CN206856238U - 非感光性网版结构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型主要为提供一种非感光性网版结构，包括：一网框；一网布，包括上下交错的多条经线及多条纬线，多条经线及多条纬线分别通过预定张力拉伸并固定于网框上，且网布包括一第一侧及一第二侧；以及一高分子材料层，包覆网布的第二侧而部分包覆或不包覆网布的第一侧，且高分子材料层包括多个开口图案，其中，多个开口图案的每一个包括多条经线及多条纬线，且多个开口图案中的多条经线及多条纬线于第一侧处不包括高分子材料层。
Description
技术领域
本实用新型为一种印刷网版结构，特别指一种直接利用激光束在网版上切割出开口图案，并通过多次加工，以增加网版透墨量的非感光性网版结构。
背景技术
在非感光性网版的制造原理中，通过交错编织多条经、纬线以形成一网布后，再将网布拉伸固定至一网框上，之后于网布上涂布并形成一高分子材料层，最后通过镭射蚀刻方式去除部分高分子材料层，以形成印刷时所需的开口图案。进行网版印刷时，操作者能利用刮刀施压进而刮印印墨，使得印墨透过镂空的网孔及开口图案在被印物上印上图案，以达到印刷的目的。
图1a为一示意图，用以说明现有技术中非感光性网版的结构；图1b为一示意图，用以说明图1a中的A’-A’剖面结构。请参照图1a及图1b，一般的非感光性网版1包括由多条纬线10及多条经线12交错编织形成的一网布，以及涂布并形成在网布上的一高分子材料层14，此外，从图1b的剖面结构可知，非感光性网版1包括一刮刀面16以及一印刷面18，操作者能利用刮刀在刮刀面16上施压进而刮印印墨，印墨会透过印刷面18而印至待印物上。当在网布上涂布并形成一高分子材料层14后，会从印刷面18处，通过镭射蚀刻方式去除部分的高分子材料层14，以形成印刷时所需的开口图案。
图1c为一示意图，用以说明现有技术中非感光性网版经镭射蚀刻后的结构。请参照图1c，于印刷面18处，通过镭射蚀刻方式去除部分的高分子材料层14，会形成印刷时所需的多个开口图案143。然而，因镭射是从印刷面18 处射入，以去除部分的高分子材料层14，有些高分子材料会因为位于镭射蚀刻的死角(例如位于多条经线12及多条纬线10上方，靠近刮刀面16的高分子材料)，而无法被镭射蚀刻去除，导致会在非感光性网版1的多个开口图案143 处留下未移除的高分子材料141。当刮刀从刮刀面16上施压进而刮印印墨进多个开口图案143时，这些未移除的高分子材料141即会影响透墨率，导致印刷出来的图案有瑕疵，进而导致产品良率下降。
基于上述理由，如何形成一种非感光性网版结构，使非感光性网版结构中不会产生未移除的高分子材料，以让开口图案在印刷时透墨顺利，是待解决的问题。
实用新型内容
鉴于上述现有技术的缺点，本实用新型的主要目的为提供一种非感光性网版结构，包括：一网框；一网布，包括上下交错的多条经线及多条纬线，多条经线及多条纬线分别通过预定张力拉伸并固定于网框上，且网布包括一第一侧及一第二侧；以及一高分子材料层，包覆网布的第二侧而部分包覆或不包覆网布的第一侧，且高分子材料层包括多个开口图案，其中，多个开口图案的每一个包括多条经线及多条纬线，且多个开口图案中的多条经线及多条纬线于第一侧处不包括高分子材料层。
较佳地，当高分子材料层部分包覆网布的第一侧时，多个开口图案于第一侧的开口大小大于多个开口图案于第二侧的开口大小。
较佳地，当高分子材料层不包覆网布的第一侧时，多个开口图案的每一个于第二侧的剖面形状为一梯形形状。
较佳地，通过镭射以蚀刻高分子材料层，以形成多个开口图案。
较佳地，通过钻头雕刻高分子材料层，以形成梯形形状的多个开口图案。
较佳地，多条经线为一第一金属材质，多条纬线为一第二金属材质。
较佳地，第一金属材质为不锈钢、铜或镍的其中之一，第二金属材质为钨钢或钛的其中之一。
较佳地，通过金属蚀刻液以蚀刻多个开口图案中的多条经线，使多个开口图案中不包括多条经线。
较佳地，不同金属材质的多条经线及多条纬线互相卡合。
较佳地，高分子材料层所使用的高分子材料为PET、PE、PI、PU、PVC、 PP、PTFE、PMMA、PS或其他高分子合成材料的其中之一。
本实用新型的其它目的、好处与创新特征将可由以下本实用新型的详细范例连同附属图式而得知。
附图说明
图1a为说明现有技术中非感光性网版的结构示意图；
图1b为说明图1a中的A’-A’剖面结构示意图；
图1c为说明现有技术中非感光性网版经镭射蚀刻后的结构示意图；
图2a为说明本实用新型一实施例的非感光性网版结构中网布及网框的结构示意图；
图2b为说明图2a中的区域A的结构的扫描电子显微镜(Scanning ElectronMicroscope，SEM)示意图；
图3a为说明本实用新型一实施例的包括高分子材料层的非感光性网版的结构示意图；
图3b为说明本实用新型图3a中的A”-A”剖面结构示意图；
图4a为说明本实用新型一实施例中加工前的非感光性网版的剖面结构示意图；
图4b为说明本实用新型一实施例中加工后的非感光性网版的剖面结构示意图；
图4c为说明本实用新型其他实施例中加工后的非感光性网版的剖面结构示意图；
图5a为说明本实用新型另一实施例中，在网布上涂布并形成一感光乳剂层的剖面结构示意图；
图5b为说明本实用新型另一实施例中，在图5a的网布结构上涂布并形成一高分子材料层的结构示意图；
图5c为说明本实用新型另一实施例中，在图5b的网布结构上移除网布第一侧上的感光乳剂层后的结构示意图；
图5d为说明本实用新型另一实施例中，在图5c的网布结构上形成多个开口图案后的结构示意图；
图6a为说明本实用新型再一实施例中，在图5c的网布结构上形成多个开口图案前的结构示意图；以及
图6b为说明本实用新型再一实施例中，在图5c的网布结构上形成多个开口图案后的结构示意图。
1 网版
10、24 纬线
12、22 经线
14、26 高分子材料层
141 未移除的高分子材料
143 开口图案
16 刮刀面
18 印刷面
2 网布
20 网框
201 第一侧
203 第二侧
261 未移除的高分子材料
28 开口图案
50 感光乳剂层
60 钻头
601 开口图案
A 区域
W 宽度
具体实施方式
以下配合图式及组件符号对本实用新型的实施方式做更详细的说明，以使本领域技术人员在研读本说明书后能据以实施。
图2a为一示意图，用以说明本实用新型一实施例的非感光性网版结构中网布及网框的结构。请参照图2a，本实用新型一实施例的非感光性网版结构包括由多条经线22及多条纬线24上下交错编织而成的一网布2，且网布2会先经过一轧压动作轧压后再拉伸固定于一网框20上，网布2经轧压动作轧压后会互相卡合固定。在本实用新型一实施例中，多条经线22为一第一金属材质，第一金属材质例如为不锈钢、铜或镍的其中之一，而多条纬线24为一第二金属材质，第二金属材质例如为钨钢或钛金属的其中之一。其中，铜的硬度为3，不锈钢的硬度为5.5，镍的硬度为4，钨钢及钛金属的硬度皆为9，当不同硬度的多条经线22及多条纬线24被轧压后，硬度较高的多条纬线24与硬度较低的多条经线22会进一步互相卡合固定。在本实用新型其他实施例中，多条经线22及多条纬线24为其他材质(例如尼龙、特多龙等)。
图2b为一扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscope，SEM)示意图，用以说明图2a中的区域A的结构。请参照图2b，由图2b的SEM图可看出，多条经线22及多条纬线24在经过轧压动作后，多条纬线24与多条经线22 会互相卡合固定，以稳固网布2的结构。当多条经线22及多条纬线24为金属材质时，硬度较高的多条纬线24与硬度较低的多条经线22会进一步互相卡合固定。
图3a为一示意图，用以说明本实用新型一实施例的包括高分子材料层的非感光性网版的结构。请参照图3a，当网布2拉伸固定至网框20上后，接着利用一高分子材料以包覆住网布2，进一步在网布2上形成一高分子材料层26，高分子材料是由相对分子质量较高的化合物构成的材料，结构强度相对较高。因此，当网布2中的多条经线22及多条纬线24互相卡合固定后，本实用新型可以通过高分子材料层26进一步包覆住网布2，以强化并稳固网布2的结构。
在本创作一实施例中，高分子材料层26的所使用的高分子材料为PET、 PE、PI、PU、PVC、PP、PTFE、PMMA、PS或其他高分子合成材料的其中之一。此外，在本实用新型一实施例中，可将薄膜形式的高分子材料与网布2 以热压合的方式结合，使该高分子材料包覆网布2并形成高分子材料层26。在本实用新型其他实施例中，可以将液态形式的该高分子材料与网布2以湿式涂布方式、刮槽式涂布、浸泡式涂布、旋转式涂布、喷涂式涂布或狭缝式涂布的其中之一的方式结合，使该高分子材料包覆网布2，以形成高分子材料层26。
图3b为一示意图，用以说明本实用新型图3a中的A”-A”剖面结构。请参照图3b，在剖面结构中，可清楚看出高分子材料层26包覆住网布2中的多条经线22及多条纬线24，以进一步通过高分子材料层26强化并稳固网布2 整体的结构。此外，网布2包括一第一侧201(即网布2的上半部)以及一第二侧203(即网布2的下半部)，当高分子材料包覆住网布2以形成高分子材料层 26后，网布2会包括一刮刀面16以及一印刷面18，此时，高分子材料层26 亦会包覆住网布2的第一侧201以及第二侧203。
为了使说明更加清楚，图4a及图4b会使用图3b的剖面图式来作进一步的说明。图4a为一剖面示意图，用以说明本实用新型一实施例中加工前的非感光性网版结构。请参照图4a，在本实用新型一实施例中，于印刷面18处，通过镭射蚀刻方式去除部分的高分子材料层26后，会形成印刷时所需的多个开口图案28，而部分网布2的第一侧201及第二侧203亦会裸露出来。然而，因镭射是从印刷面18处射入，以去除部分的高分子材料层26，有些高分子材料会因为位于镭射蚀刻的死角(例如位于多条经线22及多条纬线24上方，靠近刮刀面16的高分子材料，亦即开口图案28中第一侧201上的高分子材料 261)，而无法被镭射蚀刻去除，导致会在非感光性网版的多个开口图案28处留下未移除的高分子材料261。
应了解的是，通过镭射以蚀刻高分子材料层26时(高分子材料与经线、纬线的熔点与汽化点不同)，可以调整镭射的能量与波长，而使镭射将高分子材料去除。此外，图4a中示出的剖面结构中，多个开口图案28的每一个只包括一条经线22及一条纬线24，但实际上多个开口图案28可能会横跨多条经线 22及多条纬线24(亦即多个开口图案28的每一个会包括多条经线22及多条纬线24)。
图4b为一剖面示意图，用以说明本实用新型一实施例中加工后的非感光性网版结构。请参照图4a及图4b，在本实用新型一实施例中，当使用镭射从印刷面18处射入以蚀刻去除部分的高分子材料层26后，本实用新型会再使用镭射从刮刀面16处射入，以蚀刻去除网布2第一侧201上所有的高分子材料层26及未移除的高分子材料261，并形成在第一侧201上不包括任何高分子材料层26的网布2(亦即高分子材料层26只会包覆网布2的第二侧203)，且网布2的第一侧201会成为新的刮刀面。如此一来，当使用刮刀从第一侧201 上施压进而刮印印墨进多个开口图案28时，并不会有未移除的高分子材料261 影响到透墨率，因此可使透墨率优化，使印刷出来的成品不具有瑕疵。
应了解的是，本实用新型的网布2中的多条经线22及多条纬线24具有一定的结构强度，优选地，是使用金属材质的经、纬线交错编织而成，因此经、纬线具有一定的结构强度，当刮刀从上半部裸露的网布2的第一侧201刮印印墨时，多条经、纬线可以抵挡刮刀所施的力量，而不会破坏网布2的结构。再者，本实用新型的网布2已经由多条纬线24与多条经线22事先互相卡合固定，因此当网布2第一侧201上的高分子材料层26被蚀刻去除后，并不会破坏网布2的整体结构。
图4c为一示意图，用以说明本实用新型其他实施例中加工后的非感光性网版结构。请参照图4a及图4c，在本实用新型其他实施例中，当使用镭射从印刷面18处射入以蚀刻去除部分的高分子材料层26后，本实用新型会再使用镭射从刮刀面16处射入，以蚀刻去除网布2的第一侧201上，靠近多个开口图案28的部分高分子材料层26及未移除的高分子材料261，并在多个开口图案28的每一个的第一侧201处形成一宽度为w的开口，使多个开口图案28 于第一侧201的开口大小大于多个开口图案28于第二侧203的开口大小。如此一来，当使用刮刀从刮刀面16上施压进而刮印印墨进多个开口图案28时，并不会有未移除的高分子材料261影响到透墨率，因此可使透墨率优化，使印刷出来的成品不具有瑕疵。
应了解的是，在本实用新型其他实施例中，当完成图4b或图4c的结构后，且多条经线22及多条纬线24为金属材质时，可再通过金属蚀刻液蚀刻掉多个开口图案28中的多条经线22，如此一来，多个开口图案28中即不具有多条经线22。其中，不同金属材质的多条经线22及多条纬线24对金属蚀刻液会有不同的反应，本实用新型即通过金属蚀刻液而只将多条经线22蚀刻掉。
将多个开口图案28中的多条经线22去除后，即可避免在多个开口图案 28中出现多条经线22及多条纬线24的交错结点，以进一步提高网版印刷时印墨的渗透量，同时亦克服了因交错节点而使得在印刷时产生断线的情形。再者，因已先通过将经线22及纬线24互相卡合固定，之后再通过高分子材料层 26包覆住网布2，以进一步强化并稳固网布整体的结构，所以网布2不会因蚀刻而断裂。
本实用新型亦提供形成上半部裸露的网布的另一种实施方式，用于说明另一种实施方式的图5a会使用图2a中的A”’-A”’剖面图式来做进一步的说明。图5a为一剖面示意图，用以说明本实用新型另一实施例中，在网布上涂布并形成一感光乳剂层的结构。请参照图5a，在本实用新型另一种实施例中，当交错编织多条经线22及多条纬线24以形成一网布2后，会先在网布2的第一侧201上涂布并形成一感光乳剂层50，而不会直接在网布2上涂布并形成一高分子材料层。
图5b为一剖面示意图，用以说明本实用新型另一实施例中，在图5a的网布结构上涂布并形成一高分子材料层的结构。请参照图5b，在本实用新型另一实施例中，当在网布2的第一侧201上涂布并形成一感光乳剂层50后，会在网布2的第二侧203上涂布并形成一高分子材料层26。
类似地，在本实用新型另一实施例中，高分子材料层26的所使用的高分子材料为PET、PI、PU、PVC、PP、PTFE、PMMA、PS或其他不为感光乳剂的高分子合成材料的其中之一，以跟感光乳剂层50作出区隔。此外，在本实用新型另一实施例中，可将薄膜形式的高分子材料与网布2以热压合的方式结合，使该高分子材料包覆网布2的第二侧203并形成高分子材料层26；或者，可通过将该高分子材料作为一薄膜后，再于该高分子材料上或于网布2的第二侧203上涂一层胶，之后再将网布2及该高分子材料透过胶而贴合结合，使该高分子材料包覆网布2的第二侧203，以形成高分子材料层26。在本实用新型其他实施例中，可以将液态形式的该高分子材料与网布2以湿式涂布方式、刮槽式涂布、浸泡式涂布、旋转式涂布、喷涂式涂布或狭缝式涂布的其中之一的方式结合，使该高分子材料包覆网布2的第二侧203，以形成高分子材料层26。
图5c为一示意图，用以说明本实用新型另一实施例中，在图5b的网布结构上移除网布第一侧上的感光乳剂层后的结构。请参照图5c，在本实用新型另一实施例中，在网布2的第二侧203上涂布并形成高分子乳剂层26后，会去除网布2第一侧201上的感光乳剂层50，以形成上半部裸露的网布2，最后只会在网布2的第二侧203上留下高分子材料层26。
图5d为一示意图，用以说明本实用新型另一实施例中，在图5c的网布结构上形成多个开口图案后的结构。请参照图5d，在本实用新型另一实施例中，去除网布2第一侧201上的感光乳剂层50后，会于网布2的印刷面18，通过镭射蚀刻方式去除部分的高分子材料层26，以形成印刷时所需的多个开口图案28，且网布2的第一侧201会成为新的刮刀面。如此一来，当使用刮刀从第一侧201上施压进而刮印印墨进多个开口图案28时，并不会有未移除的高分子材料影响到透墨率，因此可使透墨率优化，使印刷出来的成品不具有瑕疵。
此外，类似地，图5d中示出的剖面结构中，多个开口图案28的每一个只包括一条经线22及一条纬线24，但实际上多个开口图案28可能会横跨多条条经线22及多条条纬线24(亦即多个开口图案28的每一个会包括多条条经线 22及多条条纬线24)。
图6a为一示意图，用以说明本实用新型再一实施例中，在图5c的网布结构上形成多个开口图案前的结构；图6b为一示意图，用以说明本实用新型再一实施例中，在图5c的网布结构上形成多个开口图案后的结构。请参照图5c、图6a及图6b，在本实用新型再一实施例中，可以在图5d的网布2结构中，通过一钻头60在网布2的下半部(第二侧203)的高分子材料层26上雕出多个梯形形状(上窄下宽或上宽下窄)的开口图案601，以通过多个开口图案601印制出不同图样的图案。
类似地，在本实用新型其他实施例中，当完成图5d或图6b的结构后，且多条经线22及多条纬线24为金属材质时，可再通过金属蚀刻液蚀刻掉多个开口图案28中的多条经线22，如此一来，多个开口图案28中即不具有多条经线22。其中，不同金属材质的多条经线22及多条纬线24对金属蚀刻液会有不同的反应，本实用新型即通过金属蚀刻液而只将多条经线22蚀刻掉。
此外，类似地，图6b中示出的剖面结构中，多个开口图案601的每一个只包括一条经线22及一条纬线24，但实际上多个开口图案601可能会横跨多条经线22及多条纬线24(亦即多个开口图案28的每一个会包括多条经线22 及多条纬线24)。
由上述内容可知，本实用新型提供了一种非感光性网版结构，在该非感光性网版结构中的网布，该网布的上半部(第一侧)为裸露的，而该网布的下半部 (第二侧)是被高分子材料层所包覆，且该高分子材料层包括多个开口图案。当该网布的上半部(第一侧)为裸露，并使用刮刀从该第一侧上施压进而刮印印墨进该等开口图案时，不会有未移除的高分子材料遗留在经线上，进而影响到透墨率，因此可使透墨率优化，使印刷出来的成品不具有瑕疵。
以上所述仅为用以解释本实用新型的较佳实施例，并非企图据以对本实用新型做任何形式上的限制，是以，凡有在相同的创作精神下所作有关本实用新型的任何修饰或变更，皆仍应包括在本实用新型意图保护的范畴。
Claims (10)
1.一种非感光性网版结构，其特征在于，包括：
一网框；
一网布，包括上下交错的多条经线及多条纬线，该多条经线及该多条纬线分别通过预定张力拉伸并固定于该网框上，且该网布包括一第一侧以及一第二侧；以及
一高分子材料层，包覆该网布的该第二侧而部分包覆或不包覆该网布的该第一侧，且该高分子材料层包括多个开口图案，
其中，该多个开口图案的每一个包括该多条经线及该多条纬线，且该多个开口图案中的该多条经线及该多条纬线于该第一侧处不包括该高分子材料层。
2.如权利要求1所述的非感光性网版结构，其特征在于，当该高分子材料层部分包覆该网布的该第一侧时，该多个开口图案于该第一侧的开口大小大于该多个开口图案于该第二侧的开口大小。
3.如权利要求1所述的非感光性网版结构，其特征在于，当该高分子材料层不包覆该网布的该第一侧时，该多个开口图案的每一个于该第二侧的剖面形状为一梯形形状。
4.如权利要求1所述的非感光性网版结构，其特征在于，通过镭射以蚀刻该高分子材料层，以形成该多个开口图案。
5.如权利要求3所述的非感光性网版结构，其特征在于，通过钻头雕刻该高分子材料层，以形成梯形形状的该多个开口图案。
6.如权利要求1所述的非感光性网版结构，其特征在于，该多条经线为一第一金属材质，该多条纬线为一第二金属材质。
7.如权利要求6所述的非感光性网版结构，其特征在于，该第一金属材质为不锈钢、铜或镍的其中之一，该第二金属材质为钨钢或钛的其中之一。
8.如权利要求6所述的非感光性网版结构，其特征在于，通过金属蚀刻液以蚀刻该多个开口图案中的该多条经线，使该多个开口图案中不包括该多条经线。
9.如权利要求7所述的非感光性网版结构，其特征在于，不同金属材质的该多条经线及该多条纬线互相卡合。
10.如权利要求1所述的非感光性网版结构，其特征在于，该高分子材料层所使用的高分子材料为PET、PE、PI、PU、PVC、PP、PTFE、PMMA或PS的其中之一。
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Cited By (6)
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|---|---|---|---|---|
| TWI645250B (zh) * | 2018-03-01 | 2018-12-21 | 倉和股份有限公司 | Composite material screen and manufacturing method thereof |
| CN110370791A (zh) * | 2019-08-27 | 2019-10-25 | 江苏上达电子有限公司 | 一种油墨印刷3d网版 |
| CN111469531A (zh) * | 2020-03-11 | 2020-07-31 | 昆山恒盛电子有限公司 | Se无网结网版制作工艺 |
| CN111559162A (zh) * | 2020-05-25 | 2020-08-21 | 江苏盛矽电子科技有限公司 | 一种聚酰亚胺太阳能网版 |
| CN111746098A (zh) * | 2020-05-25 | 2020-10-09 | 江苏盛矽电子科技有限公司 | 聚酰亚胺太阳能网版及其制备方法 |
| CN112693213A (zh) * | 2019-10-23 | 2021-04-23 | 苏州蓝昇精密制版科技有限公司 | 一种网版制备方法 |
-
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Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI645250B (zh) * | 2018-03-01 | 2018-12-21 | 倉和股份有限公司 | Composite material screen and manufacturing method thereof |
| CN110370791A (zh) * | 2019-08-27 | 2019-10-25 | 江苏上达电子有限公司 | 一种油墨印刷3d网版 |
| CN112693213A (zh) * | 2019-10-23 | 2021-04-23 | 苏州蓝昇精密制版科技有限公司 | 一种网版制备方法 |
| CN111469531A (zh) * | 2020-03-11 | 2020-07-31 | 昆山恒盛电子有限公司 | Se无网结网版制作工艺 |
| CN111559162A (zh) * | 2020-05-25 | 2020-08-21 | 江苏盛矽电子科技有限公司 | 一种聚酰亚胺太阳能网版 |
| CN111746098A (zh) * | 2020-05-25 | 2020-10-09 | 江苏盛矽电子科技有限公司 | 聚酰亚胺太阳能网版及其制备方法 |
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