CN210193688U - 一种防脱增透镀膜玻璃 - Google Patents

Abstract

本实用新型创造提供一种防脱增透镀膜玻璃，包括自基底向上依次设置的若干组折射率高低交替层，每组高低交替层包括下层高折射层和上层低折射层，在若干组折射率高低交替层上方还设有外层保护层，所述外层保护层自下而上依次包括第一最高折射层、次高折射层、第二最高折射层。本实用新型创造通过各膜层结构的配置设计提高了玻璃的增透效果，同时能够增强防脱耐磨性能。

Description

一种防脱增透镀膜玻璃

技术领域

本发明创造属于玻璃深加工制备技术领域，具体涉及一种通过真空磁控溅射方法制备的防脱增透镀膜玻璃。

背景技术

目前增透射镀膜玻璃是一种在玻璃表面进行若干层镀膜处理的玻璃，使其具有较低的反射比，光的理论反射率可以降低至1％以下。可见光范围内减反射效果一般利用不同光学材料膜层产生的干涉效果来实现。

磁控溅射技术是目前镀膜玻璃生产中最为先进的技术手段之一，特别适合应用于大面积玻璃片的表面镀膜。磁控溅射镀膜获得的膜层成分均一，厚度均匀，膜层附着力强且耐处理强度高，能够克服其他镀膜手段造成的不耐钢化处理、硬度低等缺陷。采用磁控溅射生产的镀膜玻璃种类繁多，其原理是在真空中利用荷能粒子轰击靶表面，使被轰击出的例子在基片上沉积形成镀膜层，选择合适的靶材即可得到需要的镀膜层种类。

虽然磁控溅射镀膜的膜层能够经受钢化处理，但钢化后一些膜层结构容易出现分离、脱落等不良现象，且外层表面硬度有待提高以增强玻璃的耐磨防划性能。

发明内容

本发明创造为解决现有技术中的问题，提供了一种防脱增透镀膜玻璃，通过各膜层结构的配置设计提高了玻璃的增透效果，同时能够增强防脱耐磨性能。

本发明创造提供的防脱增透镀膜玻璃，包括自基底向上依次设置的若干组折射率高低交替层，每组高低交替层包括下层高折射层和上层低折射层，在若干组折射率高低交替层上方还设有外层保护层，所述外层保护层自下而上依次包括第一最高折射层、次高折射层、第二最高折射层。其中，对于折射层的“高”“低”“最高”“次高”等程度的描述是相对而言的，并非本领域内一般意义上的绝对值，例如，“最高”指相对于本案其他折射层而言，该层的折射率范围是最高的。

其中，所述下层高折射层为折射率在2.0-2.7的镀膜层，优选为TiOx(1.3<x<2)、SiNx(0.8<x<1.3)、NbOx(2<x<2.5)、ZrOx(1.4<x<2)、SiZrNx(2<x<3)，厚度优选为65-75nm。

其中，所述上层低折射层为折射率在1.3-1.8的镀膜层，优选为SiOx(1.5<x<2)、SiBOx(1.8<x<2.5)，厚度优选为38-55nm。

其中，所述折射率高低交替层优选为两组。

其中，所述第一最高折射层和第二最高折射层可以相同或不同，各自独立地选自折射率在2.5-2.7的镀膜层，优选为SiZrNx(2<x<3)，厚度分别为10-18nm。

其中，所述次高折射层为折射率在2.0-2.5的镀膜层，优选为TiOx(1.3<x<2)、SiNx(0.8<x<1.3)、NbOx(2<x<2.5)、ZrOx(1.4<x<2)，厚度为8-15nm。

所述基底为玻璃基片，玻璃基片的规格可根据需要进行选取或设置。

所述基底上依次设置的膜层均可采用磁控溅射镀膜的方法获得，获得上述各膜层材料的手段对于本领域技术人员来说是极为常规的，选择合适的靶材进行需要比例的溅射即可实现。例如，TiOx层、NbOx层、ZrOx层可以分别选用Si靶、Nb靶、Zr靶，在不同的氧分压气氛下溅射成膜；SiZrNx可以选用Si靶和Zr靶在氮气气氛下共溅射。

本发明创造的有益效果是：提高了镀膜玻璃的透射率，实现了磁控溅射镀膜玻璃的可钢化处理，折射率高低交替层的设计提高了层间的相容性，能够避免钢化过程造成的层间分离，外层保护层通过三层的独特设计，提高了入射光线的首次透过比例，进一步提高透射效果，外层保护层的材料具有良好的钢化硬度，提高了保护层的防脱防划效果。

附图说明

图1是本发明创造的结构示意图。

其中，1-第一下层高折射层；2-第一上层低折射层；3-第二下层高折射层；4-第二上层低折射层；5-第一最高折射层；6-次高折射层；7-第二最高折射层。

具体实施方式

下面通过结合附图对本发明创造进行进一步说明。下面的实施例中描述的具体方案仅是为了说明本发明创造的内容，并不用于对本发明创造的限定。为叙述方便，在实施例的描述中省略了其他非必要的或常规的过程描述，如对玻璃原片具体的清洗过程、溅射镀膜过程中靶材的选取等，这些条件被认为是本领域技术人员容易调试并获知的。

实施例1

将玻璃原片在清洗抛光后，采用测控溅射镀膜设备依次在其上镀制：

第一下层高折射层1：TiOx(1.3<x<2)层66.7nm；

第一上层低折射层2：SiBOx(1.8<x<2.5)层42nm；

第二下层高折射层3：ZrOx(1.4<x<2)层68.5nm；

第二上层低折射层4：SiBOx(1.8<x<2.5)层39nm；

第一最高折射层5：SiZrNx(2<x<3)层12nm；

次高折射层6：TiOx(1.3<x<2)层13nm；

第二最高折射层7：SiZrNx(2<x<3)层15nm。

将镀膜完成的玻璃在600℃下进行钢化处理，处理完成后经光学检测，玻璃的总透过率为99.4％，硬度达24GPa。

实施例2

将玻璃原片在清洗抛光后，采用测控溅射镀膜设备依次在其上镀制：

第一下层高折射层1：SiNx(0.8<x<1.3)层71nm；

第一上层低折射层2：SiOx(1.5<x<2)层43nm；

第二下层高折射层3：TiOx(1.3<x<2)层66nm；

第二上层低折射层4：SiBOx(1.8<x<2.5)层55nm；

第一最高折射层5：SiZrNx(2<x<3)层11nm；

次高折射层6：NbOx(2<x<2.5)层9nm；

第二最高折射层7：SiZrNx(2<x<3)层16nm。

将镀膜完成的玻璃在600℃下进行钢化处理，处理完成后经光学检测，玻璃的总透过率为99.6％，硬度达21GPa。

实施例3

将玻璃原片在清洗抛光后，采用测控溅射镀膜设备依次在其上镀制：

第一下层高折射层1：SiNx(0.8<x<1.3)层69nm；

第一上层低折射层2：SiBOx(1.8<x<2.5)层50nm；

第二下层高折射层3：TiOx(1.3<x<2)层72.5nm；

第二上层低折射层4：SiBOx(1.8<x<2.5)层44nm；

第一最高折射层5：SiZrNx(2<x<3)层15nm；

次高折射层6：ZrOx(1.4<x<2)层14nm；

第二最高折射层7：SiZrNx(2<x<3)层16nm。

将镀膜完成的玻璃在600℃下进行钢化处理，处理完成后经光学检测，玻璃的总透过率为99.3％，硬度达26GPa。

以上所述仅为本发明创造的较佳实施例而已，并不用以限制本发明创造，凡在本发明创造的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明创造的保护范围之内。

Claims (14)

1.一种防脱增透镀膜玻璃，包括自基底向上依次设置的若干组折射率高低交替层，每组高低交替层包括下层高折射层和上层低折射层，在若干组折射率高低交替层上方还设有外层保护层，所述外层保护层自下而上依次包括第一最高折射层、次高折射层、第二最高折射层。

2.根据权利要求1所述的防脱增透镀膜玻璃，其特征在于，所述下层高折射层为折射率在2.0-2.7的镀膜层。

3.根据权利要求1所述的防脱增透镀膜玻璃，其特征在于，所述下层高折射层为为TiOx(1.3<x<2)、SiNx(0.8<x<1.3)、NbOx(2<x<2.5)、ZrOx(1.4<x<2)、SiZrNx(2<x<3)中的一种。

4.根据权利要求1所述的防脱增透镀膜玻璃，其特征在于，所述下层高折射层厚度为65-75nm。

5.根据权利要求1所述的防脱增透镀膜玻璃，其特征在于，所述上层低折射层为折射率在1.3-1.8的镀膜层。

6.根据权利要求1所述的防脱增透镀膜玻璃，其特征在于，所述上层低折射层为SiOx(1.5<x<2)、SiBOx(1.8<x<2.5)中的一种。

7.根据权利要求1所述的防脱增透镀膜玻璃，其特征在于，所述上层低折射层厚度为38-55nm。

8.根据权利要求1所述的防脱增透镀膜玻璃，其特征在于，所述折射率高低交替层为两组。

9.根据权利要求1所述的防脱增透镀膜玻璃，其特征在于，所述第一最高折射层和第二最高折射层各自独立地选自折射率在2.5-2.7的镀膜层。

10.根据权利要求1所述的防脱增透镀膜玻璃，其特征在于，所述第一最高折射层和第二最高折射层为SiZrNx(2<x<3)。

11.根据权利要求1所述的防脱增透镀膜玻璃，其特征在于，所述第一最高折射层和第二最高折射层厚度为10-18nm。

12.根据权利要求1所述的防脱增透镀膜玻璃，其特征在于，所述次高折射层为折射率在2.0-2.5的镀膜层。

13.根据权利要求1所述的防脱增透镀膜玻璃，其特征在于，所述次高折射层为TiOx(1.3<x<2)、SiNx(0.8<x<1.3)、NbOx(2<x<2.5)、ZrOx(1.4<x<2)中的一种。

14.根据权利要求1所述的防脱增透镀膜玻璃，其特征在于，所述次高折射层厚度为8-15nm。

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