CN113278937A - 一种功能膜生产工艺及设备 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种功能膜生产工艺及设备，通过溅射镀膜法在基底表面依次镀高折射率材料膜层和低折射率材料膜层交替设计叠加构成的功能膜，所述功能膜在基底表面依次镀有TiO2、SiO2、TiO2、SiO2、Si3N4、SiO2六层镀膜层，包括真空室、基片架、镀前清洗机、AF前清洗机，所述真空室内设置有360°旋转平台，所述真空室绕圆周依次设置有真空过渡腔体、真空镀膜腔体，所述真空室通过环形设计与出片室、补充台、出片台、出片旋转接送片台、基片架回线台、进片旋转接送片台、进片台、进片室依次相连构成循环回路，该功能膜在材料和设备的改进下使得莫氏硬度能够达到大于5.5，现在的盖板类产品镀功能膜层的需求越来越多，在同样光学要求上硬度越高意味着镀膜产品更有市场竞争力。

Description

一种功能膜生产工艺及设备
技术领域
本发明涉及一种镀膜方法和设备，具体涉及一种功能膜生产工艺及设备。
背景技术
一般的手机和平板电脑表面容易被划伤破坏，并且视角小，通过镀一层功能膜层后，这些缺点会被克服掉；目前功能膜主要用于显示器件保护屏如手机、平板电脑、笔记本电脑、台式电脑显示屏、高档仪表面板、触摸屏、相框玻璃等提高透射率降低反射率的电子产品。
现在市场上主要使用TiO2和SiO2组合的膜层或者Nb2O5和SiO2组合的膜层。使用这种类型的组合能够满足现阶段产品对光学上的要求(可见光400-700nm单层镀膜平均透过率≥95%)。但是不能达到理想中的硬度要求，现阶段市场上的盖板类硬度只能满足：1、铅笔硬度7H~9H；2、莫氏硬度≤5。
同时目前大部分公司所使用的直列式的连续真空磁控溅射镀膜机，在使用过程中会受到前一工序中镀膜时所使用的氧气或氮气等的影响，部分氧气或者氮气串入下一工序中，使得下一工序的Ti或Si被前一工序的氮气或者氧气产生反应，得到该工序不需要的反应物，影响该道工序中镀膜层的效果需求，同时直列式的连续真空磁控溅射镀膜机在面对多层镀膜工艺的需求时，需要根据镀膜层数而相应加长或减少该工序的生产线，使得直列式的连续真空磁控溅射镀膜机对生产空间的要求较高，占地较大，影响成本和能耗，故现有直列式镀膜机不能满足新的镀膜工艺，使用现有的直列式的连续真空磁控溅射镀膜机对镀膜产品有影响。
综上所述，需要设计一种功能膜生产工艺及相应设备来解决上述问题。
发明内容
本发明的目的在于为了解决上述技术问题，而提供功能膜镀膜方法和设备，通过对工艺的改进和对设备所可能造成的产品缺陷的弥补，保证更高的功能膜使用效果。
本发明通过以下技术方案来实现上述目的，一种功能膜生产工艺，其中，通过溅射镀膜法在基底表面依次镀高折射率材料膜层和低折射率材料膜层交替设计叠加构成的功能膜，所述功能膜在基底表面依次镀有TiO2、SiO2、TiO2、SiO2、Si3N4、SiO2六层镀膜层。
优选的，设计的超硬功能膜层厚度共300nm，按6层膜厚分别为10nm、40nm、20nm、50nm、100nm、90nm，所述镀膜层厚度误差为±10%。
优选的，溅射镀膜法其步骤为：
一、在上片区，将待镀膜产品装在基片架上；
二、基片架移动至进片旋转接送片台，调整轨道104方向对接真空过渡腔体，基片架进入真空过渡腔体，开始排气抽真空。真空室通过调整360°旋转平台，对接真空过渡腔体的轨道后，基片架进入真空室；
三、调整360°旋转平台，对接真空镀膜腔体一的轨道后，基片架进入真空镀膜腔体一，同时真空镀膜腔体一充入氧气，溅射室溅射Ti与基片上；
四、基片架按原路返回进入到真空镀膜腔体二内，真空镀膜腔体二内充入氧气，溅射室溅射Si与基片上；
五、基片架按原路返回进入到真空镀膜腔体三内，真空镀膜腔体三内充入氧气，溅射室溅射Ti与基片上；
六、基片架按原路返回进入到真空镀膜腔体四内，真空镀膜腔体四内充入氧气，溅射室溅射Si与基片上；
七、基片架按原路返回进入到真空镀膜腔体五内，真空镀膜腔体五内充入氮气，溅射室溅射Si与基片上；
八、基片架按原路返回进入到真空镀膜腔体六内，真空镀膜腔体六内充入氧气，溅射室溅射Si与基片上；
九、调整360°旋转平台对接真空过渡腔体二后，让基片架进入真空过渡腔体二后，开始放气进入大气状态，调整出片旋转接送台方向，对接真空过渡腔体二，基片架移动至出片旋转接送台，45°出片旋转接送台移动对接基片架回线台，基片架移动至下片区，等待已镀好产品下片。
优选的，包括真空室、基片架、镀前清洗机、AF前清洗机，所述真空室内设置有360°旋转平台，所述真空室绕圆周依次设置有真空过渡腔体一、真空镀膜腔体一、真空镀膜腔体二、真空镀膜腔体三、真空镀膜腔体四、真空镀膜腔体五、真空镀膜腔体六、真空镀膜腔体七、真空过渡腔体二，所述真空室通过环形设计与出片室、补充台、出片台、出片旋转接送片台、基片架回线台、进片旋转接送片台、进片台、进片室依次相连构成循环回路，所述进片旋转接送台和所述出片旋转接送台均可45°旋转，所述进片台与所述进片室之间通过阀门十一连接，所述进片室与所述真空室之间通过阀门一连接，所述真空室与所述出片室之间通过阀门十连接，所述出片室与所述补充台通过阀门十二连接。
优选的，上述所有真空镀膜腔体均可设置一个或者多个溅射室，所述真空镀膜腔体与真空室连接处设置有过渡仓，所述进片台和所述进片旋转接送片台设置在装片间，所述装片间为百级无尘间，所述镀前清洗机后端与与所述装片间连通，所述出片台、出片旋转接送片台设置在卸片间，所述卸片间为百级无尘间，所述AF前清洗机前端与所述卸片间连通，所述装片间与所述卸片间之间设置有所述基片架回线台。
优选的，所述360°旋转平台上设置有十条双旋转轨道，所述真空过渡腔体一、所述真空镀膜腔体一、所述真空镀膜腔体二、所述真空镀膜腔体三、所述真空镀膜腔体四、所述真空镀膜腔体五、所述真空镀膜腔体六、所述真空镀膜腔体七、所述真空过渡腔体二均设置有轨道与所述360°旋转平台上的所述双旋转轨道对应，所述进片台、所述进片旋转接送片台、所述出片台、所述出片旋转接送片台、所述基片架回线台、所述进片室、所述出片室和所述补充台均设置有轨道使得所述基片架能始终在轨道上运动。
优选的，所述轨道包括轨道槽，所述轨道槽两侧设置有检测柜，所述检测柜靠近轨道槽内侧均匀设置有弹性感位器，所述弹性感应器一端设置由一弹性球状体，另一端设置由一圆形凸透镜镜片，所述弹性感应器在高度方向由上而下依次设置，所述弹性感应器的长度由上而下依次增长再依次减小，所有所述弹性感应器最终相互组合，所述每个弹性感应器上所述圆形凸透镜镜片组合成“月牙”状排布，所述检测柜左端设置由光敏传感器板，所述光敏传感器板设置由光敏传感器，所述光敏传感器为月牙状，与所述若干弹性感应器上凸透镜镜片位置保持一致，所述检测柜右端设置由直射光源，所述直射光源通过若干发射器发送直射光源至所述检测柜的所述光敏传感器一侧，所述集束光源依次通过每一个所述弹性传感器的圆形凸透镜直射至所述光敏传感器上。
综上所述，本发明包括以下至少一种有益技术效果：
（1）设计的功能膜在同膜层达到硬度条件下，该功能膜在光学性能具有优势，而在同光学性能的条件下，该功能膜在同膜层情况下硬度较高，莫氏硬度能够达到大于5.5，产品在满足光学性能的条件下，膜层硬度更高，硬度更高，就更加耐摩擦、耐划伤，现在的盖板类产品镀功能膜层的需求越来越多，在同样光学要求上意味着镀膜产品更有市场竞争力。
（2）本发明所设计的功能膜真空磁控溅射镀膜机，最大能满足10层镀膜工艺的需求，但不影响生产4层、6层的生产率，每个镀膜腔体单独控制，镀几层膜就用几个腔室，比传统的直列式真空磁控溅射镀膜机省时间。
（3）本发明所设计的功能膜真空磁控溅射镀膜机采用环形设计，与传统真空磁控溅射镀膜机比较能够减少所需的设备使用空间，并且在更改工艺过程中不需对设备进行较大更改，能降低时间成本、同时降低能耗。
（4）本发明所设计的功能膜真空磁控溅射镀膜机每一层都单独隔离，制程气体不会乱窜，可很好的完成所需要的生产工艺的要求，确保每层的镀膜不会产生其他的干扰。
（5）本发明所设置的检测柜通过光学折射的现象对所有基座架进行生产线上的位置测定，同时也对轨道槽进行一个故障检测，实现了该生产线的流程控制和检测。
附图说明
图1是本发明的一种功能膜生产工艺及设备的功能膜分层及材料示意图；
图2是本发明的一种功能膜生产工艺及设备的功能膜可见光透过率曲线图图；
图3是本发明的一种功能膜生产工艺及设备的设备结构示意图；
图4是本发明的一种功能膜生产工艺及设备的设备结构局部示意图；
图5是本发明的一种功能膜生产工艺及设备的真空镀膜腔体示意图；
图6是本发明的一种功能膜生产工艺及设备的轨道检测结构示意图；
图7是本发明的一种功能膜生产工艺及设备的光敏传感器示意图；
图8是本发明的一种功能膜生产工艺及设备的弹性感位器位置示意图；
图9是本发明的一种功能膜生产工艺及设备的弹性感位器结构示意图；
主要设备说明：1真空室、2真空镀膜腔体一、3真空镀膜腔体二、4真空镀膜腔体三、5真空镀膜腔体四、6真空镀膜腔体五、7真空镀膜腔体六、8真空镀膜腔体七、9真空过渡腔体一、10真空过渡腔体二、11基片架、12镀前清洗机、13AF前清洗机、14基片架回线台、15溅射室、16装片间、17卸片间、101 360°旋转平台、102过渡仓、103旋转轨道、104轨道、105圆形盘、901进片旋转接送片台、902进片台、903进片室、904阀门十一、905阀门一、1001出片台、1002补充台、1003出片台、1004出片旋转接送台、1005阀门十、1006阀门十二、1041轨道槽、1042检测柜、1043弹性感位器、1044弹性球状体、1045凸透镜镜片、1046光敏传感器板、1047光敏传感器、1048直射光源、1049发射器。
具体实施方式
下面将结合附图对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
一种功能膜生产工艺，其中，通过溅射镀膜法在基底表面依次镀高折射率材料膜层和低折射率材料膜层交替设计叠加构成的功能膜，所述功能膜在基底表面依次镀有TiO2、SiO2、TiO2、SiO2、Si3N4、SiO2六层镀膜层。
具体的，设计的功能膜层厚度共300nm，按6层膜厚分别为10nm、40nm、20nm、50nm、100nm、90nm，所述镀膜层厚度误差为±10%。
具体的，溅射镀膜法其步骤为：
一、在上片区，将待镀膜产品装在基片架11上；
二、基片架11移动至进片旋转接送片台901，调整轨道104方向对接真空过渡腔体9，基片架11进入真空过渡腔体9，开始排气抽真空。真空室1通过调整360°旋转平台101，对接真空过渡腔体9的轨道104后，基片架11进入真空室1；
三、调整360°旋转平台101，对接真空镀膜腔体一2的轨道104后，基片架11进入真空镀膜腔体一2，同时真空镀膜腔体一2充入氧气，溅射室15溅射Ti与基片上；
四、基片架11按原路返回进入到真空镀膜腔体二3内，真空镀膜腔体二3内充入氧气，溅射室15溅射Si与基片上；
五、基片架11按原路返回进入到真空镀膜腔体三4内，真空镀膜腔体三4内充入氧气，溅射室15溅射Ti与基片上；
六、基片架11按原路返回进入到真空镀膜腔体四5内，真空镀膜腔体四5内充入氧气，溅射室15溅射Si与基片上；
七、基片架11按原路返回进入到真空镀膜腔体五6内，真空镀膜腔体五6内充入氮气，溅射室15溅射Si与基片上；
八、基片架11按原路返回进入到真空镀膜腔体六7内，真空镀膜腔体六7内充入氧气，溅射室15溅射Si与基片上；
九、调整360°旋转平台101对接真空过渡腔体二10后，让基片架11进入真空过渡腔体二10后，开始放气进入大气状态，调整出片旋转接送台1004方向，对接真空过渡腔体二10，基片架11移动至出片旋转接送台1004，45°出片旋转接送台1004移动对接基片架回线台14，基片架11移动至下片区，等待已镀好产品下片。
具体的，包括真空室1、基片架11、镀前清洗机12、AF前清洗机13，所述真空室1内设置有360°旋转平台101，所述真空室1绕圆周依次设置有真空过渡腔体一9、真空镀膜腔体一2、真空镀膜腔体二3、真空镀膜腔体三4、真空镀膜腔体四5、真空镀膜腔体五6、真空镀膜腔体六7、真空镀膜腔体七8、真空过渡腔体二10，所述真空室1通过环形设计与出片室1001、补充台1002、出片台1003、出片旋转接送片台1004、基片架回线台14、进片旋转接送片台901、进片台902、进片室903依次相连构成循环回路，所述进片旋转接送台901和所述出片旋转接送台1004均可45°旋转，所述进片台902与所述进片室903之间通过阀门十一904连接，所述进片室903与所述真空室1之间通过阀门一905连接，所述真空室1与所述出片室1001之间通过阀门十1005连接，所述出片室1001与所述补充台通过阀门十二1006连接。
具体的，上述所有真空镀膜腔体均可设置一个或者多个溅射室15，所述真空镀膜腔体与真空室1连接处设置有过渡仓102，所述进片台902和所述进片旋转接送片台1004设置在装片间16，所述装片间16为百级无尘间，所述镀前清洗机12后端与与所述装片间16连通，所述出片台1001、出片旋转接送片台1004设置在卸片间17，所述卸片间17为百级无尘间，所述AF前清洗机13前端与所述卸片间17连通，所述装片间16与所述卸片间17之间设置有所述基片架回线台18。
具体的，所述360°旋转平台101上设置有十条双旋转轨道103，所述真空过渡腔体一9、所述真空镀膜腔体一2、所述真空镀膜腔体二3、所述真空镀膜腔体三4、所述真空镀膜腔体四5、所述真空镀膜腔体五6、所述真空镀膜腔体六7、所述真空镀膜腔体七8、所述真空过渡腔体二10均设置有轨道104与所述360°旋转平台101上的所述双旋转轨道103对应，所述进片台902、所述进片旋转接送片台901、所述出片台1003、所述出片旋转接送片台1004、所述基片架回线台18、所述进片室902、所述出片室1001和所述补充台1002均设置有轨道104使得所述基片架11能始终在轨道104上运动。
具体的，所述轨道104包括轨道槽1041，所述轨道槽1041两侧设置有检测柜1042，所述检测柜1042靠近轨道槽1041内侧均匀设置有若干弹性感位器1043，所述弹性感应器1043一端设置由一弹性球状体1044，另一端设置由一圆形凸透镜镜片1045，所述弹性感应器1043在高度方向由上而下依次设置，所述弹性感应器1043的长度由上而下依次增长再依次减小，所述若干弹性感应器1043最终组合而成，所述每个弹性感应器1043上所述圆形凸透镜镜片1045组合成“月牙”状排布，所述检测柜1042左端设置由光敏传感器板1046，所述光敏传感器板1046设置由光敏传感器1047，所述光敏传感器1047为月牙状，与所述若干弹性感应器1043上凸透镜镜片1045位置保持一致，所述检测柜1042右端设置由直射光源1048，所述直射光源1048通过若干发射器1049发送直射光源1048至所述检测柜1042的所述光敏传感器1047一侧，所述集束光源依次通过每一个所述弹性传感器1043的圆形凸透镜1045直射至所述光敏传感器1047上。
工作原理：
功能膜层工艺采用的是SiO2和TiO2与Si3N4三种材料按照图1的方式进行堆叠，所述功能膜在基底表面依次镀有TiO2、SiO2、TiO2、SiO2、Si3N4、SiO2六层镀膜层，设计的功能膜层厚度共300nm，按6层膜厚分别为10nm、40nm、20nm、50nm、100nm、90nm，所述镀膜层厚度误差为±10%。
该设计的可见光400-700nm的透过率曲线如图2所示，
可见光（400-700nm）T%透过率平均值能到95.2%。铅笔硬度≥9H,莫氏硬度≥5.5。
本发明的多通道连续式真空磁控溅射镀膜机工作流程：
1、在上片区，将待镀膜产品装在基片架11上。
2、基片架44移动至进片旋转接送片台901，调整轨道104方向对接真空过渡腔体9，打开阀门十一904，基片架11进入真空过渡腔体9，开始排气抽真空。
3、真空室1通过调整360°旋转平台101，对接真空过渡腔体9的轨道104后，打开阀门一905，让基片11进入真空室1。
4、关闭阀门一905，调整360°旋转平台101，对接真空镀膜腔体一2的轨道104后。打开过渡仓102，让基片架11进入真空镀膜腔体一2，关闭过渡仓102进行第一层镀膜。
5、真空镀膜腔体一2镀膜完成后，基片架11按原路返回，打开过渡仓102进入真空室1，完成后关闭过渡仓102。
6、如此反复直到镀完真空镀膜腔体七8后，调整360°旋转平台101对接真空过渡腔体二10后，打开阀门十1005，让基片架11进入真空过渡腔体二10后，关闭阀门十1005，开始放气进入大气状态。
7、调整出片旋转接送台1004方向，对接真空过渡腔体二10，打开阀门十二1006，基片架11移动至出片旋转接送台1004。
8、关闭阀门十二1006，45°出片旋转接送台1004移动对接基片架回线台14，基片架11移动至下片区，等待已镀好产品下片。
所述多个基片架11可同时进入到360°旋转平台中，通过双旋转轨道103和圆形盘105实现多个基片架11同时控制所需转入得轨道槽1041中，大大加快了生产效率，使得生产成本降低。
其中，所述检测柜1042结构当设备启动时，设备不可避免的具有轻微的震动，此时直射光源1048通过凸透镜镜片1045直射到光敏传感器1047上时，光敏传感器1047连接至电路，每道光源通过控制系统呈现出一些有规律的波动段，此时若所有波动段大体一致，则机器无问题，可正常工作。
当基片架11由轨道进入到轨道槽1041内时，基片架11向右移动，当移动到第一个弹性感应器1043时，基片架将弹性感应器1043一端的弹性球状体1044接触挤压，使得弹性感应器1043向内部移动，此时由于弹性感应器1043上的镜片为凸透镜，当移动一端距离后，直射光源1048射在凸透镜上的位置改变，使得通过凸透镜后光源发生部分折射，从而照射在光敏传感器1047上的光源减弱，同时由于基片架11的加入，使得该位置的震动发生了部分改变，此时光敏传感器1047上该位置的光源强度和光源波动均发生了有规律的变化，此时则可以确定基片架11所处的位置，同时之后基片架11移动至后续弹性感应器1043之后效果同上。
当机器长运行时间后，轨道104可能产生轻微磨损或者出现凹坑，当基片架11经过该位置时，由于凹坑或者磨损的影响，会导致基片架11压入弹性感应器的位置发生改变，且由于凹坑的影响，使得基片架11经过时产生的规律震动会发生变化，产生不可预估的跳动，这是通过弹性感应器1043和直射光源1048在光敏传感器1047上的放大，可通过观察控制器上所显示的图像可迅速发现问题出现的所在，快速解决问题。
最后应说明的是，以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种功能膜生产工艺，其特征在于：通过溅射镀膜法在基底表面依次镀高折射率材料膜层和低折射率材料膜层交替设计叠加构成的功能膜，所述功能膜在基底表面依次镀有TiO2、SiO2、TiO2、SiO2、Si3N4、SiO2六层镀膜层。
2.根据权利要求1所述的一种功能膜生产工艺，其特征在于：设计的超硬功能膜层厚度共300nm，按6层膜厚分别为10nm、40nm、20nm、50nm、100nm、90nm，所述镀膜层厚度误差为±10%。
3.根据权利要求1所述的一种功能膜生产工艺，其特征在于：溅射镀膜法其步骤为：
一、在上片区，将待镀膜产品装在基片架（11）上；
二、基片架（11）移动至进片旋转接送片台（901），调整轨道104方向对接真空过渡腔体（9），基片架（11）进入真空过渡腔体（9），开始排气抽真空；
真空室（1）通过调整360°旋转平台（101），对接真空过渡腔体（9）的轨道（104）后，基片架（11）进入真空室（1）；
三、调整360°旋转平台（101），对接真空镀膜腔体一（2）的轨道（104）后，基片架（11）进入真空镀膜腔体一（2），同时真空镀膜腔体一（2）充入氧气，溅射室（15）溅射Ti与基片上；
四、基片架（11）按原路返回进入到真空镀膜腔体二（3）内，真空镀膜腔体二（3）内充入氧气，溅射室（15）溅射Si与基片上；
五、基片架（11）按原路返回进入到真空镀膜腔体三（4）内，真空镀膜腔体三（4）内充入氧气，溅射室（15）溅射Ti与基片上；
六、基片架（11）按原路返回进入到真空镀膜腔体四（5）内，真空镀膜腔体四（5）内充入氧气，溅射室（15）溅射Si与基片上；
七、基片架（11）按原路返回进入到真空镀膜腔体五（6）内，真空镀膜腔体五（6）内充入氮气，溅射室（15）溅射Si与基片上；
八、基片架（11）按原路返回进入到真空镀膜腔体六（7）内，真空镀膜腔体六（7）内充入氧气，溅射室（15）溅射Si与基片上；
九、调整360°旋转平台（101）对接真空过渡腔体二（10）后，让基片架（11）进入真空过渡腔体二（10）后，开始放气进入大气状态，调整出片旋转接送台（1004）方向，对接真空过渡腔体二（10），基片架（11）移动至出片旋转接送台（1004），45°出片旋转接送台（1004）移动对接基片架回线台（14），基片架（11）移动至下片区，等待已镀好产品下片。
4.一种功能膜生产设备，其特征在于：包括真空室（1）、基片架（11）、镀前清洗机（12）、AF前清洗机（13），所述真空室（1）内为圆心筒型结构，所述真空室（1）内设置有360°旋转平台（101），所述真空室（1）绕圆周依次设置有真空过渡腔体一（9）、真空镀膜腔体一（2）、真空镀膜腔体二（3）、真空镀膜腔体三（4）、真空镀膜腔体四（5）、真空镀膜腔体五（6）、真空镀膜腔体六（7）、真空镀膜腔体七（8）、真空过渡腔体二（10），所述真空室（1）通过环形设计与出片室（1001）、补充台（1002）、出片台（1003）、出片旋转接送片台（1004）、基片架回线台（14）、进片旋转接送片台（901）、进片台（902）、进片室（903）依次相连构成循环回路，所述进片旋转接送台（901）和所述出片旋转接送台（1004）均可45°旋转。
5.根据权利要求4所述的一种功能膜生产设备，其特征在于：所述进片台（902）与所述进片室（903）之间通过阀门十一（904）连接，所述进片室（903）与所述真空室（1）之间通过阀门一（905）连接，所述真空室（1）与所述出片室（1001）之间通过阀门十（1005）连接，所述出片室（1001）与所述补充台通过阀门十二（1006）连接。
6.根据权利要求4所述的一种功能膜生产设备，其特征在于：上述所有真空镀膜腔体均可设置一个或者多个溅射室（15），所述真空镀膜腔体与真空室（1）连接处设置有过渡仓（102），所述进片台（902）和所述进片旋转接送片台（1004）设置在装片间（16），所述装片间（16）为百级无尘间，所述镀前清洗机（12）后端与与所述装片间（16）连通，所述出片台（1001）、出片旋转接送片台（1004）设置在卸片间（17），所述卸片间（17）为百级无尘间，所述AF前清洗机（13）前端与所述卸片间（17）连通，所述装片间（16）与所述卸片间（17）之间设置有所述基片架回线台（14）。
7.根据权利要求4所述的一种功能膜生产设备，其特征在于：所述360°旋转平台（101）上设置有十条旋转轨道（103），所述真空过渡腔体一（9）、所述真空镀膜腔体一（2）、所述真空镀膜腔体二（3）、所述真空镀膜腔体三（4）、所述真空镀膜腔体四（5）、所述真空镀膜腔体五（6）、所述真空镀膜腔体六（7）、所述真空镀膜腔体七（8）、所述真空过渡腔体二（10）均设置有轨道（104）与所述360°旋转平台（101）上的所述旋转轨道（103）对应，所述进片台（902）、所述进片旋转接送片台（901）、所述出片台（1003）、所述出片旋转接送片台（1004）、所述基片架回线台（18）、所述进片室（902）、所述出片室（1001）和所述补充台（1002）均设置有轨道（104）使得所述基片架（11）能始终在轨道（104）上运动。
8.根据权利要求4所述的一种一种功能膜生产设备，其特征在于：所述轨道（104）包括轨道槽（1041），所述轨道槽（1041）两侧设置有检测柜（1042），所述检测柜（1042）靠近轨道槽（1041）内侧均匀分布设置有弹性感位器（1043），所述弹性感应器（1043）一端设置由一弹性球状体（1044），另一端设置由一圆形凸透镜镜片（1045），所述弹性感应器（1043）在高度方向由上而下依次设置，所述弹性感应器（1043）的长度由上而下依次增长再依次减小，所有所述弹性感应器（1043）最终相互组合，所述每个弹性感应器（1043）上所述圆形凸透镜镜片（1045）组合成“月牙”状排布，所述检测柜（1042）左端设置由光敏传感器板（1046），所述光敏传感器板（1046）设置由光敏传感器（1047），所述光敏传感器（1047）为月牙状，与所述若干弹性感应器（1043）上凸透镜镜片（1045）位置保持一致，所述检测柜（1042）右端设置由直射光源（1048），所述直射光源（1048）通过若干发射器（1049）发送直射光源（1048）至所述检测柜（1042）的所述光敏传感器（1047）一侧，所述集束光源依次通过每一个所述弹性传感器（1043）的圆形凸透镜（1045）直射至所述光敏传感器（1047）上。
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