CN206736103U - 玻璃导光板 - Google Patents

Abstract

一种玻璃导光板，其特征在于，所述玻璃导光板具有：第1面；与所述第1面对着的第2面；以及设置在所述第1面与所述第2面之间的至少一个第1端面，其中，波长550nm的光的吸收系数为1m^‑1以下，所述第1端面的波纹度曲线要素的平均高度Wc与波纹度曲线要素的平均长度WSm满足式(1) $W_c\≤\frac{1}{0.6{\mathrm{\π}}^2(n_g-1)}\·{\mathrm{WSm}}^2---\left(1\right)$ 。

Description

玻璃导光板

技术领域

本发明涉及一种玻璃板及玻璃板的制造方法。

背景技术

近年来，在以液晶电视、平板终端或智能手机为代表的携带型信息终端等中设置有液晶显示装置，液晶显示装置具有作为背光源的面状发光装置、及配置于该面状发光装置的光出射面侧的液晶面板。

面状发光装置中存在直下型与边缘照明型，但较多地采用可实现光源小型化的边缘照明型。边缘照明型的面状发光装置具有光源、导光板、反射片、及扩散片等。

来自光源的光自形成在导光板的侧面的入光端面(也简称为入光面)入射至导光扳内。导光板在与液晶面板对着的光出射面及作为相反侧的面的反射面上形成有多个反射点。反射片以与光反射面对着的方式配置，扩散片以与光出射面对着的方式配置。

自光源入射至导光板的光被反射点及反射片反射、自光出射面出射。自该光出射面出射的光被扩散片扩散之后，入射至液晶面板。

作为该导光板的材质，可采用透过率较高且耐热性优异的玻璃板(参见专利文献1、2)。

<现有技术文献>

<专利文献>

专利文献1：(日本)特开2013-093195号公报

专利文献2：(日本)特开2013-030279号公报

发明内容

<本发明所要解决的技术问题>

然而，当将玻璃板用作导光板时，以玻璃板的切断面(端面)为入光端面的方式配置。在此，由于切断面的状态，因而有时存在产生在光出射面上出射的光的亮度因场所而不均匀的现象(以下，称为亮度不均)，从而产生光学特性恶化的问题。

为防止上述光出射面的亮度不均的问题，而研究对入光端面进行加工。然而，以往并未充分考虑为抑制光出射面的亮度不均而应如何处理入光端面的表面状态。

本发明的实施方式的示例性的目的之一在于提供一种玻璃板及玻璃板的制造方法，当用作导光板时能够抑制亮度不均。

<用于解决技术问题的方案>

根据本发明的一个实施方式，提供一种玻璃板，其特征在于，所述玻璃板具有：第1面；与所述第1面对着的第2面；以及设置在所述第1面与所述第2面之间的至少一个第1端面，其中，所述第1端面的波纹度曲线要素的平均高度Wc与波纹度曲线要素的平均长度WSm满足下式(1)，n_g为玻璃板的折射率。

[数1]

根据本发明的另一个实施方式，提供一种玻璃板，其特征在于，所述玻璃板具有：第1面；与所述第1面对着的第2面；以及设置在所述第1面与所述第2面之间的至少一个第1端面，其中，在以功率谱表示所述第1端面的周期结构时，所述功率谱的形状的空间频率为0.01～10mm^-1的范围中的最大峰值位置S_p小于1mm^-1。

<发明的效果>

根据本发明，能够提供一种玻璃板及玻璃板的制造方法，当用作导光板时能够抑制亮度不均。

附图说明

图1是表示将作为一个实施方式的玻璃用作导光板的液晶显示装置的概要构成图。

图2是表示导光板的光反射面的图。

图3是导光板的立体图。

图4是用于对形成在导光板上的倒角面进行说明的图。

图5是作为一个实施方式的玻璃板的制造方法的步骤图。

图6是用于对作为一个实施方式的玻璃板的制造方法的切断结构进行说明的图。

图7是用于对镜面加工步骤进行说明的图。

图8是表示入光端面的波纹度曲线要素的平均高度Wc、波纹度曲线要素的平均长度WSm与来自光源的平行光的焦距的关系的图。

图9是试料1～5的入光端面的功率谱分布。

图10是试料6～9的入光端面的功率谱分布。

具体实施方式

接着，参照附图对本发明的非限定性的示例性的实施方式进行说明。需要说明的是，在所有附图的记载中，对于相同或对应的部件或零件标注相同或对应的符号，并省略重复的说明。另外，对于附图，只要未特别指定，则不以表示部件或零件之间的相对比为目的。因此，对于具体的尺寸，可以依照以下的非限定性的实施方式，由本领域技术人员来确定。另外，以下所说明的实施方式为示例性的实施方式而非限定发明的实施方式，在实施方式中所说明的所有特征或其组合未必限定为本发明的本质的特征。

<液晶显示装置>

图1表示出使用作为本发明的一个实施方式的玻璃板的液晶显示装置1。液晶显示装置1装载于例如携带型信息终端等实现了小型、薄型化的电子设备上。液晶显示装置1具有液晶面板2及面状发光装置3。

液晶面板2以夹隔配设中心的液晶层的方式层叠有取向层、透明电极、玻璃基板及偏光滤光器。另外，在液晶层的单面，配设有彩色滤光器。液晶层的分子通过对透明电极施加驱动电压而围绕配向轴旋转，由此进行预定的显示。

面状发光装置3为实现小型化及薄型化而采用边缘照明型。面状发光装置3具有光源4、导光板5、反射片6、扩散片7、及反射点10A～10C。自光源4入射至导光板5的光一边被反射点10A～10C及反射片6反射一边行进，从而自导光板5的与液晶面板2对着的光出射面51出射。自该光出射面51出射的光被扩散片7扩散之后入射至液晶面板2。另外，为提高自光源4放射状地发射的光朝向导光板5的入射效率，而在光源4的背面侧设置有反射器8。

光源4并无特别限定，但可采用热阴极管、冷阴极管、或LED(LightEmittingDiode，发光二极管)。该光源4以与导光板5的入光端面53对着的方式配置。

反射片6设为在丙烯酸树脂等的树脂片的表面覆膜光反射构件而成的构成。该反射片6也可配设在导光板5的光反射面52及非入光端面54、55及56。光反射面52是导光板5的与光出射面51对着的面。非入光端面54～56是导光板5的端面上除了入光端面53以外的面。反射片6优选选为配设在至少与入光端面53对着的非入光端面56上。由此，自入光端面53入射的光一边在导光板5的内部被反射一边朝向光的行进方向(朝向图1及图2中的右方向)前进，并在到达非入光端面56时，能够通过反射片6而再次反射至导光板5的内部。另外，反射片6优选也配设在非入光端面54、55上。由此，在导光板5的内部散射的光在到达非入光端面54、55时，可通过反射片6而再次反射至导光板5的内部。除了可使用反射片6以外，也可通过印刷等而在导光板5的光反射面52及非入光端面54～56形成反射膜。

构成反射片6的树脂片的材质不仅限于丙烯酸树脂，例如可采用聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET，Polyethylene terephthalate)树脂等聚酯树脂、胺基甲酸酯树脂、及使该组合而成的材料等。作为构成反射片6的光反射构件，例如可使用金属蒸镀膜等。

在配设于非入光端面54～56的反射片6上，优选设置黏着剂。作为设置在反射片6上的黏着剂，例如可使用丙烯酸树脂或聚硅氧树脂、胺基甲酸酯树脂、合成橡胶等。反射片6的厚度并无特别限制，例如可使用0.01～0.50mm的反射片。

扩散片7中，可使用乳白色的丙烯酸树脂制膜等。扩散片7将自导光板5的光出射面51出射的光扩散，因此可对液晶面板2的背面照射无亮度不均的均匀性的光。需要说明的是，反射片6及扩散片7通过例如黏着而固定在导光板5的特定位置。

<玻璃板及玻璃导光板>

接着，对作为导光板5的玻璃板、及导光板5进行说明。

导光板5包含透明度较高的玻璃板。在本实施方式中，作为用作导光板5的玻璃板的材料，使用有多成分系的氧化物玻璃。该导光板5不仅如图1所示而且如图2～图5所示地具有光出射面51(第1面)、光反射面52(第2面)、入光端面53(第1端面)、非入光端面54～56(第2端面)、入光侧倒角面57(第1倒角面)、及非入光侧倒角面58(第2倒角面)。

光出射面51是与液晶面板2对着的面。在本实施方式中，光出射面51于俯视的状态(自上而下地观察光出射面51的状态)下设为矩形状。然而，光出射面51的形状不仅限于此。该光出射面51的大小对应于液晶面板2而决定，因此并无特别限定。在本实施方式中，将光出射面51的尺寸设为200～1200mm×100～700mm。

光反射面52是与光出射面51对着的面。光反射面52以相对于光出射面51平行的方式构成。另外，光反射面52的形状及尺寸以与光出射面51相同的方式构成。然而，光反射面52并非必须设为相对于光出射面51平行，也可设为设置有阶差或倾斜的构成。另外，光反射面52的尺寸也可设为与光出射面51不同的尺寸。

在光反射面52，如图2所示，形成有反射点10A～10C。该反射点10A～10C是点状地印刷白色墨水而成者。自入光端面53入射的光的亮度较高，并在导光板5内反射前进而亮度低下。因此，在本实施方式中，自入光端面53朝向光的行进方向(朝向图1及图2中的右方向)使反射点10A～10C的大小不同。具体而言，接近入光端面53的区域中的反射点10A的直径(L_A)设定为较小，与其相比，随着朝向光的行进方向而将反射点10B的直径(L_B)、反射点10C的直径的半径(L_C)设定为变大(L_A<L_B<L_C)。可通过这样使各反射点10的大小朝向导光板5内的光的行进方向变化，而使自光出射面51出射的出射光的亮度均匀化，从而能够抑制亮度不均的产生。需要说明的是，即便取代使各反射点10的大小变化，而使各反射点10的个数密度朝向导光板5内的光的行进方向变化，也能够获得同等的效果。另外，即便在光反射面52取代形成各反射点10，而形成将入射的光反射的类的槽，或者将印刷有各反射点10的透明树脂片贴附在导光板5或将印刷有各反射点10的透明树脂片放置在导光板5上，也能够获得同等的效果。

在本实施方式中，在光出射面51与光反射面52之间形成4个端面。4个端面中，作为第1端面的入光端面53是使光自上述光源4入射的面。作为第2～第4端面的非入光端面54～56是不使光自光源4入射的面。

<入光端面>

入光端面53优选为镜面。在本实施方式中，入光端面53的波纹度曲线要素的平均高度Wc(单位：μm)与波纹度曲线要素的平均长度WSm(单位：mm)满足以下的关系式(1)。此处，n_g是玻璃板的折射率，一般来说，n_g＝1.4～1.6，例如n_g＝1.55。另外，π为圆周率。波纹度曲线要素的平均长度WSm是指JIS B 0601:2013的波纹度曲线要素的平均长度。波纹度曲线要素的平均高度Wc是指JIS B 0601:2013的波纹度曲线要素的平均高度。

由于满足关系式(1)，因此自入光端面入射的平行光在与入光端面相距300mm以内的距离内无法将焦点连结。在将焦点连结的位置，亮度变得尤其高，因此导致在作为导光板5的玻璃板的面内产生亮度不均。因此，可通过不使焦点于与入光端面相距300mm以内的距离内连结而抑制亮度不均。对于式(1)的依据，随后将在实施例中描述。

[数2]

在本实施方式中，入光端面53的算术平均波纹度Wa优选为0.2μm以下。由此，能够抑制自光源4入射至导光板5内的光的亮度不均。入光端面53的算术平均波纹度Wa更优选为0.1μm以下，进一步优选为0.08μm以下，特别优选为0.06μm以下。算术平均波纹度Wa是指JISB 0601:2013的算术平均波纹度。

入光端面53的波纹度曲线要素的平均高度Wc、入光端面53的波纹度曲线要素的平均长度WSm、及入光端面53的算术平均波纹度Wa可通过使用表面粗糙度/轮廓形状测定机Surfcom1400D(东京精密公司制)，以如下的测定条件在入光端面53上进行扫描而测定。

截止值：λ_c＝0.25mm、λ_f＝2.5mm

扫描速度：0.3mm/sec

测定长度：5λ_f

入光端面53的周期结构可通过傅立叶变换而以功率谱进行表示。此时，入光端面53的周期结构的功率谱的形状的空间频率为0.01～10mm^-1的范围中的最大峰值位置S_p小于1mm^-1。在入光端面53的周期结构的功率谱的形状满足上述条件时，周期较小、即WSm较大的波纹度成分成为支配性，因此，自光源4入射至导光板5内的光的亮度不均得以抑制。最大峰值位置S_p优选为小于0.9mm^-1，更优选为小于0.8mm^-1。需要说明的是，在空间频率为0.01mm^-1的位置上的功率谱的值为下述空间频率为1～10mm^-1的范围中的最大峰值强度I_s的值以上时，可视作最大峰值位置S_p为0.01mm^-1。

另外，入光端面53的周期结构的功率谱的形状的空间频率为1～10mm^-1的范围中的最大峰值强度I_s与最大峰值位置S_p中的峰值强度I_p之比I_s/I_p优选为50％以下。需要说明的是，当S_p为1mm^-1以上时，I_s/I_p为100％。当入光端面53的周期结构的功率谱的形状满足上述条件时，周期较大、即WSm较小的波纹度成分成为支配性，因此自光源4入射至导光板5内的光的亮度不均得以抑制。I_s更优选佳为40％以下，进一步优选为30％以下。

入光端面53的周期结构的功率谱的形状可通过使用表面粗糙度/轮廓形状测定机Surfcom1400D(东京精密公司制)，以如下的测定条件在入光端面53上进行扫描而测定。

截止值：λ_c＝0.25mm、λ_f＝2.5mm

扫描速度：0.3mm/sec

测定长度：5λ_f

入光端面53的剖面曲线的最大高度Pz优选为300μm以下。由此，能够将入光端面53与光源4的距离设为固定的范围内，从而能够抑制入射至导光板5内的光的在与入光端面53平行的方向上的亮度不均。入光端面53的剖面曲线的最大高度Pz优选为250μm以下，更优选为200μm以下。需要说明的是，在记载为剖面曲线的最大高度Pz时，是指JIS B 0601:2013的剖面曲线的最大高度。

入光端面53的剖面曲线的最大高度Pz可通过使用表面粗糙度/轮廓形状测定机Surfcom1400D(东京精密公司制)，以如下的测定条件在入光端面53上进行扫描而测定。

截止值：无

扫描速度：3mm/sec

测定长度：300mm

入光端面53的表面的算术平均粗糙度Ra优选为0.03μm以下。由此，能够提高自光源4入射至导光板5内的光的入光效率。入光端面53的算术平均粗糙度Ra优选为0.01μm以下，更优选为0.005μm以下。由此，将自光源4入射至导光板5内的光的入光效率提高。需要说明的是，在记载为算术平均粗糙度Ra时，是指JIS B 0601:2013的算术平均粗糙度。

入光端面53的算术平均粗糙度Ra可通过使用表面粗糙度/轮廓形状测定机Surfcom1400D(东京精密公司制)，以如下的测定条件在入光端面53上进行扫描而测定。

截止值：λ_c＝0.25mm

扫描速度：0.3mm/sec

测定长度；5λ_c

入光端面53的宽度尺寸W(参照图4)是根据设定为装载面状发光装置3的液晶显示装置1所要求的宽度尺寸。

<非入光端面>

非入光端面54～56由于不使来自光源4的光入射，因此也可不将其表面如同入光端面53一样高精度地进行加工，但非入光端面54～56的表面也可为与入光端面53相同程度的算术平均粗糙度Ra。非入光端面54～56的算术平均粗糙度Ra优选为0.8μm以下。若非入光端面54～56的算术平均粗糙度Ra为0.8μm以下，则反射片6对于非入光端面54～56的黏着性变得良好。非入光端面54～56的算术平均粗糙度Ra优选为0.4μm以下，更优选为0.2μm以下，进一步优选为0.1μm以下，特别优选为0.04μm以下。非入光端面54～56的算术平均粗糙度Ra可利用与上述入光端面53的算术平均粗糙度的测定方法相同的方法进行测定。

另外，在本实施方式中，对于非入光端面54～56既可不进行研削处理或研磨处理，也可进行研削处理或研磨处理。当对非入光端面54～56不进行研削处理或研磨处理时，可使非入光端面54～56的算术平均粗糙度Ra均大于入光端面53的算术平均粗糙度Ra，且非入光端面54～56的算术平均粗糙度Ra优选为0.01μm以上，更优选为0.03μm以上。由此，非入光端面54～56的加工与入光端面53相比变得容易或无需加工，从而生产性提高。在对非入光端面54～56进行研削处理或研磨处理时，非入光端面53的算术平均粗糙度Ra为0.03μm以下，更优选为0.01μm以下，进一步优选为0.005μm以下。需要说明的是，对于非入光端面54～56，也可将经切断加工处理的面直接用作非入光端面54～56。

现将非入光端面54～56的宽度尺寸(即，设置在第1面与第2面之间的面中的将下述非入光侧倒角面去除的部分的板厚方向的尺寸)设为L(mm)，则如图4所示，该宽度尺寸L的倒角面纵向(以下，简称为纵向)上的平均值L_ave为0.25～9.8mm。L_ave优选为0.50～9.8mm。若Lave为9.8mm以下，则能够充分地确保非入光侧倒角面58的宽度尺寸。若L_ave为0.25mm以上，则能够减小下述L的误差。

非入光端面54～56的宽度尺寸中，实际会在纵向上产生切断加工时或倒角加工时的加工不均造成的误差。在非入光端面54～56的宽度尺寸L的纵向上的平均值为L_ave(mm)的情形时，L的纵向上的相对于L_ave的误差优选为L_ave的50％以内。即，若将L的纵向上的最大值设为L_max(mm)，将最小值设为L_min(mm)，则满足L_max≤1.5×L_ave且L_min≥0.5×L_ave。更优选为40％以内，进一步优选为30％以内，特别优选为20％以内。由此，纵向上的非入光端面54～56的宽度尺寸的误差变小，因此，能够将光在导光板5内反射至反射片6时产生的亮度不均减小。

<入光侧倒角面>

在于光出射面51与入光端面53之间、及光反射面52与入光端面53之间，形成有入光侧倒角面57。在本实施方式中，表示了在光出射面51与入光端面53之间、及光反射面52与入光端面53之间的两者形成有入光侧倒角面57的例子，但也可设为仅在其中任一者形成入光侧倒角面57的构成。

在如本实施方式般要求小型化及薄型化的面状发光装置3中，也需要使导光板5的厚度较薄。因此，本实施方式的导光板5的厚度t为10mm以下。然而，在设为在导光板5未设置入光侧倒角面57而具有角部的构成时，存在将导光板5组装于面状发光装置3时等，角部与其他构成物接触而损伤的可能性，从而可能导致导光板5的强度下降。因此，本实施方式的导光板5的厚度t为0.5mm以上，进而在入光端面53的上缘及下缘形成有入光侧倒角面57。

为提高光自光源4朝向导光板5内的入光效率，而需要扩大入光端面53的面积。因此，入光侧倒角面57以较小者更佳，因此，在本实施方式中，作为入光侧倒角面57进行倒角加工。

现将入光侧倒角面57(倒角面)的宽度尺寸设为X(mm)，则图4所示的宽度尺寸X的倒角面纵向(以下，简称为纵向)上的平均值X_ave为0.1mm。X_ave优选为0.1mm～0.5mm。若X_ave为0.5mm以下，则能够将入光端面53的宽度尺寸W增大。若X_ave为0.1mm以上，则能够将下述X的误差减小。

在入光侧倒角面57的宽度尺寸X中，实际上会在纵向上产生倒角加工时的加工不均造成的误差。在图4中，入光侧倒角面57的宽度尺寸X的误差为0.05mm以下。这样一来，在入光侧倒角面57的宽度尺寸X的纵向上的平均值为X_ave(mm)的情形时，X的纵向上的误差优选为X_ave的50％以内。即，X满足0.5X_ave≤X≤1.5X_ave。更优选为40％以内，进一步优选为30％以内，特别优选为20％以内。由此，纵向上的入光侧倒角面57的宽度尺寸及入光端面53的宽度尺寸的误差变小，因此能够将导光板5中产生的亮度不均减小。

另外，入光侧倒角面57的算术平均粗糙度Ra设为0.8μm以下。可通过将入光侧倒角面57的算术平均粗糙度Ra设为0.8μm以下，从而抑制研削处理、研磨处理中的玻璃屑产生量，从而导光板5的亮度不均的产生变少。入光侧倒角面57的宽度尺寸X越大，则玻璃屑产生量也越増加，因此，入光侧倒角面57的算术平均粗糙度Ra优选为0.4μm以下，更优选为0.3μm以下，进一步优选为0.1μm以下，特别优选为0.03μm以下。

<非入光侧倒角面>

另外，在本实施方式中，如图3所示，在光出射面51与非入光端面54之间、光反射面52与非入光端面54之间、光出射面51与非入光端面55之间、光反射面52与非入光端面55之间、光出射面51与非入光端面56之间、光反射面52与非入光端面56之间全部形成有非入光侧倒角面58。然而，并非必须在上述的所有部位形成非入光侧倒角面58，也可设为选择性地形成非入光侧倒角面58的构成。

现将非入光侧倒角面58的宽度尺寸设为Y(mm)，则如图4所示，该宽度尺寸Y的纵向上的平均值Y_ave设为Y_ave＝0.1～0.6(mm)。若Y_ave为0.6mm以下，则能够增大非入光端面54～56的宽度尺寸。若Y_ave为0.1mm以上，则能够将下述Y的误差减小。

非入光侧倒角面58的宽度尺寸Y中，在纵向上会产生倒角加工时的加工不均造成的误差。在Y的纵向上的平均值为Y_ave(mm)时，Y的纵向上的误差优选为Y_ave的50％以内。即，Y满足0.5Y_ave≤Y≤1.5Y_ave。更优选为40％以内，进一步优选为30％以内，特别优选为20％以内。由此，入射光进行反射的非入光端面54～56的纵向上的宽度尺寸的误差变小，因此能够减小导光板5中产生的亮度不均。

另外，非入光侧倒角面58的算术平均粗糙度Ra从生产性提高的观点来看优选为大于入光侧倒角面57的算术平均粗糙度Ra，且优选为设为0.4μm以上。另外，非入光侧倒角面58的算术平均粗糙度Ra优选为设为1.0μm以下。再有，由于非入光侧倒角面58的算术平均粗糙度Ra为0.4μm以上1.0μm以下，因此将反射片6黏着在非入光侧倒角面58时两者间的黏着性变得良好。另外，非入光侧倒角面58的算术平均粗糙度Ra既可与入光侧倒角面57的算术平均粗糙度Ra相等，或者也可为入光侧倒角面57的算术平均粗糙度Ra以下。此时，非入光侧倒角面58的算术平均粗糙度Ra设为0.8μm以下。

<玻璃板的光学特性>

本实施方式的玻璃板于光程长度200mm的条件下，波长400～700nm的范围中的内部透过率的最小值优选为80％以上，且内部透过率的最大值与最小值之差优选为15％以下。

在此，所谓光程长度是指自光所入射的面至相反侧的面为止的距离。玻璃板的光程长度为200mm中的波长λ(nm)的单波长光的内部透过率T(％)可利用以下方式测定。首先，以光程长度达到200mm的方式切取玻璃板，且以下述使单波长光入射的面、及与上述面对向的出射的面的表面粗糙度Ra达到0.03nm以下的方式进行研磨。接着，使用紫外可见近红外分光光度计UH4150(日立先端科技公司制)，使λ＝400～700nm的单波长光以1nm刻度垂直地向经研磨的面入射，测定所出射的各波长λ的单波长光的强度。根据入射光的强度I₀与出射光的强度I，利用T＝I/I₀×100的关系式计算各波长λ下的内部透过率T。上述内部透过率的最小值优选为85％以上，进一步优选为90％以上、95％以上、97％以上、99％以上。内部透过率的最大值与最小值之差优选为13％以下，进一步优选为10％、8％以下、5％以下。

另外，本实施方式的玻璃板在光程长度50mm的条件下，波长400～700nm的范围中的平均内部透过率优选为90％以上。50mm长度下的透过率可在设为通过于垂直于主平面的方向上使玻璃板12破裂而以纵50mm×横50mm的尺寸采自该玻璃板的中心部分且相互对向的第1及第2破裂面达到算术平均粗糙度Ra≤0.03μm的样品A中，以与上述第1破裂面相距法线方向的50mm长度，通过可在50mm长度下进行测定的分光测定装置(例如，UH4150：日立先端科技公司制)，而利用狭缝等使入射光的光束宽度窄于板厚之后进行测定。通过自以此方式获得的50mm长度下的透过率中，将表面上的反射所造成的损失去除，而获得50mm长度下的内部透过率。50mm长度下的波长400～700nm中的平均内部透过率优选为92％以上，更优选为95％以上，进一步优选为98％以上，特别优选为99％以上。

本实施方式的玻璃板优选为波长550nm的光的吸收系数为1m^-1以下。将波长550nm的光的吸收系数作为判断指标的原因在于波长400～700nm的范围的光中的波长550nm的光的吸收系数一般来说变得最高。由此，将面状发光装置用作边缘照明方式的液晶电视的光源的R(红)、G(绿)、B(蓝)的三色光的吸收变得微弱。

在此，玻璃板的波长λ(nm)中的光的吸收系数α(mm^-1)是以光程长度L(mm)中的内部透过率T(％)的测定结果为基础，通过关系式：α＝1/L×In(T/100)＝-1/L×In(I/I₀)来定义。本实施方式的玻璃板的波长400～700nm的范围的光的吸收系数的最大值α_max更优选为1m^-1以下，进一步优选为0.7m^-1以下、0.5m^-1以下。

另外，波长400～700nm的范围的光的吸收系数的最大值α_max(m^-1)与最小值α_min(m^-1)之比(α_max/α_min)优选为10以下。在此，将波长400～700nm的范围的光的吸收系数作为判断指标的原因在于包含R(红)、G(绿)、B(蓝)的三色光的波长。由此，将面状发光装置用作边缘照明方式的液晶电视的光源的R(红)、G(绿)、B(蓝)的三色的光的吸收变得微弱，从而波长400～700nm的范围中的波长引起的光的吸收之差也变得微弱。(α_max/α_min)更优选为9以下、8以下、7以下、6以下、5以下、4以下、3以下、2以下、及1以下。

<玻璃组成>

在玻璃原料中，作为不可避免的杂质而含有Fe₂O₃。使玻璃原料中的Fe₂O₃降低至可见光区(波长380～780nm)中的玻璃内部的光吸收不成为问题的程度为止实质上较为困难。本实施方式的玻璃板含有1～500质量ppm的换算为Fe₂O₃的全氧化铁(t-Fe₂O₃)。

本实施方式的玻璃板的换算为Fe₂O₃的二价铁(Fe²⁺)含量优选为0～50ppm。换算为Fe₂O₃的二价铁(Fe²⁺)含量若为上述范围，则用作边缘照明方式的液晶电视的导光板部时，可见光区(波长380～780nm)中的玻璃内部的光吸收不会成为问题。换算为Fe₂O₃的二价铁(Fe²⁺)的含量优选为0～40质量ppm，更优选为0～30质量ppm，特别优选为0～25质量ppm。

本实施方式的玻璃板是氧化还原(换算为[Fe₂O₃的二价铁(Fe²⁺)]/[换算为Fe₂O₃的二价铁(Fe²⁺)与三价铁(F³⁺)的合计(Fe²⁺+Fe³⁺)])为0％以上25％以下。若氧化还原为上述范围，则在用作边缘照明方式的液晶电视的导光板部时，可见光区(波长380～780nm)中的玻璃内部的光吸收不会成为问题。氧化还原优选为0～22％，更优选为0～20％，特别优选为0～18％。

作为本实施方式的玻璃板的玻璃组成，并无特别限制，但例如列举以下的玻璃组成。

(i)SiO₂ 50～81质量％、Al₂O₃ 1～10质量％、B₂O₃ 0～5质量％、Li₂O+Na₂O+K₂O 5～15质量％、MgO+CaO+SrO+BaO 13～27质量％、换算为Fe₂O₃的全氧化铁(t-Fe₂O₃)1～500质量ppm、氧化还原为0～25％的玻璃。

(ii)SiO₂：60～80质量％、Al₂O₃：0～7质量％、MgO：0～10质量％、GaO：4～20质量％、Na₂O：7～20质量％、K₂O：0～10质量％、换算为Fe₂O₃的全氧化铁(t-Fe₂O₃)1～500质量ppm、氧化还原为0～25％的玻璃。

(iii)SiO₂：45～80质量％、Al₂O₃：7～30质量％以下、B₂O₃：0～15质量％、MgO：0～15质量％、CaO：0～6质量％、Na₂O：7～20质量％、K₂O：0～10质量％、ZrO₂：0～10质量％、换算为Fe₂O₃的全氧化铁(t-Fe₂O₃)1～500质量ppm、氧化还原为0～25％的玻璃。

(iv)SiO₂：45～70质量％、Al₂O₃：10～30质量％、B₂O₃：0～15质量％、选自由MgO、CaO、SrO及BaO所组成的群的至少1种：5～30质量％、选自由Li₂O、Na₂O及K₂O所组成的群的至少1种：0～7质量％、换算为Fe₂O₃的全氧化铁(t-Fe₂O₃)1～500质量ppm、氧化还原为0～25％的玻璃。

<玻璃板的制造方法>

接着，对将成为导光板5的玻璃板的制造方法进行说明。图5～图7是用于说明成为导光板5的玻璃板的制造方法的图。图5表示将成为导光板5的玻璃板的制造方法的步骤图。

为制造导光板5，首先准备玻璃素材12。该玻璃素材优选为如上所述波长550nm的光的吸收系数为1m^-1以下，且波长400～700nm的范围的光的吸收系数的最大值α_max(m^-1)与最小值α_min(m^-1)之比(α_max/α_min)为10以下。该玻璃素材12设为大于导光板5的既定形状的形状。

对于玻璃素材12，首先实施图5中由步骤10所示的切断步骤(图中，将步骤简称为S)。于切断步骤中，使用切削装置，在图6中以虚线所示的各位置(1个部位的入光端面侧位置与3个部位的非入光端面侧位置)进行切断加工处理。切断加工处理也可在以虚线所示的各位置的任何位置进行，但根据生产性提高的观点，切断加工处理可不必一定在3个部位的非入光端面侧位置进行，也可仅在与1个部位的入光端面侧位置对着的1个部位的非入光端面侧位置进行切断加工。

通过进行切断加工处理，从而自玻璃素材12切断出玻璃基材14。需要说明的是，本实施方式中导光板5设为俯视下为矩形状，因此对于1个部位的入光端面侧位置与3个部位的非入光端面侧位置进行切断加工处理。然而，切断位置根据导光板5的形状适当地选定。

切断加工处理结束后，实施第1倒角步骤(步骤12)。第1倒角步骤使用研削装置，在光出射面51与非入光端面56之间、及光反射面52与非入光端面56之间的两者，形成非入光侧倒角面58。

需要说明的是，在光出射面51与非入光端面54之间、光反射面52与非入光端面54之间、光出射面51与非入光端面55之间、及光反射面52与非入光端面55之间的所有部位、或任一个部位形成非入光侧倒角面58时，在该第1倒角步骤中进行倒角加工处理。

另外，也可在该第1倒角步骤中，将光出射面51与入光端面53之间、或光反射面52与入光端面53之间的两者、或任一者进行倒角加工，形成入光侧倒角面。

另外，在本实施方式中，在第1倒角步骤中，对非入光端面54～56或入光端面53进行研削处理或研磨处理。进行对于非入光端面54～56或入光端面53的研削处理或研磨处理既可在形成上述非入光侧倒角面58或入光侧倒角面之前或之后进行，也可同时地进行。需要说明的是，关于非入光端面54～56，也可将经切断加工处理的面直接用作非入光端面54～56。另外，关于入光端面53，在满足本实施方式中的式(1)时，也可将经切断加工处理的面直接用作入光端面53。

第1倒角步骤(步骤12)可与下述镜面加工步骤(步骤14)及第2倒角步骤(步骤16)同时或在其之后进行，但优选为在其之前进行。由此，可在步骤12中以相对较快的速率进行与导光板5的形状相应的加工，因此生产性提高，并且步骤12中产生的相对较大的玻璃屑不易划伤入光端面53或入光侧倒角面57。在将经切断加工处理的面直接地用作非入光端面54～56或入光端面53时，也可不进行下述镜面加工步骤(步骤14)。

第1倒角步骤(步骤12)结束后，接着实施镜面加工步骤(步骤14)。在该镜面加工步骤中，如图7所示地对玻璃基材14的入光端面侧进行镜面加工，形成入光端面53。如上所述，入光端面53是使光自光源4入射的面。因此，入光端面53优选为以算术平均波纹度Wa为0.2μm以下的方式进行镜面加工。另外，入光端面53的周期结构的功率谱的形状优选为空间频率为0.01～100mm^-1的范围中的最大峰值位置S_p小于1mm^-1。进一步地，优选为以入光端面53的算术平均粗糙度Ra为0.03μm以下的方式进行镜面加工。

此时，入光端面53的算术平均粗糙度Ra、波纹度曲线要素的平均高度Wc、波纹度曲线要素的平均长度WSm、算术平均波纹度Wa、剖面曲线的最大高度Pz能够以分别独立地进行控制的方式进行镜面加工。例如，通过改变镜面加工中的研磨治具的扫描速度，而不必较大地改变算术平均粗糙度Ra的值，便可仅使波纹度曲线要素的平均高度Wc、波纹度曲线要素的平均长度WSm、算术平均波纹度Wa、剖面曲线的最大高度Pz的值上下波动。

利用镜面加工步骤(步骤14)在玻璃基材14形成入光端面53后，接着，通过实施第2倒角步骤(步骤16)，而将光出射面51与入光端面53之间、及光反射面52与入光端面53之间进行研削处理或研磨处理，由此，形成入光侧倒角面57(倒角面)。需要说明的是，步骤16既可在步骤14之前进行，也可与步骤14同时地进行。

在第2倒角步骤中，将入光侧倒角面57的宽度尺寸X的纵向上的平均值设为X_ave，则以X的纵向上的误差为X_ave的50％以内的方式，并且以算术平均粗糙度Ra为0.4μm以下的方式进行加工。当形成该入光侧倒角面57时，作为进行研削处理或研磨处理的工具，可使用磨石，另外除了磨石的外，也可使用包含布、皮、橡胶等的抛光轮或刷等，此时，也可使用氧化铈、氧化铝、金刚砂、胶体氧化硅等的研磨剂。

通过实施以上的步骤10～16中所示的各步骤而制造导光板5。需要说明的是，上述反射点10A～10C是在导光板5制造之后对光反射面52进行印刷。

以上，对于本发明的优选实施方式进行了详述，但本发明并非限定于上述特定的实施方式，可在权利要求书所记载的本发明的主旨的范围内，进行各种变化、变更。

<实施例>

以下，通过实施例等来具体地说明本发明，但本发明并不限定于该些例子。

以下的实验1～3中，作为玻璃板，使用以质量百分率表示包含71.6％的SiO₂、0.97％的Al₂O₃、3.6％的MgO、9.3％的CaO、13.9％的Na₂0、0.05％的K₂O、0.005％的Fe₂O₃的玻璃板(纵50mm、横50mm、板厚2.5mm)。该玻璃板是从通过浮式法制造而成的玻璃板在切断加工步骤中切取所得的玻璃板。(切取时，为防止破碎而将玻璃板的角部切除)该玻璃板在光出射面与光反射面之间具有4个端面，且4个端面中，1个端面为入光端面，3个端面为非入光端面。

在切断加工处理之后，进行第1倒角步骤。在第1倒角步骤中，对3个非入光端面进行研削处理.。此后，对于入光端面，使用研磨装置，于各种条件下进行镜面加工。进而，使用研削装置，将该玻璃板的光出射面与非入光端面之间、及光反射面与非入光端面之间、光出射面与入光端面之间、或光反射面与入光端面之间进行倒角加工。

(实验1)

首先，为确认可分别独立地控制入光端面的算术平均粗糙度Ra、波纹度曲线要素的平均高度Wc、波纹度曲线要素的平均长度WSm及算术平均波纹度Wa，而进行以下的实验。在该实验中，对于同样的玻璃基材，改变研磨装置(研磨治具)对入光端面的扫描速度及转数进行镜面加工，制作试料1～9。

入光端面53的波纹度曲线要素的平均高度Wc、波纹度曲线要素的平均长度WSm及算术平均波纹度Wa是通过使用表面粗糙度/轮廓形状测定机Surfcom1400D(东京精密公司制)，在以下的测定条件下在入光端面上进行扫描而测定。

截止值：λ_c＝0.25mm、λ_f＝2.5mm

扫描速度：0.3mm/sec

测定长度：5λ_f

入光端面的算术平均粗糙度Ra同样地使用表面粗糙度/轮廓形状测定机Surfcom1400D(东京精密公司制)，在以下的测定条件下在入光端面上进行扫描而测定。

截止值：λ_c＝0.25mm

扫描速度：0.3mm/sec

测定长度：5λ_c

在表1中，表示制作试料1～9时的研磨装置的扫描速度、转数、入光端面的波纹度曲线要素的平均高度Wc、波纹度曲线要素的平均长度WSm、算术平均波纹度Wa、算术平均粗糙度Ra。

[表1]

可知试料1、2是通过控制研磨装置的扫描速度/转数的值而即便不较大地改变波纹度曲线要素的平均长度WSm的值，也能够使入光端面的入光端面的波纹度曲线要素的平均高度Wc、算术平均波纹度Wa的值上下波动。试料3～9的情况也为同样地通过改变扫描速度与转数而进行控制。

(实验2)

为分析入光端面的波纹度曲线要素的平均高度Wc、波纹度曲线要素的平均长度WSm与光出射面的亮度不均的关系，而进行以下的实验。

在实验之前，对于入光端面的波纹度曲线要素的平均高度Wc与波纹度曲线要素的平均长度WSm的光学性关系在原理上进行说明。首先，若考虑使入光端面的波纹度曲线近似于正弦波的函数f，则函数f的曲线上的任意点处的曲率半径R通过下式(2)而求出。

[数3]

需要说明的是，式(2)中的f,是将函数f进行1次微分所得的函数，f”是将函数f进行2次微分所得的函数。在此，函数f可置为f＝Asin(bx)，因此f’＝Abcos(bx)，f”＝-Ab²sin(bx)。另外，若使用入光端面的波纹度曲线要素的平均高度Wc、波纹度曲线要素的平均长度WSm，则A≒Wc/2、b≒2π/WSm的近似式成立。

另外，自曲率半径R的点入射的光只要R为正实数则具有焦距L。此时，若将玻璃板的折射率设为n_g，则根据透镜的公式，下式(3)成立。进一步地，若使用式(2)、(3)，则可导出下式(4)。

[数4]

[数5]

在式(4)中焦距L变得最小、即自端面入射的光在最近处连结焦点为bx＝3π/2。此时，若使用Wc、WSm表示式(4)，则为下式(5)。在式(5)中，可知若设为满足L≥0.3(m)的范围，则满足上述式(1)即可。

[数6]

将基于上述对表1记载的试料1～9是否满足式(1)分析所得的结果表示在图8。图8的虚线表示式(1)的两边相等，且虚线上及相比虚线之下的区域表示满足式(1)的区域。当将试料3、4、7、及8的类满足式(1)的玻璃板用作导光板时，由于自入光端面入射的平行光在焦距L＝0.3m以上处将焦点连结，因此能够抑制作为导光板的玻璃板面内的亮度不均。另一方面，当将试料1、2、5、6、及9之类不满足式(1)的玻璃板用作导光板的情形时，自入光端面入射的平行光在小于焦距L＝3m处将焦点连结，因此在作为导光板的玻璃板面内产生亮度不均。因而，可通过在焦距L小于0.3m的距离处不使焦点连结，从而能够抑制亮度不均。

焦距L优选为满足L≥0.4(m)，更优选为满足L≥0.5(m)、0.6(m)、0.7(m)、0.8(m)、0.9(m)、1.0(m)。即，Wc、WSm优选为满足作为L＝0.3(m)的下式(6)，更优选为满足作为L＝0.5(m)、0.6(m)、0.7(m)、0.8(m)、0.9(m)、1.0(m)的下式(6)。由此，能够不使焦点在相距入光端面更长的距离处连结，进而抑制亮度不均。

[数7]

为分析式(1)的稳妥性，而对于试料1～9，将设为与LED光源组合而成的面状发光装置后，使用软件Eyscale-3W(i-system公司制)获取图像，测定将试料1～9的玻璃板用作导光板时的面内的亮度分布。

结果表示在表2中。试料3、4、7、8的Wc、WSm满足式(1)，但亮度分布中的亮度的最大值与最小值之差小于平均值的1％，大致能够抑制亮度不均。另一方面，Wc、WSm未满足式(1)的试料1、2、5、6、9中，亮度分布中的亮度的最大值与最小值之差为平均值的1％以上，产生有亮度不均。因而，可知为了抑制亮度不均，需要使入光端面的Wc与WSm满足式(1)。

[表2]

(实验3)

接着，对于试料1～9分析入光端面的功率谱。

入光端面53的周期结构的功率谱的形状是通过使用Surfcom1400D(东京精密公司制)，在以下的测定条件下在入光端面53上进行扫描而测定。

截止值：λ_c＝0.25mm、λ_f＝2.5mm

扫描速度：0.3mm/sec

测定长度：5λ_f

如图9与图10所示，试料3、4、7、8的入光端面的周期结构的功率谱的形状的空间频率为0.01～10mm^-1的范围中的最大峰值位置S_p小于1mm^-1。在该些试料中，亮度分布中的亮度的最大值与最小值之差小于平均值的1％，从而能够大致地抑制亮度不均。

另外，试料4、7、8的空间频率为1～10mm^-1的范围中的最大峰值强度I_s与上述最大峰值位置S_p中的峰值强度I_p之比I_s/I_p为50％以下。该些试料能够特别地抑制亮度不均。

另一方面，试料1、2、5、6、9的入光端面的周期结构的功率谱的形状的空间频率为0.01～10mm^-1的范围中的最大峰值位置S_p为1mm^-1以上。在该些试料中，亮度分布中的亮度的最大值与最小值之差为平均值的1％以上，产生有亮度不均。

因而，可知也在亮度分布与功率谱的形状中存在有较强的关联，通过控制空间频率为0.01～10mm^-1的范围中的最大峰值位置S_p与空间频率为1～10mm^-1的范围中的最大峰值强度I^s，从而能够抑制自光源入射至导光板内的光的亮度不均。

以上对本发明的优选实施方式及实施例进行了详细说明，但本发明并不限定上述特定的实施方式及实施例等。在权利要求书中所记载的本发明的主旨的范围内，可进行各种变形、变更。

本国际申请以在2015年6月9日申请的日本专利申请第2015-116706号、及在2015年8月11日申请的日本专利申请第2015-158842号作为要求优先权的基础，在此援引其全部内容。

符号说明

1 液晶显示装置

2 液晶面板

3 面状发光装置

4 光源

5 导光板(玻璃板)

6 反射片

7 扩散片

8 反射器

10A～10C 反射点

12 玻璃素材

14 玻璃基材

51 光出射面(第1面)

52 光反射面(第2面)

53 入光端面(第1端面)

54、55、56 非入光端面(第2端面)

57 入光侧倒角面(第1倒角面)

58 非入光侧倒角面(第2倒角面)

Claims (15)

1.一种玻璃导光板，其特征在于，所述玻璃导光板具有：

第1面；

与所述第1面对着的第2面；以及

设置在所述第1面与所述第2面之间的至少一个第1端面，其中，

所述第1端面的波纹度曲线要素的平均高度Wc与波纹度曲线要素的平均长度WSm满足下式(1)，n_g为玻璃导光板的折射率，

2.一种玻璃导光板，其特征在于，所述玻璃导光板具有：

第1面；

与所述第1面对着的第2面；以及

设置在所述第1面与所述第2面之间的至少一个第1端面，其中，

在以功率谱表示所述第1端面的周期结构时，所述功率谱的形状的空间频率为0.01～10mm^-1的范围中的最大峰值位置S_p小于1mm^-1。

3.根据权利要求2所述的玻璃导光板，其中，所述功率谱的形状的空间频率为1～10mm^-1的范围中的最大峰值强度I_s与所述最大峰值位置S_p处的峰值强度I_p之比I_s/I_p为50％以下。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的玻璃导光板，其中，所述第1端面的波纹度曲线的算术平均波纹度Wa为0.2μm以下。

5.根据权利要求1至3中任一项所述的玻璃导光板，其中，所述玻璃导光板的50mm长度下的波长400～700nm中的平均内部透过率为90％以上。

6.根据权利要求4所述的玻璃导光板，其中，所述玻璃导光板的50mm长度下的波长400～700nm中的平均内部透过率为90％以上。

7.根据权利要求1至3中任一项所述的玻璃导光板，其中，所述玻璃导光板用于面状发光装置。

8.根据权利要求4所述的玻璃导光板，其中，所述玻璃导光板用于面状发光装置。

9.根据权利要求1至3中任一项所述的玻璃导光板，其中，在所述第2面上形成有反射点。

10.根据权利要求4所述的玻璃导光板，其中，在所述第2面上形成有反射点。

11.根据权利要求1至3中任一项所述的玻璃导光板，其中，所述第1端面的波纹度曲线的算术平均波纹度Wa为0.1μm以下。

12.根据权利要求1至3中任一项所述的玻璃导光板，其中，所述第1端面的波纹度曲线的算术平均波纹度Wa为0.08μm以下。

13.根据权利要求1至3中任一项所述的玻璃导光板，其中，所述第1端面的波纹度曲线的算术平均波纹度Wa为0.06μm以下。

14.根据权利要求2所述的玻璃导光板，其中，在以功率谱表示所述第1端面的周期结构时，所述功率谱的形状的空间频率为0.01～10mm^-1的范围中的所述最大峰值位置S_p小于0.9mm^-1。

15.根据权利要求2所述的玻璃导光板，其中，在以功率谱表示所述第1端面的周期结构时，所述功率谱的形状的空间频率为0.01～10mm^-1的范围中的所述最大峰值位置S_p小于0.8mm^-1。