CN210012757U

CN210012757U - 一种减反射镀膜玻璃

Info

Publication number: CN210012757U
Application number: CN201920325079.3U
Authority: CN
Inventors: 刘双; 杜彦; 胡冰
Original assignee: Tianjin CSG Energy Conservation Glass Co Ltd
Current assignee: Tianjin CSG Energy Conservation Glass Co Ltd
Priority date: 2019-03-14
Filing date: 2019-03-14
Publication date: 2020-02-04
Anticipated expiration: 2029-03-14

Abstract

本实用新型创造提供一种减反射镀膜玻璃，自基底向上依次设置折射率为2.5‑3.0的第一镀膜层、折射率为2.0‑2.4的第二镀膜层、折射率为1.5‑1.8的第三镀膜层、折射率为1.3‑1.45的第四镀膜层、折射率为1.5‑1.55的第五镀膜层、折射率为2.0‑2.7的第六镀膜层。本发明创造具有良好的减反射效果。

Description

一种减反射镀膜玻璃

技术领域

本发明创造属于玻璃深加工制备技术领域，具体涉及一种通过真空磁控溅射方法制备的减反射镀膜玻璃。

背景技术

减反射玻璃一般指表面经过特殊覆膜工艺处理，光学透过率达到80％以上，反射率小于3％的玻璃，具有光线近程高透光、远程慢反射的特性。采用磁控溅射技术在玻璃表面获得光学镀膜层是目前光学玻璃的常用手段。膜层结构设计是使玻璃获得所需光学性能的核心技术内容，通过对镀膜层材料、厚度、顺序等的规划能够达到玻璃增透、减反、调色、耐温耐蚀性改善等作用。但现有增透减反镀膜玻璃的膜层结构设计较为单一，实际减反射效果往往达不到理论反射率，或者减反射效果不理想，性能不稳定。

发明内容

本发明创造为解决现有技术中的问题，提供了一种减反射镀膜玻璃，具有良好的减反射效果。

本发明创造提供的减反射镀膜玻璃，自基底向上依次设置折射率为2.5-3.0的第一镀膜层、折射率为2.0-2.4的第二镀膜层、折射率为1.5-1.8的第三镀膜层、折射率为1.3-1.45的第四镀膜层、折射率为1.5-1.55的第五镀膜层、折射率为2.0-2.7的第六镀膜层。

其中，所述第一镀膜层优选为SiZrNx(2<x<3)，厚度为15-20nm。

其中，所述第二镀膜层优选为NbOx(2<x<2.5)、TiOx(1.3<x<2)、或ZrOx(1.4<x<2)，厚度40-75nm。

其中，所述第三镀膜层优选为SiNxOy(1.5<x<1.8，0.2<y<0.5)，厚度60-80nm。

其中，所述第四镀膜层优选为MgF₂，厚度70-95nm。

其中，所述第五镀膜层优选为SiAlNxOy(1<x<1.5，1.3<y<1.8)或SiZrNxOy(1<x<1.5，1.3<y<2)，厚度80-105nm。

其中，所述第六镀膜层优选为TiOx(1.3<x<2)、ZrOx(1.4<x<2)、SiZrNx(2<x<3)，厚度50-140nm。

所述基底为玻璃基片，玻璃基片的规格可根据需要进行选取或设置。

所述基底上依次设置的膜层均可采用磁控溅射镀膜的方法获得，获得上述各膜层材料的手段对于本领域技术人员来说是极为常规的，选择合适的靶材进行需要比例的溅射即可实现。例如，TiOx层、NbOx层、ZrOx层可以分别选用Si靶、Nb靶、Zr靶，在不同的氧分压气氛下溅射成膜；SiZrNxOy可以选用Si靶和Zr靶在氮气和氧气气氛下共溅射，调整氮气和氧气的分压即可获得不同组成比例的镀膜材料。

本发明创造的有益效果是：通过各膜层的协调设计，获得了具有良好减反射效果的镀膜玻璃，总反射率可降至0.5％以下，提高了减反射的稳定性，膜层材料的匹配设计提高了镀膜均匀性，膜层间过渡相容性好。

附图说明

图1是本发明创造的结构示意图。

其中，1-第一镀膜层；2-第二镀膜层；3-第三镀膜层；4-第四镀膜层；5-第五镀膜层；6-第六镀膜层。

具体实施方式

下面通过结合附图对本发明创造进行进一步说明。下面的实施例中描述的具体方案仅是为了说明本发明创造的内容，并不用于对本发明创造的限定。为叙述方便，在实施例的描述中省略了其他非必要的或常规的过程描述，如对玻璃原片具体的清洗过程、溅射镀膜过程中靶材的选取等，这些条件被认为是本领域技术人员容易调试并获知的。

实施例1

将玻璃原片在清洗抛光后，采用测控溅射镀膜设备依次在其上镀制：

第一镀膜层1：SiZrNx(2<x<3)层18nm；

第二镀膜层2：NbOx(2<x<2.5)层63nm；

第三镀膜层3：SiNxOy(1.5<x<1.8，0.2<y<0.5)层71nm；

第四镀膜层4：MgF₂层85.5nm；

第五镀膜层5：SiAlNxOy(1<x<1.5，1.3<y<1.8)层94nm；

第六镀膜层6：TiOx(1.3<x<2)层68nm。

将镀膜完成的玻璃在600℃下进行钢化处理，处理完成后经光学检测，玻璃的总透过率为98.8％，反射率为0.3％。

实施例2

第一镀膜层1：SiZrNx(2<x<3)层15nm；

第二镀膜层2：ZrOx(1.4<x<2)层43nm；

第三镀膜层3：SiNxOy(1.5<x<1.8，0.2<y<0.5)层67nm；

第四镀膜层4：MgF₂层76nm；

第五镀膜层5：SiZrNxOy(1<x<1.5，1.3<y<2)层88nm；

第六镀膜层6：ZrOx(1.4<x<2)层79nm。

将镀膜完成的玻璃在600℃下进行钢化处理，处理完成后经光学检测，玻璃的总透过率为98.8％，反射率为0.4％。

实施例3

第一镀膜层1：SiZrNx(2<x<3)层16nm；

第二镀膜层2：TiOx(1.3<x<2)层58nm；

第三镀膜层3：SiNxOy(1.5<x<1.8，0.2<y<0.5)层62nm；

第四镀膜层4：MgF₂层85nm；

第五镀膜层5：SiAlNxOy(1<x<1.5，1.3<y<1.8)层104nm；

第六镀膜层6：ZrOx(1.4<x<2)层93nm。

将镀膜完成的玻璃在600℃下进行钢化处理，处理完成后经光学检测，玻璃的总透过率为99.1％，反射率为0.3％。

实施例4

第一镀膜层1：SiZrNx(2<x<3)层15nm；

第二镀膜层2：TiOx(1.3<x<2)层69nm；

第三镀膜层3：SiNxOy(1.5<x<1.8，0.2<y<0.5)层64nm；

第四镀膜层4：MgF₂层72nm；

第五镀膜层5：SiZrNxOy(1<x<1.5，1.3<y<2)层82nm；

第六镀膜层6：SiZrNx(2<x<3)层90nm。

将镀膜完成的玻璃在600℃下进行钢化处理，处理完成后经光学检测，玻璃的总透过率为98.9％，反射率为0.5％。

以上所述仅为本发明创造的较佳实施例而已，并不用以限制本发明创造，凡在本发明创造的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明创造的保护范围之内。

Claims

1.一种减反射镀膜玻璃，其特征在于，自基底向上依次设置折射率为2.5-3.0的第一镀膜层、折射率为2.0-2.4的第二镀膜层、折射率为1.5-1.8的第三镀膜层、折射率为1.3-1.45的第四镀膜层、折射率为1.5-1.55的第五镀膜层、折射率为2.0-2.7的第六镀膜层。

2.根据权利要求1所述的减反射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一镀膜层为SiZrNx 2＜x＜3，厚度为15-20nm。

3.根据权利要求1所述的减反射镀膜玻璃，其特征在于，所述第二镀膜层为NbOx 2＜x＜2.5、TiOx 1.3＜x＜2、或ZrOx 1.4＜x＜2，厚度40-75nm。

4.根据权利要求1所述的减反射镀膜玻璃，其特征在于，所述第三镀膜层为SiNxOy 1.5＜x＜1.8，0.2＜y＜0.5，厚度60-80nm。

5.根据权利要求1所述的减反射镀膜玻璃，其特征在于，所述第四镀膜层为MgF₂，厚度70-95nm。

6.根据权利要求1所述的减反射镀膜玻璃，其特征在于，所述第五镀膜层为SiAlNxOy 1＜x＜1.5，1.3＜y＜1.8或SiZrNxOy 1＜x＜1.5，1.3＜y＜2，厚度80-105nm。

7.根据权利要求1所述的减反射镀膜玻璃，其特征在于，所述第六镀膜层为TiOx 1.3＜x＜2、ZrOx 1.4＜x＜2、SiZrNx 2＜x＜3，厚度50-140nm。

8.根据权利要求1所述的减反射镀膜玻璃，其特征在于，所述基底为玻璃基片。

9.根据权利要求1所述的减反射镀膜玻璃，其特征在于，各所述镀膜层均采用磁控溅射镀膜的方法获得。