CN206127398U - 吊装旋转真空镀膜室 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及吊装旋转真空镀膜室，包括真空泵、导气管、反应室、蒸发源、镀膜支架、旋转台，其特征在于真空泵通过导气管与反应室连通，反应室中央位置设置有旋转台，镀膜支架设置在旋转电机下方，由于本实用新型所述的吊装旋转真空镀膜室的镀膜支架上表面朝上方突起，蒸发源位于镀膜支架上表面突起的正下方，因此蒸发源与镀膜支架上不同位置的直线距离差极小，尽量减小了镀膜支架上工件的镀膜速率差，而且镀膜支架通过三根支柱钢性连接在旋转电机输出端上，可以通过旋转电机带动镀膜支架旋转从而缩小镀膜支架上不同位置与蒸发源的距离不同造成的影响，保证了镀膜的均匀。
Description
技术领域
本实用新型涉及镜片生产设备领域，具体是吊装旋转真空镀膜室。
背景技术
无论树脂或玻璃镜片其本身的透光率都只有91%左右，会有部分光线被镜片的两个表面反射回来。
镜片的反射可使光线透过率减少并在视网膜形成干扰像而影响成像的质量，并影响配戴者的外观。如镜片外观涡旋明显，照相反光，看不到配戴者的眼睛等等。而镀膜镜片是利用光学薄膜及真空的新技术，镀上一定厚度的单层或多层光学薄膜，使镜片获得一些新的、原本不具备的优良性能，以改善镜片反射光线的能力，起到增强或减少光线透过的作用使镜片的透光率增加到98%。
所镀的膜层主要有硬膜、多层减反射膜、抗污膜等。
各膜层的主要作用是：1）加硬膜：增加镜片表面的硬度，使其更加耐磨损。2）减反射膜：增加镜片可见光的透过率和防紫外线、防辐射的性能。3）抗污膜：因减反射膜的技术需要，该膜分子间空隙较大，镜片表面容易藏污纳垢，而抗污膜的物质分子颗粒小、分子之间空隙小，使镜片表面更加光洁，增加了防水、防雾、防尘等等防污染等功能。
目前，行业内镜片镀膜加工使用的蒸发镀膜设备多采用旋转基片的方式来保证膜层厚度的均匀性。镀膜过程容易对镜片及所镀膜层造成污染，而且膜层厚度均匀不易控制。
实用新型内容
本实用新型正是针对以上技术问题，提供一种结构简单、使用方便、可以保证镀膜均匀的吊装旋转真空镀膜室。
本实用新型通过以下技术方案来实现：
吊装旋转真空镀膜室，包括真空泵、导气管、反应室、蒸发源、镀膜支架、旋转台，其特征在于真空泵通过导气管与反应室连通，反应室中央位置设置有蒸发源，镀膜支架设置在反应室顶部下方，镀膜支架上表面朝上突起，蒸发源位于镀膜支架上表面突起的正下方。镀膜支架与反应室顶部之间为钢性连接。镀膜支架通过三根支柱钢性连接在反应室顶部下方。镀膜支架顶部呈圆形。
由于本实用新型所述的吊装旋转真空镀膜室的镀膜支架上表面朝上方突起，蒸发源位于镀膜支架上表面突起的正下方，因此蒸发源与镀膜支架上不同位置的直线距离差极小，尽量减小了镀膜支架上工件的镀膜速率差，而且镀膜支架通过三根支柱钢性连接在反应室顶部下方，可以通过旋转台带动蒸发源旋转从而平衡镀膜支架上不同位置与蒸发源的距离不同造成的影响，保证了镀膜的均匀。
本实用新型结构简单，使用方便。
附图说明
附图中，图1是本实用新型结构示意图，其中：
1—真空泵，2—导气管，3—反应室，4—蒸发源，5—镀膜支架，6—旋转台。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型作进一步说明。
吊装旋转真空镀膜室，包括真空泵1、导气管2、反应室3、蒸发源4、镀膜支架5、旋转台6，其特征在于真空泵1通过导气管2与反应室3连通，反应室3中央位置设置有旋转台6，蒸发源4为多个，多个蒸发源4设置在旋转台6上，镀膜支架5设置在反应室3顶部下方，镀膜支架5上表面朝上突起，蒸发源4位于镀膜支架5上表面突起的正下方。镀膜支架5与反应室3顶部之间为钢性连接。镀膜支架5通过三根支柱钢性连接在反应室3顶部下方。镀膜支架5顶部呈圆形。
由于本实用新型所述的吊装旋转真空镀膜室的镀膜支架5上表面朝上方突起，蒸发源4位于镀膜支架5上表面突起的正下方，因此蒸发源4与镀膜支架5上不同位置的直线距离差极小，尽量减小了镀膜支架5上工件的镀膜速率差，而且镀膜支架5通过三根支柱钢性连接在反应室3顶部下方，可以通过旋转台带动蒸发源4旋转从而平衡镀膜支架5上不同位置与蒸发源4的距离不同造成的影响，保证了镀膜的均匀。
上述只是说明了实用新型的技术构思及特点，其目的是在于让本领域内的普通技术人员能够了解实用新型的内容并据以实施，并不能限制本实用新型的保护范围。凡是根据本实用新型内容的实质所作出的等效的变化或修饰，都应涵盖在本实用新型的保护范围。
Claims (4)
1.吊装旋转真空镀膜室，包括真空泵、导气管、反应室、蒸发源、镀膜支架、旋转台，其特征在于真空泵通过导气管与反应室连通，反应室中央位置设置有旋转台，蒸发源为多个，多个蒸发源设置在旋转台上，镀膜支架设置在反应室顶部下方，镀膜支架上表面朝上突起，蒸发源位于镀膜支架上表面突起的正下方。
2.根据权利要求1所述吊装旋转真空镀膜室，其特征在于所述镀膜支架与反应室顶部之间为钢性连接。
3.根据权利要求1所述吊装旋转真空镀膜室，其特征在于所述镀膜支架通过三根支柱钢性连接在反应室顶部下方。
4.根据权利要求1所述吊装旋转真空镀膜室，其特征在于所述镀膜支架顶部呈圆形。
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Publications (1)
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2016
- 2016-11-17 CN CN201621233397.XU patent/CN206127398U/zh not_active Expired - Fee Related
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