CN206439693U - 一种增加mark定位线的遮光膜 - Google Patents

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宋荣华
叶世挺
高远
李林生
卢文勇
何德
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Abstract

本实用新型涉及一种增加MARK定位线的遮光膜。目前,BLU成品图纸要求的遮光膜定位尺寸公差为±0.15mm,现有CCD机台可以满足此公差范围,但客户提出要求定位尺寸公差做到±0.10mm满足不了,存在不足。本实用新型涉及一种增加MARK定位线的遮光膜,其中:遮光膜内含有遮光膜V.A区,遮光膜V.A区四个角上设有直角型定位MARK线。本装置在遮光膜V.A区四个角上增加直角型定位MARK线,由原来的遮光膜边缘与胶框边缘定位改成遮光膜直角型MARK线与胶框边缘定位,提高遮光膜与胶框定位尺寸组装精度,减少背光边缘亮边、漏光。

Description

一种增加MARK定位线的遮光膜
技术领域
本实用新型涉及电子产品领域,尤其是一种增加MARK定位线的遮光膜。
背景技术
自动图像对位(CCD)背光(BLU)叠片机是背光源生产线上的自动化设备,用于背光源生产过程中前工序半成品和扩散膜、下BEF膜、上BEF膜、遮光膜的贴附,半成品通过送料机构自动撕膜上料,移载部件通过X、Y、Z和θ轴的调节将膜片吸附后移动到CCD上,分别对胶框和膜片进行精确定位后进行叠合,最后经过压合/下料工序将产品下料完成全部装配。
遮光膜贴附工序是最后一张膜片的贴附,位于压合/下料工序前一个工序,对整个BLU完成装配起着重要作用,遮光膜贴附精度直接影响BLU的成品良率,
目前,BLU成品图纸要求的遮光膜定位尺寸公差为±0.15mm,现有CCD机台可以满足此公差范围,但客户提出要求定位尺寸公差做到±0.10mm满足不了,存在不足。
发明内容
本实用新型的目的是提供一种增加MARK定位线的遮光膜,为克服上述的不足,在遮光膜V.A区四个角上增加直角型定位MARK线,由原来的遮光膜边缘与胶框边缘定位改成遮光膜直角型MARK线与胶框边缘定位,提高遮光膜与胶框定位尺寸组装精度,减少背光边缘亮边、漏光。
本实用新型的技术方案:
一种增加MARK定位线的遮光膜,包括遮光膜、遮光膜V.A区、直角型定位MARK线;其中:遮光膜内含有遮光膜V.A区,遮光膜V.A区四个角上设有直角型定位MARK线。
一种增加MARK定位线的遮光膜,其中:直角型定位MARK线与遮光膜V.A区边的距离为3.25mm。
一种增加MARK定位线的遮光膜,其中:直角型定位MARK线的长度各为6mm。
本实用新型的优点在于:在遮光膜V.A区四个角上增加直角型定位MARK线,由原来的遮光膜边缘与胶框边缘定位改成遮光膜直角型MARK线与胶框边缘定位,提高遮光膜与胶框定位尺寸组装精度,减少背光边缘亮边、漏光。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意简图。
附图标记:遮光膜1、遮光膜V.A区2、直角型定位MARK线3。
具体实施方式
实施例1、一种增加MARK定位线的遮光膜,包括遮光膜1、遮光膜V.A区2、直角型定位MARK线3;其中:遮光膜1内含有遮光膜V.A区2,遮光膜V.A区2四个角上设有直角型定位MARK线3。
实施例2、一种增加MARK定位线的遮光膜,其中:直角型定位MARK线3与遮光膜V.A区2边的距离为3.25mm。其余同实施例1。
实施例3、一种增加MARK定位线的遮光膜,其中:直角型定位MARK线3的长度各为6mm。其余同实施例1。
工作原理:
遮光膜在模切生产中在遮光膜V.A区2四个角上增加直角型定位MARK线3, 由原来的遮光膜1边缘与胶框边缘定位改成遮光膜1上的直角型MARK线3与胶框边缘定位,提高遮光膜1与胶框定位尺寸组装精度,实现BLU的窄边框要求及改善背光四周漏光的现象,减少背光边缘亮边。

Claims (3)

1.一种增加MARK定位线的遮光膜,包括遮光膜(1)、遮光膜V.A区(2)、直角型定位MARK线(3);其特征在于:遮光膜(1)内含有遮光膜V.A区(2),遮光膜V.A区(2)四个角上设有直角型定位MARK线(3)。
2.根据权利要求1所述的一种增加MARK定位线的遮光膜,其特征在于:直角型定位MARK线(3)与遮光膜V.A区(2)边的距离为3.25mm。
3.根据权利要求1所述的一种增加MARK定位线的遮光膜,其特征在于:直角型定位MARK线(3)的长度各为6mm。
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