CN206127399U - 带感应片的旋转真空镀膜室 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及带感应片的旋转真空镀膜室，包括真空泵、导气管、反应室、蒸发源、镀膜支架、感应片、旋转台，其特征在于真空泵通过导气管与反应室连通，反应室中央位置设置有旋转台，镀膜支架设置在旋转台上方，镀膜支架顶部朝上方突起，旋转台位于镀膜支架顶部突起的正下方。由于本实用新型所述的带感应片的旋转真空镀膜室的镀膜支架顶部朝上方突起，旋转台位于镀膜支架顶部突起的正下方，多个蒸发源放射状分布在旋转台上方，因此蒸发源与镀膜支架上不同位置的直线距离差极小，尽量减小了镀膜支架上工件的镀膜速率差，保证了镀膜的均匀。而且通过在镀膜支架上方顶部中央位置设置感应片，从而可以实时监控膜层厚度。
Description
技术领域
本实用新型涉及镜片生产设备领域，具体是带感应片的旋转真空镀膜室。
背景技术
无论树脂或玻璃镜片其本身的透光率都只有91%左右，会有部分光线被镜片的两个表面反射回来。
镜片的反射可使光线透过率减少并在视网膜形成干扰像而影响成像的质量，并影响配戴者的外观。如镜片外观涡旋明显，照相反光，看不到配戴者的眼睛等等。而镀膜镜片是利用光学薄膜及真空的新技术，镀上一定厚度的单层或多层光学薄膜，使镜片获得一些新的、原本不具备的优良性能，以改善镜片反射光线的能力，起到增强或减少光线透过的作用使镜片的透光率增加到98%。
所镀的膜层主要有硬膜、多层减反射膜、抗污膜等。
各膜层的主要作用是：1）加硬膜：增加镜片表面的硬度，使其更加耐磨损。2）减反射膜：增加镜片可见光的透过率和防紫外线、防辐射的性能。3）抗污膜：因减反射膜的技术需要，该膜分子间空隙较大，镜片表面容易藏污纳垢，而抗污膜的物质分子颗粒小、分子之间空隙小，使镜片表面更加光洁，增加了防水、防雾、防尘等等防污染等功能。
目前，行业内镜片镀膜加工使用的蒸发镀膜设备多采用旋转基片的方式来保证膜层厚度的均匀性。镀膜过程容易对镜片及所镀膜层造成污染，而且膜层厚度均匀不易控制。
实用新型内容
本实用新型正是针对以上技术问题，提供一种结构简单、使用方便、可以保证镀膜均匀的带感应片的旋转真空镀膜室。
本实用新型通过以下技术方案来实现：
带感应片的旋转真空镀膜室，包括真空泵、导气管、反应室、蒸发源、镀膜支架、感应片、旋转台，其特征在于真空泵通过导气管与反应室连通，反应室中央位置设置有旋转台，镀膜支架设置在旋转台上方，镀膜支架顶部朝上方突起，旋转台位于镀膜支架顶部突起的正下方，蒸发源为多个，多个蒸发源放射状分布在旋转台上方，镀膜支架顶部位置设置有感应片。镀膜支架为三脚支架。镀膜支架顶部呈圆形。感应片设置在镀膜支架的顶部中央位置。
由于本实用新型所述的带感应片的旋转真空镀膜室的镀膜支架顶部朝上方突起，旋转台位于镀膜支架顶部突起的正下方，多个蒸发源放射状分布在旋转台上方，因此蒸发源与镀膜支架上不同位置的直线距离差极小，尽量减小了镀膜支架上工件的镀膜速率差，保证了镀膜的均匀。而且通过在镀膜支架上方顶部中央位置设置感应片，从而可以实时监控膜层厚度。
本实用新型结构简单，使用方便。
附图说明
附图中，图1是本实用新型结构示意图，其中：
1—真空泵，2—导气管，3—反应室，4—蒸发源，5—镀膜支架，6—感应片，7—旋转台。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型作进一步说明。
带感应片的旋转真空镀膜室，包括真空泵1、导气管2、反应室3、蒸发源4、镀膜支架5、感应片6、旋转台7，其特征在于真空泵1通过导气管2与反应室3连通，反应室3中央位置设置有旋转台7，镀膜支架5设置在旋转台7上方，镀膜支架5顶部朝上方突起，旋转台7位于镀膜支架5顶部突起的正下方，蒸发源4为多个，多个蒸发源4放射状分布在旋转台7上方，镀膜支架5顶部位置设置有感应片6。镀膜支架5为三脚支架。镀膜支架5顶部呈圆形。感应片6设置在镀膜支架5的顶部中央位置。
由于本实用新型所述的带感应片的旋转真空镀膜室的镀膜支架5顶部朝上方突起，旋转台7位于镀膜支架5顶部突起的正下方，多个蒸发源4放射状分布在旋转台7上方，因此蒸发源4与镀膜支架5上不同位置的直线距离差极小，尽量减小了镀膜支架5上工件的镀膜速率差，保证了镀膜的均匀。而且通过在镀膜支架5上方顶部中央位置设置感应片6，从而可以实时监控膜层厚度。
上述只是说明了实用新型的技术构思及特点，其目的是在于让本领域内的普通技术人员能够了解实用新型的内容并据以实施，并不能限制本实用新型的保护范围。凡是根据本实用新型内容的实质所作出的等效的变化或修饰，都应涵盖在本实用新型的保护范围。
Claims (4)
1.带感应片的旋转真空镀膜室，包括真空泵、导气管、反应室、蒸发源、镀膜支架、感应片、旋转台，其特征在于真空泵通过导气管与反应室连通，反应室中央位置设置有旋转台，镀膜支架设置在旋转台上方，镀膜支架顶部朝上方突起，旋转台位于镀膜支架顶部突起的正下方，蒸发源为多个，多个蒸发源放射状分布在旋转台上方，镀膜支架顶部位置设置有感应片。
2.根据权利要求1所述带感应片的旋转真空镀膜室，其特征在于所述镀膜支架为三脚支架。
3.根据权利要求1所述带感应片的旋转真空镀膜室，其特征在于所述镀膜支架顶部呈圆形。
4.根据权利要求1所述带感应片的旋转真空镀膜室，其特征在于所述感应片设置在镀膜支架的顶部中央位置。
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2016
- 2016-11-17 CN CN201621233485.XU patent/CN206127399U/zh not_active Expired - Fee Related
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Legal Events
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Granted publication date: 20170426 Termination date: 20181117 |