CN205774820U - 电积铜的生产系统 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种电积铜的生产系统,其包括依次布置的电解系统、铜净液储槽、一次电积槽和储槽一,从电解系统抽取的铜净液通向铜净液储槽,铜净液储槽的料液出口通向一次电积槽,一次电积槽的电积液出口通向储槽一和铜净液储槽。与现有技术相比,本实用新型将一次电积槽中的一部分电积液通过铜净液储槽的过渡进行循环电积,这样可以有效增加一次电积槽中的电积液的流通量,不仅有效保证一次电积槽中的悬浮物得以及时排出,而且也可以避免一次电积槽内的电积液出现局部浓差极化的现象,如此一来即可有效提高一次电积槽中阴极板上的电积铜的质量。
Description
技术领域
本实用新型涉及铜的冶炼技术领域,具体涉及一种电积铜的生产系统。
背景技术
铜矿企业采用电解系统电解精炼纯铜的过程中,铜离子及杂质会不断在铜电解液中富集,致使铜电解液中的铜浓度和杂质浓度不断上升,因此必须每天排出一定量的铜电解液送至电积净化系统进行净化(脱铜和脱杂),同时按照设定流量向电解系统中补入新的电解液,以保证电解生产的稳定运行,而电积净化系统在处理铜电解液的同时也相应地生产得到可直接市售的副产品。如电积铜、粗硫酸铜以及黑铜等。
具体来说,现有技术中,铜电解液的电积净化系统主要包括依次布置的二个电积净化单元,实际应用时先将铜净液(即从电解系统中排出的待净化的铜电解液)排入一次电积脱铜槽中进行一次电积,这样铜净液中的铜离子即可在阴极板上析出得电积铜待售,而一次电积后的一次电积终液则送至真空蒸发系统中进行真空蒸发、结晶过滤以析出粗硫酸铜,真空蒸发后产生的结晶母液则进入到二次电积槽中进行二次电积。实际生产时,一般需要控制一次电积终液中的铜离子浓度在30g/L以上,以确保一次电积主要是析出电积铜,而二次电积时阴极板只会析出少量黑铜,二次电积的主要作用是使得电积液中的砷、锑和铋等杂质沉积在槽底形成脱铜泥,从而实现脱杂的目的,这样经过二次电积后得到的二次电积终液即可以直接作为新的电解液输送至电解系统进行再利用。
但是上述现有技术还存在以下技术缺陷:实际生产时一般是控制各电积单元的的电积能力不变,这就使得当流入一次电积槽中的铜净液量较小时,一次电积终液中的铜浓度会偏低,也就是说一次电积槽中的电积液的铜浓度会低至其中的杂质也会析出,从而影响一次电积铜的质量。不仅如此,流入一次电积槽中的铜净液量较小时,也会造成一次电积槽中的电积液流量下降,这样不仅导致槽内的悬浮物无法及时排出而吸附在阴极板上形成铜粒子,造成电积铜的杂质含量上升,而且一次电积槽内的电积液极易出现局部浓差极化(即局部电积液的铜浓度低)的现象,从而导致电积铜的局部存在杂质含量超标的问题。因此,要想保证电积铜的生产质量,这还有待技术人员进一步的研究。
发明内容
本实用新型的首要目的是提供一种结构简单、布局合理的电积铜的生产系统,采用该生产系统可以有效保证电积铜的生产质量。
为实现上述目的,本实用新型采用的技术方案是:一种电积铜的生产系统,其特征在于:包括依次布置的电解系统、铜净液储槽、一次电积槽和储槽一,从电解系统抽取的铜净液出口通向铜净液储槽,铜净液储槽的料液出口通向一次电积槽,一次电积槽的电积液出口通向储槽一和铜净液储槽。
采用上述技术方案产生的有益效果在于:与现有技术相比,本实用新型将一次电积槽中的一部分电积液通过铜净液储槽的过渡进行循环电积,这样可以有效增加一次电积槽中的电积液的流通量,不仅有效保证一次电积槽中的悬浮物得以及时排出,而且也可以避免一次电积槽内的电积液出现局部浓差极化的现象,如此一来即可有效提高一次电积槽中阴极板上的电积铜的质量。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
一种电积铜的生产系统,如图1所示,其包括依次布置的电解系统10、铜净液储槽20、一次电积槽30和储槽一40,电解系统10的铜净液出口通向铜净液储槽20,铜净液储槽20的料液出口通向一次电积槽30,一次电积槽30的电积液出口通向储槽一40和铜净液储槽20。本实用新型将一次电积槽30中的电积液分成两路排出,具体来说,除了通入储槽一40中以待接下来的真空蒸发的二次电积外,还有一部分电积液是回到铜净液储槽20中以循环回到一次电积槽30中进行电积,这样做的理由及目的在于:一般来说在相同生产条件下电解系统的脱铜需求是固定的,亦即其排至铜净液储槽20中的铜净液量是固定的,因此本实用新型将一次电积槽30中的一部分电积液通过铜净液储槽20的过渡进行循环电积,如此与现有技术相比,这样可以有效增加一次电积槽30中的电积液的流通量,不仅有效保证一次电积槽30中的悬浮物得以及时排出,而且也可以避免一次电积槽内的电积液出现局部浓差极化的现象,这样一来,势必会提高一次电积槽中阴极板上的电积铜的质量。本实用新型结构简单、布局合理,且造价成本非常低,因此可以在企业推广应用。
作为进一步的优选方案:如图1所示,所述生产系统还包括真空蒸发系统50、重溶槽60以及二次电积槽70,储槽一40的料液出口通向真空蒸发系统50和重溶槽60,重溶槽的料液出口通向电解系统10,真空蒸发系统50真空蒸发后产生的结晶母液通入二次电积槽70电积后返回到电解系统10中。也就是说,针对储槽一40中储存的一次电积液来说,其只有一部分是如现有技术一样通入真空蒸发系统50进行处理真空蒸发以待进一步的二次电积,而储槽一40中的另外一部分一次电积液则通入重溶槽60后直接回到电解系统10,这样做的好处是:由于在电流强度不变的前提下,一次电积槽30的脱铜能力不变,因此当从电解系统10额外抽取一定的铜净液通入铜净液储槽,并将其通入一次电积槽30这样无疑就会提高一次电积槽30中电积液的铜浓度,铜浓度得以提升的情况下,无疑就会阻止电积料液中的杂质在阴极板析出,进而确保阴极板上电积铜的生成质量。在生产中,通过调节从电解系统抽取的铜净液总量,便能实现一次电积槽出液铜浓度的稳定控制,可将其控制在30g/l以上。
进一步的,如图1所示,二次电积槽70的电积液出口通向电解系统10的管路上布置有储槽二80,储槽二80的进、出口分别连通二次电积槽70的电积液出口和电解系统10的电解液进口。也就是说,针对二次电积槽70进行电积后产生的电积液可以先通过到储槽二80中,然后再通过管路集中排放到电解系统10中,如此可以有效控制电积液排放的流量。
Claims (3)
1.一种电积铜的生产系统,其特征在于:包括依次布置的电解系统(10)、铜净液储槽(20)、一次电积槽(30)和储槽一(40),从电解系统(10)抽取的铜净液通向铜净液储槽(20),铜净液储槽(20)的料液出口通向一次电积槽(30),一次电积槽(30)的电积液出口通向储槽一(40)和铜净液储槽(20)。
2.根据权利要求1所述的一种电积铜的生产系统,其特征在于:所述生产系统还包括真空蒸发系统(50)、重溶槽(60)以及二次电积槽(70),储槽一(40)的料液出口通向真空蒸发系统(50)和重溶槽(60),重溶槽的料液出口通向电解系统(10),真空蒸发系统(50)真空蒸发后产生的结晶母液通入二次电积槽(70)电积后返回到电解系统(10)中。
3.根据权利要求2所述的一种电积铜的生产系统,其特征在于:二次电积槽(70)的电积液出口通向电解系统(10)的管路上布置有储槽二(80),储槽二(80)的进、出口分别连通二次电积槽(70)的电积液出口和电解系统(10)的电解液进口。
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CN201620728422.5U CN205774820U (zh) | 2016-07-11 | 2016-07-11 | 电积铜的生产系统 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110938842A (zh) * | 2019-12-06 | 2020-03-31 | 中国瑞林工程技术股份有限公司 | 一种铜电解液净化方法 |
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2016
- 2016-07-11 CN CN201620728422.5U patent/CN205774820U/zh active Active
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