥的真空镀膜设备 |
| CN111945122A (zh) * | 2020-08-07 | 2020-11-17 | 安徽诚志显示玻璃有限公司 | 一种tft镀膜装置 |
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| CN111945122A (zh) * | 2020-08-07 | 2020-11-17 | 安徽诚志显示玻璃有限公司 | 一种tft镀膜装置 |
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