CN206869633U

CN206869633U - 研磨垫

Info

Publication number: CN206869633U
Application number: CN201590000935.8U
Authority: CN
Inventors: 小池坚; 小池坚一; 德重伸; 柏田太志; 栗原浩
Original assignee: Fujibo Holdins Inc
Current assignee: Fujibo Holdins Inc
Priority date: 2014-09-08
Filing date: 2015-09-08
Publication date: 2018-01-12
Anticipated expiration: 2025-09-08
Also published as: WO2016039334A1; JP2016055364A

Abstract

提供一种在用于镜面精加工研磨时能够得到足够的研磨精度的研磨垫。研磨垫(1)是将研磨薄膜(9)贴附在圆板形状的中心基材(7)的外周面上而成的研磨垫，其特征在于，研磨薄膜(9)利用湿式成膜法形成。根据按这种方式构成的研磨垫(1)，能够得到在外周上贴附有利用湿式成膜法形成的研磨薄膜(9)的研磨垫。而且，通过使用利用湿式成膜法形成的研磨薄膜(9)进行精加工研磨，能够得到反射光的歪斜少、损伤少、且形状稳定的产品。

Description

研磨垫

技术领域

本实用新型涉及研磨垫，尤其涉及适合于进行镜面精加工研磨的研磨垫。

背景技术

一直以来，进行如下工作：为了对项链、手镯、耳环等装饰品或便携式音响、移动电话、智能手机、平板终端等电子设备的表面进行镜面精加工研磨，使用研磨垫(例如专利文献1)。对于这些产品而言，倾向于重视外观的美观，露出面的精加工研磨的完成情况会给产品购买者的满意度带来很大的影响。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平6-158521号公报

在专利文献1中记载有作为镜面精加工研磨的研磨垫，使用了使氨基甲酸酯等树脂浸渗在由羊毛构成的毛毡中而成的玻璃板用研磨轮。

实用新型内容

实用新型所要解决的问题

然而，在专利文献1记载的研磨垫中，存在如下问题：由于其研磨面的硬度高和/或研磨面的表面粗糙，所以不能够达成能够满足产品购买者或产品制造者的要求的加工面美观程度。

因此，本实用新型是为了解决上述问题而作出的，其目的在于提供一种例如在用于镜面精加工研磨时能够得到足够的研磨精度的研磨垫。

用于解决问题的方案

为了解决上述问题，本实用新型是一种将研磨件贴附于圆板形状的中心基材的外周面而成的研磨垫，其特征在于，所述研磨件利用湿式成膜法形成。

根据按这种方式构成的本实用新型，能够得到在外周上贴附有利用湿式成膜法形成的研磨件的研磨垫。而且，通过使圆板形状的外周面为研磨面，从而适合用于对作为形状为立体和/或在其表面上具有凹凸面的被研磨物的装饰品或电子设备等的表面进行镜面精加工研磨，另外，对所述被研磨物表面的一部分进行研磨也变容易。并且，通过使用利用湿式成膜法形成的研磨件进行精加工研磨，能够得到反射光的歪斜少、损伤少、且形状稳定的产品。

在本实用新型中，优选的是，在与所述中心基材的外周长相当的长度的外周基材上贴附用湿式成膜法形成的薄膜而形成所述研磨件。

根据按这种方式构成的本实用新型，在贴附薄膜时难以在薄膜上产生褶皱，并能够更均匀地贴附于中心基材的外周。

另外，在本实用新型中，优选的是，利用粘合件或粘接剂中的至少一方，将用湿式成膜法形成的薄膜贴附于所述中心基材的外周而形成所述研磨件。

根据按这种方式构成的本实用新型，例如，在使中心基材的外周面在与其旋转方向正交的截面内弯曲的情况下，也能够容易地贴附研磨件。

另外，在本实用新型中，优选的是，所述薄膜的始端和末端以与所述中心基材的旋转方向不正交的角度接合。

根据按这种方式构成的本实用新型，能够减少在使研磨垫旋转时施加于薄膜的接合部的负荷，并抑制在旋转时薄膜从始端或末端剥落。

实用新型效果

如上所述，根据本实用新型，例如，在用于镜面精加工研磨时能够得到足够的研磨精度。

附图说明

图1是具备本实用新型的实施方式的研磨垫的研磨装置的侧视图。

图2是图1所示的II-II截面的剖视图。

图3是从图1所示的III-III面观察到的俯视图。

图4是表示本实用新型的实施方式的研磨垫的变形例的图，是与图1的II-II截面相当的截面的图。

具体实施方式

以下，参照附图，说明本实用新型的实施方式的研磨垫。图1是具备本实用新型的实施方式的研磨垫的研磨装置的侧视图。

首先，如图1所示，研磨装置具备本实用新型的实施方式的研磨垫1和在研磨时向研磨垫1的研磨面供给研磨浆料的浆料供给装置3。这样的研磨装置构成为：使研磨垫1绕X轴向箭头R方向旋转，并在研磨垫1与被研磨物5的接触点的旋转方向上游侧，从浆料供给装置 3向研磨垫1的研磨面供给研磨浆料。

研磨垫1具备被支承为能够绕X轴旋转的中心基材7和贴附于中心基材7的径向外周面的研磨薄膜9。中心基材7例如由将金属或树脂这样的具有一定硬度的材料加工成具有规定厚度的圆板状而成的部件构成。中心基材7的外周面以在取旋转轴方向的截面时凹凸歪斜变小的方式形成。并且，在中心基材7的外周面上贴附有研磨薄膜9。

研磨薄膜9由长条薄膜形成，所述长条薄膜具有与中心基材7的外周长相当的长度，并且具有与中心基材7的厚度相当的宽度。研磨薄膜9由利用湿式成膜法制造的例如聚氨酯片构成。在使用湿式成膜法制造聚氨酯片的情况下，首先，将聚氨酯树脂溶解于DMF溶液，并将其涂敷在成膜基材11上。然后，通过将成膜基材11下沉到水槽中，使树脂在水中凝固再生。当将成膜基材11下沉到水槽中时，树脂从其与水接触的面起逐渐开始凝固，与水接触的面附近的树脂构成所谓的皮层(skin layer)。另外，由于在树脂的凝固期间水槽内的水从其与树脂的接触面进入树脂内，所以在树脂内形成空间。由水槽内的水形成的树脂内的空间成为从皮层朝向厚度方向下垂的泪珠形。然后，通过抛光(buff)处理，除去研磨薄膜9的皮层，使气泡在研磨面露出。像这样用湿式成膜法制造的研磨薄膜9具有肖式A硬度(Shore Hardness)约5～60度的硬度，并且具有压缩率约3～60％、以及压缩弹性模量70～99％这样的物理特性。

各物性的测量方法如下所述。

1.肖式A硬度

(1)硬度计：A型硬度计

(2)试验方法：从研磨薄膜切出试验片(10cm×10cm)，以厚度成为4.5mm以上的方式将多块试验片重叠，并载置在硬度计的试样台上，在一块试样上分别测量三个位置并求出平均值。

2.压缩率·压缩弹性模量(根据JISL1021进行测量)

(1)测量器：肖伯尔(Schopper)式厚度测量器

(2)试验方法

1)用初始载荷100g加压30秒钟，并测量其厚度t₀。

2)进一步加载载荷1120g，在5分钟后测量厚度t₁。

3)除去全部载荷，使其为无载荷并放置5分钟后，再次用初始载荷100g加压30秒钟，并测量其厚度t₀'。

4)压缩率和压缩弹性模量利用下述公式算出。

压缩率(％)＝(t₀-t₁)/t₀×100

压缩弹性模量(％)＝(t₀'-t₁)/(t₀-t₁)×100

优选在将研磨薄膜9贴附于中心基材7的外周面时，首先，对中心基材7的外周面实施抛光处理。由此，能够消除中心基材7的外周面上的凹凸，并使研磨薄膜9的研磨面更平坦。另外，作为成膜基材 11，例如能够使用PET薄膜或无纺布片。在该情况下，也可以不从成膜基材11剥下研磨薄膜9，使双面胶介于成膜基材11与中心基材7 的外周面之间而将研磨薄膜9贴附于中心基材7。在该情况下，在成膜时使用的成膜基材11发挥外周基材的作用，所述外周基材作为将研磨薄膜9贴附于中心基材7时的基础。

另外，也可以剥下在成膜时使用的成膜基材11，使用环氧树脂等粘接剂，直接将研磨薄膜9贴附于中心基材7的外周面。另外，也可以在使用双面胶等粘合件的方法和使用粘接剂的方法中的任一种情况下，将多张研磨薄膜9层叠于中心基材7的外周面。

另外，也可以在研磨薄膜9上形成在研磨薄膜9的宽度方向上延伸的多个槽。虽然槽也取决于研磨薄膜9的尺寸和被研磨物5的尺寸，但能够使用例如宽度0.5～5mm、长度1～20mm(优选与研磨薄膜9 的宽度相当)、深度0.3～2mm的槽。研磨薄膜9的槽例如通过在将研磨薄膜9贴附于中心基材7之前，对研磨薄膜9的研磨面实施压花加工或对研磨薄膜9的研磨面实施切削加工而形成。通过形成这样的槽，能够根据被研磨物5的形状实施最佳的镜面研磨。

另外，在将研磨薄膜9贴附于中心基材7的外周面时，需要将研磨薄膜9的始端和末端这两端无间隙地接合，如图3所示，优选以与中心基材的旋转方向(研磨薄膜9的长度方向)不正交的角度且互补的形状切断研磨薄膜9的始端和末端。由此，研磨薄膜9的两端的接合处向与中心基材的旋转方向不正交的方向例如呈45度的角度延伸。由此，能够减轻在研磨时施加于研磨薄膜9的接合处的负荷，能够抑制在研磨时研磨薄膜9从接合处剥落。另外，当在研磨薄膜9的研磨面上形成上述槽时，也可以在成为接合处的部分形成槽。通过这样的方法，也能够减轻施加于接合处的负荷。

另外，在中心基材7的直径大的情况下，也可以将多块研磨薄膜 9以其端部与相邻的研磨薄膜9的端部无间隙地接合的方式连结。

如上所述，根据本实用新型的实施方式的研磨垫1，通过使用利用湿式成膜法形成的研磨薄膜9进行精加工研磨，能够得到反射光的歪斜少、损伤少、且形状稳定的产品。

另外，通过利用粘接剂或双面胶这样的粘合件将研磨薄膜9贴附于中心基材7的外周，能够容易进行研磨薄膜9的贴附作业。另外，通过以与中心基材7的旋转方向不正交的角度接合研磨薄膜9的始端和末端，能够减少在使研磨垫1旋转时施加于研磨薄膜9的接合部的负荷，并抑制在旋转时研磨薄膜9从始端或末端剥落。

图4是表示本实用新型的实施方式的变形例的图，是与图1的II-II 截面相当的截面的图。作为变形例，有如图4(a)所示在与其旋转方向R正交的截面内使中心基材7的外周面为凹状的变形例、如图4(b) 所示使中心基材7的外周面为凸状的变形例。如上所述，通过使中心基材7的外周面为凹状或凸状，能够对应于各种形状的被研磨物5的表面而实施镜面精加工。

另外，如变形例的研磨垫那样，在使中心基材7的外周面为凹状或凸状时，有可能在贴附研磨薄膜9时由于内外周差而形成褶皱。在该情况下，为了防止研磨薄膜9的褶皱，能够在研磨薄膜9的研磨面或贴附面的宽度方向两端形成多个微小的槽或形成多个微小的三角形的切口。由此，能够吸收中心基材7的内外周差。

附图标记说明

1 研磨垫

5 被研磨物

7 中心基材

9 研磨薄膜

Claims

1.一种将研磨件贴附于圆板形状的中心基材的外周面而成的研磨垫，其特征在于，

将利用湿式成膜法形成的所述研磨件贴附于所述中心基材的外周面。

2.根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于，

在与所述中心基材的外周长相当的长度的外周基材上贴附用湿式成膜法形成的薄膜而形成所述研磨件。

3.根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于，

利用粘合件和粘接剂中的至少一方，将用湿式成膜法形成的薄膜贴附于所述中心基材的外周而形成所述研磨件。

4.根据权利要求2或3所述的研磨垫，其特征在于，

所述薄膜的始端和末端以与所述中心基材的旋转方向不正交的角度接合。