CN205748372U - 一种适用于大尺寸构件的摄影测量长度基准装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种适用于大尺寸构件的摄影测量长度基准装置，属于摄影测量领域，为了解决现有固定长度基准尺的摄影测长范围小，对大尺寸构件导致的测量精度低的问题，以全站仪测量的两标靶中心长度作为可变的长度基准，该装置包括，基座，全站仪标靶，摄影测量标靶。基座设有两个标靶轴孔，两孔径相等，用于交替放置全站仪标靶或摄影测量标靶；全站仪标靶，包括全站仪标靶座、反射片，反射片固定在全站仪标靶座上，借助全站仪用于测量两个标靶点之间的距离作为长度基准；摄影测量标靶，包括摄影测量标靶座和摄影标志，摄影标志固定在摄影测量标靶座的中心，借助摄影测量相机用于识别两个摄影标志点的位置。

Description

一种适用于大尺寸构件的摄影测量长度基准装置

技术领域

本实用新型是涉及测量技术领域，具体的说是涉及一种适用于大尺寸构件的摄影测量长度基准装置。

背景技术

在船舶、海工、航空等大尺寸构件建造领域，利用摄影测量技术进行三维空间数据采集工作的实施中，需要一种适应于大尺寸构件的长度基准，而现有摄影测量系统自带的固定长度基准尺，其长度较短，摄影测长范围小，其较小的误差将对构件整体造成较大的偏差，导致大尺寸构件的测量精度低，适用性差，从而影响到构件的建造质量。

发明内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种适用于大尺寸构件的摄影测量长度基准装置，该装置可以解决大尺寸构件的尺寸测量精确度低、适用性差的问题。

为解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案为：

包括基座，所述的基座侧面加工有两个圆形凹槽，两个所述的凹槽中分别固定有一号薄圆柱体磁铁和二号薄圆柱体磁铁，所述的基座顶面开有全站仪标靶轴孔和摄影测量标靶轴孔，全站仪标靶和摄影测量标靶分别安装在全站仪标靶轴孔和摄影测量标靶轴孔中，所述的全站仪标靶由全站仪标靶圆柱体、楔形体和反射片组成，所述的楔形体固定连接在全站仪标靶圆柱体顶端，所述的反射片固定在楔形体斜面上，摄影测量标靶由摄影测量标靶圆柱体、圆环体和摄影标志组成，所述的圆环体固定在摄影测量标靶圆柱体顶端，所述的摄影标志固定在圆环体中心。

为优化上述实用新型，采取的具体措施还包括：

所述的一号薄圆柱磁铁和二号薄圆柱磁铁规格相同且与圆形凹槽直径相同，同时薄圆柱磁铁的外侧和基座的表面平齐。

所述的反射片为半圆形反射片，表面覆盖有漫反射涂层材料。

所述的反射片圆心与全站仪标靶圆柱体顶面圆心重合。

所述的摄影标志为圆形，采用回光反射材料制成。

所述的摄影标志圆心与摄影测量标靶圆柱体圆心重合。

所述的全站仪标靶圆柱体和摄影测量标靶圆柱体尺寸规格相同。

所述的全站仪标靶轴孔和摄影测量标靶轴孔大小相同，且标靶轴孔直径大小与标靶圆柱体直径相同。

所述的楔形体、全站仪标靶圆柱体、基座均采用铝合金材料制成。

所述的摄影测量标靶圆柱体、圆环体均采用碳素材料制成。

使用者使用一种适用于大尺寸构件的摄影测量长度基准装置时，为了降低误差，选取长度基准时以构件最大长度为优，可以通过固定在基座侧面的薄圆柱体磁铁固定在所测构件的两端，首先，通过极坐标原理，利用全站仪测量两个基准点上对应的全站仪标靶反射片的中心之间的距离，作为长度基准，然后，调换全站仪标靶和摄影测量标靶位置，使用量测相机拍摄出包含构件两端的摄影标志的照片，根据摄影测量原理，结合长度基准，得出摄影测量长度和长度基准的比值，最后，将相差一个比例因子的模型坐标转换为实际大小的模型坐标，根据模型坐标计算得出所需的结果。

附图说明

图1是本实用新型的基座示意图。

图2是本实用新型的全站仪标靶示意图。

图3是本实用新型的摄影测量标靶示意图。

图4是本实用新型的整体结构示意图。

图例说明：1、基座；2、全站仪标靶轴孔；3、摄影测量标靶轴孔；4、一号薄圆柱体体磁贴；5、二号薄圆柱体体磁贴；6、全站仪标靶圆柱体；7、楔形体；8、反射片；9、摄影测量标靶圆柱体；10、圆环体；11、摄影标志。

具体实施方式

以下结合说明书附图和具体优选的实施例对本实用新型作进一步描述。

包括基座1，所述的基座1侧面加工有两个圆形凹槽，两个所述的凹槽中分别固定有一号薄圆柱体磁铁4和二号薄圆柱体磁铁4，所述的基座1顶面开有全站仪标靶轴孔2和摄影测量标靶轴孔3，全站仪标靶和摄影测量标靶分别安装在全站仪标靶轴孔2和摄影测量标靶轴孔3中，所述的全站仪标靶由全站仪标靶圆柱体6、楔形体7和反射片8组成，所述的楔形体7固定连接在全站仪标靶圆柱体6顶端，所述的反射片8固定在楔形体7斜面上，摄影测量标靶由摄影测量标靶圆柱体9、圆环体10和摄影标志11组成，所述的圆环体10固定在摄影测量标靶圆柱体9顶端，所述的摄影标志11固定在圆环体10中心。

本实施例中，一号薄圆柱磁铁4和二号薄圆柱磁铁5规格相同且与圆形凹槽直径相同，同时薄圆柱磁铁的外侧和基座1的表面平齐。

本实施例中，反射片8为半圆形反射片，表面覆盖有漫反射涂层材料。

本实施例中，反射片8圆心与全站仪标靶圆柱体6顶面圆心重合。

本实施例中，摄影标志11为圆形，采用回光反射材料制成。

本实施例中，摄影标志11圆心与摄影测量标靶圆柱体9圆心重合。

本实施例中，全站仪标靶圆柱体6和摄影测量标靶圆柱体9尺寸规格相同。

本实施例中，全站仪标靶轴孔2和摄影测量标靶轴孔3大小相同，且标靶轴孔直径大小与标靶圆柱体直径相同。

本实施例中，楔形体7、全站仪标靶圆柱体6、基座1采用铝合金材料制成。

本实施例中，圆环体10、摄影测量标靶圆柱体9均采用碳素材料制成。

使用者使用一种适用于大尺寸构件的摄影测量长度基准装置时，为了降低误差，选取长度基准时以构件最大长度为优，可以通过固定在基座1侧面的薄圆柱体磁铁4固定在所测构件的两端，首先，通过极坐标原理，利用全站仪测量两个基准点上对应的全站仪标靶反射片8的中心之间的距离，作为长度基准，然后，调换全站仪标靶和摄影测量标靶位置，使用量测相机拍摄出包含构件两端的摄影标志11 的照片，根据摄影测量原理，结合长度基准，得出摄影测量长度和长度基准的比值，最后，将相差一个比例因子的模型坐标转换为实际大小的模型坐标，根据模型坐标计算得出所需的结果。

以上仅是本实用新型的优选实施方式，本实用新型的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰，应视为本实用新型的保护范围。

Claims (10)

1.一种适用于大尺寸构件的摄影测量长度基准装置，其特征是：包括基座（1），所述的基座（1）侧面加工有两个圆形凹槽，两个所述的凹槽中分别固定有一号薄圆柱体磁铁（4）和二号薄圆柱体磁铁（4），所述的基座（1）顶面开有全站仪标靶轴孔（2）和摄影测量标靶轴孔（3），全站仪标靶和摄影测量标靶分别安装在全站仪标靶轴孔（2）和摄影测量标靶轴孔（3）中，所述的全站仪标靶由全站仪标靶圆柱体（6）、楔形体（7）和反射片（8）组成，所述的楔形体（7）固定连接在全站仪标靶圆柱体（6）顶端，所述的反射片（8）固定在楔形体（7）斜面上，摄影测量标靶由摄影测量标靶圆柱体（9）、圆环体（10）和摄影标志（11）组成，所述的圆环体（10）固定在摄影测量标靶圆柱体（9）顶端，所述的摄影标志（11）固定在圆环体（10）中心。

2.根据权利要求1所述的一种适用于大尺寸构件的摄影测量长度基准装置，其特征在于：所述的一号薄圆柱磁铁（4）和二号薄圆柱磁铁（5）规格相同且与圆形凹槽直径相同，同时薄圆柱磁铁的外侧和基座（1）的表面平齐。

3.根据权利要求1所述的一种适用于大尺寸构件的摄影测量长度基准装置，其特征在于：所述的反射片（8）为半圆形反射片，表面覆盖有漫反射涂层材料。

4.根据权利要求3所述的一种适用于大尺寸构件的摄影测量长度基准装置，其特征在于：所述的反射片（8）圆心与全站仪标靶圆柱体（6）顶面圆心重合。

5.根据权利要求1所述的一种适用于大尺寸构件的摄影测量长度基准装置，其特征在于：所述的摄影标志（11）为圆形，采用回光反射材料制成。

6.根据权利要求5所述的一种适用于大尺寸构件的摄影测量长度基准装置，其特征在于：所述的摄影标志（11）圆心与摄影测量标靶圆柱体（9）圆心重合。

7.根据权利要求1所述的一种适用于大尺寸构件的摄影测量长度基准装置，其特征在于：所述的全站仪标靶圆柱体（6）和摄影测量标靶圆柱体（9）尺寸规格相同。

8.根据权利要求1所述的一种适用于大尺寸构件的摄影测量长度基准装置，其特征在于：所述的全站仪标靶轴孔（2）和摄影测量标靶轴孔（3）大小相同，且标靶轴孔直径大小与标靶圆柱体直径相同。

9.根据权利要求1所述的一种适用于大尺寸构件的摄影测量长度基准装置，其特征在于：所述的楔形体（7）、全站仪标靶圆柱体（6）、基座（1）均采用铝合金材料制成。

10.根据权利要求1所述的一种适用于大尺寸构件的摄影测量长度基准装置，其特征在于：所述的圆环体（10）、摄影测量标靶圆柱体（9）均采用碳素材料制成。