CN206666632U - 带有监控系统的真空镀膜机 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种带有监控系统的真空镀膜机，涉及镀膜设备技术领域，包括真空腔体、用于为真空腔体降温的第一冷却水系统、抽气系统、用于为真空泵泵体降温的第二冷却水系统、用于为膜厚检测仪探头降温的第三冷却水系统、高压控制系统，还包括监控系统，监控系统包括水流传感器模块、温度传感器模块、处理器模块和监控模块，监控模块包括显示单元和控制单元。通过显示单元显示水流传感器模块和温度传感器模块分别采集冷却水的流量信息和温度信息，实现了对真空镀膜机冷却水系统工作状态的监测，提高了真空镀膜机工作的可靠性；通过控制模块，实现了高压控制系统的关闭，从而保证了真空镀膜机的镀膜质量。

Description

带有监控系统的真空镀膜机

技术领域

本实用新型涉及镀膜设备技术领域，具体涉及一种带有监控系统的真空镀膜机。

背景技术

真空镀膜机是指需要在较高真空度下进行镀膜的设备，电子枪蒸发是到目前为止应用最多的一种蒸发方式，它可以蒸发任何一种镀膜材料，其工作方式是：将镀膜材料放在坩埚里面，将蒸发源制作成灯丝形状，通过高压控制系统对灯丝加一强电流，高电压，由于灯丝的材料是钨，所以它会发热，到最后会发射电子，再采用一定的磁场将其聚集成一定形状，并牵引到坩埚上，这样就形成了一股电子束，由于电子束温度非常高，可以熔化任何镀膜材料，当镀膜药材被电子束熔化后，药材的分子在真空中成直线运动，然后遇到基板，就凝结下来，经过这种方式生长，形成薄膜。

由于真空镀膜机正常工作时，抽气系统中真空泵会产生大量的热，会影响真空镀膜机工作的稳定性，且真空腔腔体内的温度高达350度，影响了膜厚监控仪的测量精度，为了避免因高温对真空镀膜机的性能产生影响，通常真空镀膜机设有冷却水系统，但却没有对冷却水流量和温度进行监测，降低了真空镀膜机工作的可靠性。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是解决上述现有技术的不足，提供一种稳定性高、工作可靠的带有监控系统的真空镀膜机。

为了解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案是：一种带有监控系统的真空镀膜机，包括真空腔体、用于为真空腔体降温的第一冷却水系统、抽气系统、用于为真空泵泵体降温的第二冷却水系统、充气布气系统、加热系统、薄膜沉积控制系统、用于为膜厚检测仪探头降温的第三冷却水系统、高压控制系统、低压控制系统、蒸发源系统、工件旋转系统，还包括监控系统，所述监控系统包括水流传感器模块、温度传感器模块、处理器模块和监控模块，所述监控模块包括显示单元和控制单元；

所述水流传感器模块和温度传感器模块用于采集第一冷却水系统、第二冷却水系统和第三冷却水系统中冷却水的流量信息和温度信息；

所述处理器模块用于将所述流量信息和温度信息进行处理并将处理结果发送给显示单元，

所述处理器模块对接收的第一冷却水系统的流量信息和/或温度信息进行处理得出控制指令，并发送给控制单元；

所述控制单元接收所述控制指令，控制高压控制系统工作状态。

进一步地，所述处理器模块为STEP7-200控制器。

通过上述技术方案，可以看出本实用新型具有以下优点：通过显示单元显示水流传感器模块和温度传感器模块分别采集冷却水的流量信息和温度信息，实现了对真空镀膜机冷却水系统工作状态的监测，提高了真空镀膜机工作的可靠性和稳定性；通过控制模块，实现了高压控制系统的关闭，从而保证了真空镀膜机的镀膜质量。

附图说明

图1为本实用新型一种真空镀膜机的正视图。

图2为本实用新型一种监控系统的结构框图。

具体实施方式

结合图1和图2，详细说明本实用新型的一个具体实施例，但不对本实用新型的权利要求做任何限定。

如图1所示，一种带有监控系统的真空镀膜机，包括真空腔体1、用于为真空腔体降温的第一冷却水系统、抽气系统、用于为真空泵2泵体降温的第二冷却水系统、充气布气系统、加热系统、薄膜沉积控制系统、用于为膜厚检测仪探头3降温的第三冷却水系统、高压控制系统、低压控制系统、蒸发源系统、工件旋转系统。

真空镀膜机的真空腔体是镀膜加工的一个空间，抽气系统用于使镀膜达到所需的真空度，充气布气系统能够使气动元件获得足够的气压完成动作，加热系统能够使基片达到镀膜所需的温度，薄膜沉积控制系统能够使基片上镀的膜厚达到所需的要求，高压控制系统能够使蒸发源获得足够的电压，低压控制系统用于控制镀膜机的元件完成规定的动作，蒸发源系统能够让膜料蒸发，工件旋转系统用于装载基片并使其转动。

真空镀膜机还包括监控系统，监控系统包括水流传感器模块4、温度传感器模块5、处理器模块和监控模块，监控模块包括显示单元和控制单元。

水流传感器模块4和温度传感器模5块用于采集第一冷却水系统、第二冷却水系统和第三冷却水系统中冷却水的流量信息和温度信息。

处理器模块采用STEP7-200控制器，用于将流量信息和温度信息进行处理并将处理结果发送给显示单元，显示单元采用触摸显示屏。处理器模块对接收的第一冷却水系统的流量信息和/或温度信息进行处理得出控制指令，并发送给控制单元；控制单元接收控制指令，控制高压控制系统工作状态。

本实用新型技术方案的运作流程如下：

(1)水流传感器模块4和温度传感器模块5采集第一冷却水系统、第二冷却水系统、第三冷却水系统的流量信息和温度信息；

(2)处理器模块对水流传感器模块4和温度传感器模块5采集的流量信息和温度信息进行处理，处理模块将处理结果发送给显示单元显示。当水流信息或温度信息异常时，显示单元显示异常信息，提示工作人员各个冷却水系统的工作状态。例如，若水流传感器模块采集的第一冷却水系统的水流量大小为500mL/mi n，低于处理器模块存储的第一冷却水系统的水流量下限，温度传感器模块采集的温度为20度，处于处理器模块存储的第一冷却水系统的温度范围内，处理器模块得出“第一冷却系统：水流量过小，水流量为500mL/mi n；温度正常，温度为20度”的处理结果，显示单元显示水流量信息“第一冷却系统：水流量过小，水流量为500mL/mi n；温度正常，温度为20度”，用于及时提示工作人员冷却水系统的工作状态；

(3)处理器模块对接收的第一冷却水系统的流量信息和/或温度信息进行处理得出控制指令，并发送给控制单元。若水流传感器模块4采集第一水冷却系统的流量大小为0mL/mi n，低于处理器模块存储的第一冷却水系统的水流量下限，温度传感器模块5采集第一冷却水系统的温度大小为30，高于处理器模块存储的第一冷却水系统的温度上限，处理器得出关闭高压控制系统的指令，并发送给控制单元；

(4)控制单元接收处理器模块发送的控制指令，控制高压控制系统的工作状态，例如，当控制指令为关闭高压控制系统的指令时，控制单元控制高压控制系统停止工作，从而保证了真空镀膜机的镀膜质量。

综上所述，本实用新型通过显示单元显示水流传感器模块和温度传感器模块分别采集冷却水的流量信息和温度信息，实现了对真空镀膜机冷却水系统工作状态的监测，提高了真空镀膜机工作的可靠性和稳定性；通过控制模块，实现了高压控制系统的关闭，从而保证了真空镀膜机的镀膜质量；整个监控系统的运行平稳，结构简单，便于维护。

可以理解的是，以上关于本实用新型的具体描述，仅用于说明本实用新型而并非受限于本实用新型实施例所描述的技术方案。本领域的普通技术人员应当理解，仍然可以对本实用新型进行修改或等同替换，以达到相同的技术效果；只要满足使用需要，都在本实用新型的保护范围之内。

Claims (2)

1.一种带有监控系统的真空镀膜机，包括真空腔体、用于为真空腔体降温的第一冷却水系统、抽气系统、用于为真空泵泵体降温的第二冷却水系统、充气布气系统、加热系统、薄膜沉积控制系统、用于为膜厚检测仪探头降温的第三冷却水系统、高压控制系统、低压控制系统、蒸发源系统、工件旋转系统，其特征在于，还包括监控系统，所述监控系统包括水流传感器模块、温度传感器模块、处理器模块和监控模块，所述监控模块包括显示单元和控制单元；

所述水流传感器模块和温度传感器模块用于采集第一冷却水系统、第二冷却水系统和第三冷却水系统中冷却水的流量信息和温度信息；所述处理器模块用于将所述流量信息和温度信息进行处理并将处理结果发送给显示单元，

所述处理器模块对接收的第一冷却水系统的流量信息和/或温度信息进行处理得出控制指令，并发送给控制单元；

所述控制单元接收所述控制指令，控制高压控制系统工作状态。

2.根据权利要求1所述的带有监控系统的真空镀膜机，其特征在于，所述处理器模块为STEP7-200控制器。