CN209182538U - 一种高增透抗反射光学薄膜 - Google Patents

一种高增透抗反射光学薄膜 Download PDF

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Abstract

本实用新型公开一种高增透抗反射光学薄膜，由四层高、低折射率的材料交错叠加而成，而且，从与基底接触向外，四层分别是第四层：低折射率SiO2层、光学厚度(K)1.10、几何厚度(D)93.42，第三层：高折射率Ti3O5层、光学厚度(K)2.00、几何厚度(D)118.25，第二层：低折射率SiO2层、光学厚度(K)0.35、几何厚度(D)29.79，第一层：高折射率Ti3O5层、光学厚度(K)0.32、几何厚度(D)21.06～17.06，厚度单位nm。本实用新型只需改变第一层膜厚就可以直接使用在各种材质基底的镜片上镀膜。针对不同镜片基底，可免去二次优化设计，光谱曲线优化容易。

Description

一种高增透抗反射光学薄膜
技术领域
本实用新型涉及一种高增透抗反射光学薄膜。
背景技术
传统镜片镀抗反射薄膜，因基底材料的折射率不同，要针对不同的材料基底分别作抗反射膜层的膜系设计，使在不同材料基底上，反射出来的AR蓝色效果是一样的，这样就造成开发打样的时间和成本上的浪费，导致工艺光谱曲线的不稳定。
现有技术对传统技术进行改善，在传统膜系多层高、低折射率的叠加搭配的基础上进行优化，但优化为高增透膜层比较困难，一般只有通过增加膜层，或更换无吸收高折射率材料来实现。在工艺调整上有敏感层，调试要复杂一些。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种高增透抗反射光学薄膜，方便调试以适用于不同镜片基底，提升膜层品质。
为了达成上述目的，本实用新型的解决方案是：
一种高增透抗反射光学薄膜，由四层高、低折射率的材料交错叠加而成，而且，从与基底接触向外，四层分别是第四层：低折射率SiO2层、光学厚度(K)1.10、几何厚度(D)93.42，第三层：高折射率Ti3O5层、光学厚度(K)2.00、几何厚度(D)118.25，第二层：低折射率SiO2层、光学厚度(K)0.35、几何厚度(D)29.79，第一层：高折射率Ti3O5层、光学厚度(K)0.32、几何厚度(D)21.06～17.06，厚度单位nm。
所述高折射率Ti3O5层的折射率(N)2.112。
所述低折射率SiO2层的折射率(N)1.477。
所述第一层，高折射率Ti3O5层、光学厚度(K)0.32、几何厚度(D)19.06，厚度单位nm。
所述第一层，高折射率Ti3O5层、光学厚度(K)0.32、几何厚度(D)21.06，厚度单位nm。
所述第一层，高折射率Ti3O5层、光学厚度(K)0.32、几何厚度(D)17.06，厚度单位nm。
采用上述方案后，本实用新型的四层叠加结构中，其它三层的厚度固定不变，只需改变第一层膜厚就可以直接使用在各种材质基底的镜片上镀膜。针对不同镜片基底，可免去二次优化设计，光谱曲线优化容易。
以下结合附图及具体实施例对本实用新型做详细描述。
附图说明
图1是本实用新型的复合结构示意图；
图2是本实用新型实施例一的光谱曲线图；
图3是本实用新型实施例一的色谱图；
图4是本实用新型实施例二与实施例一的光谱曲线对比图；
图5是本实用新型实施例二的色谱图；
图6是本实用新型实施例三与实施例一的光谱曲线对比图；
图7是本实用新型实施例三的色谱图。
具体实施方式
如图1所示，本实用新型揭示的一种高增透抗反射光学薄膜，由四层高、低折射率的材料交错叠加而成，而且，从与基底接触向外，四层分别是第四层4：低折射率SiO2层、光学厚度(K)1.10、几何厚度(D)93.42，第三层3：高折射率Ti3O5层、光学厚度(K)2.00、几何厚度(D)118.25，第二层2：低折射率SiO2层、光学厚度(K)0.35、几何厚度(D)29.79，第一层1：高折射率Ti3O5层、光学厚度(K)0.32、几何厚度(D)21.06～17.06，厚度单位nm。
本实用新型光谱曲线优化容易，通过改变第一层1的膜厚就可以直接使用在各种材质基底的镜片上镀膜。例如：在传统镜片TAC和尼龙镜片，以及高折射率的PC镜片上面实现同一种膜系镀制AR蓝的高增透抗反射膜层。这样就减少了研发设计成本，同时产品的光谱曲线在增强或减少反射率的情况下也不会出现光谱曲线变形的现象。
实施例一
各层结构如表一：
层序号 (HL)符号 镀膜材料 折射率(N) 光学厚度(K) 几何厚度(D)
1 H Ti<sub>3</sub>O<sub>5</sub> 2.112 0.32 19.06
2 L SiO<sub>2</sub> 1.477 0.35 29.79
3 H Ti<sub>3</sub>O<sub>5</sub> 2.112 2.00 118.25
4 L SiO<sub>2</sub> 1.477 1.10 93.42
实施例一的光谱曲线如图2所示，色谱如图3所示。
实施例二
在实施例一的基础上，将第一层1厚度减少2纳米，各层结构如表二：
层序号 (HL)符号 镀膜材料 折射率(N) 光学厚度(K) 几何厚度(D)
1 H Ti<sub>3</sub>O<sub>5</sub> 2.112 0.29 17.06
2 L SiO<sub>2</sub> 1.477 0.35 29.79
3 H Ti<sub>3</sub>O<sub>5</sub> 2.112 2.00 118.25
4 L SiO<sub>2</sub> 1.477 1.10 93.42
实施例二的第一层1减少2纳米和实施例一原光谱曲线的对比图如图4所示，色谱如图5所示。
从图表可以看出，减少第一层1的厚度只增加了蓝色光的反射强度，但膜系和色系及光谱的增透性能并没有改变。
实施例三
在实施例一的基础上，将第一层1厚度增加2纳米，各层结构如表三：
层序号 (HL)符号 镀膜材料 折射率(N) 光学厚度(K) 几何厚度(D)
1 H Ti<sub>3</sub>O<sub>5</sub> 2.112 0.36 21.06
2 L SiO<sub>2</sub> 1.477 0.35 29.79
3 H Ti<sub>3</sub>O<sub>5</sub> 2.112 2.00 118.25
4 L SiO<sub>2</sub> 1.477 1.10 93.42
实施例三的第一层1增加2纳米和实施例一原光谱曲线的对比图如图6所示，色谱如图7所示。
从图表可以看出，增加第一层1的厚度只减弱了蓝色光的反射强度，但膜系和色系及光谱的增透性能并没有改变。

Claims (6)

1.一种高增透抗反射光学薄膜，其特征在于：由四层高、低折射率的材料交错叠加而成，而且，从与基底接触向外，四层分别是第四层：低折射率SiO2层、光学厚度K1.10、几何厚度D 93.42，第三层：高折射率Ti3O5层、光学厚度K2.00、几何厚度D118.25，第二层：低折射率SiO2层、光学厚度K0.35、几何厚度D 29.79，第一层：高折射率Ti3O5层、光学厚度K0.32、几何厚度D21.06～17.06，厚度单位nm。
2.如权利要求1所述的一种高增透抗反射光学薄膜，其特征在于：所述高折射率Ti3O5层的折射率N 2.112。
3.如权利要求1所述的一种高增透抗反射光学薄膜，其特征在于：所述低折射率SiO2层的折射率N 1.477。
4.如权利要求1所述的一种高增透抗反射光学薄膜，其特征在于：所述第一层，高折射率Ti3O5层、光学厚度K0.32、几何厚度D19.06，厚度单位nm。
5.如权利要求1所述的一种高增透抗反射光学薄膜，其特征在于：所述第一层，高折射率Ti3O5层、光学厚度K0.32、几何厚度D21.06，厚度单位nm。
6.如权利要求1所述的一种高增透抗反射光学薄膜，其特征在于：所述第一层，高折射率Ti3O5层、光学厚度K0.32、几何厚度D17.06，厚度单位nm。
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CN112558192A (zh) * 2019-09-25 2021-03-26 深圳市融光纳米科技有限公司 一种光学薄膜、纳米结构色晶体及其混合物和制备方法
CN113594022A (zh) * 2021-07-26 2021-11-02 杭州美迪凯光电科技股份有限公司 一种光学镀膜半导体晶圆嫁接方法及光学镀膜半导体

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