CN205687999U - 一种用于蒸镀oled显示面板的掩模板 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开一种用于蒸镀OLED显示面板的掩模板，所述掩模板包括底板，所述底板包括ITO面和连接面，所述底板上设有贯穿ITO面和连接面的蒸镀孔，在所述连接面上设有至少一层掩模板层，各掩模板层设有开口，掩模板层的开口的尺寸随着掩模板层与底板的距离扩大而扩大，所述蒸镀孔与各掩模板层的开口相连通形成阶梯形通孔，与ITO面距离最远的掩模板层的平面为蒸镀面，所述蒸镀面上设有的纳米层,所述蒸镀孔的尺寸小于所述掩模板层的开口的尺寸，这样可以非常方便的将底板和掩模板层做的更薄，多层掩模板层叠加可以非常好的保证掩模板的强度，如此在保证蒸镀孔的具有较小高宽比的前提下，进一步将蒸镀孔的宽度尺寸做的更小。

Description

一种用于蒸镀OLED显示面板的掩模板

技术领域

本实用新型涉及有机发光二极管显示领域，更具体的说，涉及一种用于蒸镀OLED显示面板的掩模板。

背景技术

由于有机电致发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)同时具备自发光、不需背光源、对比度高、厚度薄、视角广、反应速度快、可用于挠曲性面板、使用温度范围广、构造及制程较简单等优异之特性，被认为是下一代的平面显示器新兴应用技术。

OLED生产过程中最重要的一环节是将有机层按照驱动矩阵的要求敷涂到基板上，形成关键的发光显示单元。OLED是一种固体材料，高精度涂覆技术的发展是制约OLED产品化的关键。目前完成这一工作，主要采用真空沉积或真空热蒸发(VTE)的方法，其是将位于真空腔体内的有机物分子轻微加热(蒸发)，使得这些分子以薄膜的形式凝聚在温度较低的基板上。在这一过程中需要与OLED发光显示单元精度相适应的高精密掩模板作为媒介。

现有技术中蒸镀用掩模板的由于受到材料的限制，如图2所示，其厚度h(一般h大于60μm)左右，而蒸镀的有机材料膜厚只在100nm左右，掩模板上的蒸镀孔的尺寸d1最小可以是10μm左右，这样较大的高宽比(h/d1)的开口使得蒸镀孔的侧壁势必会在蒸镀过程中产生遮挡，影响蒸镀层的均匀性，降低蒸镀质量，增加了制造成本。而且若制作大尺寸掩模板，金属制造的掩模板会具有较大的质量，从而会导致掩模板的板面产生下垂(即板面中间会出现下凹现象)，这对精度要求较高的掩模蒸镀过程是不利的。鉴于此，业内亟需一种能够解决此问题的方案。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种提高蒸镀质量的用于蒸镀OLED显示面板的掩模板。

本实用新型的目的是通过以下技术方案来实现的：

一种用于蒸镀OLED显示面板的掩模板，所述掩模板包括底板，所述底板包括ITO面和连接面，所述底板上设有贯穿ITO面和连接面的蒸镀孔，在所述连接面上设有至少一层掩模板层，各掩模板层设有开口，掩模板层的开口的尺寸随着掩模板层与底板的距离扩大而扩大，所述蒸镀孔与各掩模板层的开口相连通形成阶梯形通孔，与ITO面距离最远的掩模板层的平面为蒸镀面，所述蒸镀面上设有的纳米层,所述蒸镀孔的尺寸小于所述掩模板层的开口的尺寸。

进一步的，所述掩模板包括蒸镀区和定位区，所述蒸镀孔和所述阶梯形通孔设在所述蒸镀区内，所述定位区内设有定位孔。这样，掩模板上的蒸镀区和定位区的区分，能够有效的限定在掩模板上的用来蒸镀的区域，使得蒸镀操作非常的方便简单，蒸镀孔和阶梯形通孔设在蒸镀区内,很好的提高蒸镀的效率，使得蒸镀的时间有效的减少，从而非常好的提高了OLED显示面板的产量,而且可以很好的减小蒸镀面积，不需要在整个掩模板上进行蒸镀操作，非常有效的节约蒸镀用的有机物分子材料，大大降低了OLED显示面板的制造成本；通过定位区内设置的定位孔可以非常方便的将掩模板固定，将掩模板的ITO面与ITO玻璃基板紧密贴紧，使得有机材料非常好的通过阶梯形通孔蒸镀到ITO玻璃基板上，同时定位孔非常稳固的对掩模板进行限位，有效的防止掩模板的位移，使得蒸镀质量进一步的提高。

进一步的，所述阶梯形通孔的内壁设有所述纳米层。这样，纳米层设在阶梯形通孔的内壁，使得阶梯形通孔的内壁更加的光滑，从而有利于蒸镀用的有机物分子干燥后脱模；而且纳米层能够非常有效的提高阶梯形通孔内壁的硬度，使得阶梯形通孔的内壁与ITO面的夹角位置更加的坚固，非常的不容易变形，从而蒸镀用的有机物分子能够更好的定型，大大提高了掩模板的蒸镀质量；同时纳米层也具有一定的排斥作用，能够有效的减少有机物分子在阶梯形通孔的内壁的残留，从而大大减少阶梯形通孔的清洗，提高了组装生产的效率，使得OLED显示面板制造效率进一步的提高。

进一步的，所述ITO面设有所述纳米层。这样，纳米层设在ITO面，使得ITO面更加的光滑，从而使得ITO面可以更好的与ITO玻璃基板进行紧密的贴合，进一步的提高了掩模板的蒸镀质量；而且ITO面设置纳米层能够进一步提高掩模板的硬度，同时使得整个掩模板的强度和韧性得到了很大的提升，从而让掩模板更加的耐磨，更加的不容易变形，大大提高掩模板的重复使用次数，即大大的提高了金属掩模板的使用寿命，降低了的电子组装的成本；同时非常有效的改善掩模板的板面产生下垂，大大提高了掩模板的蒸镀质量。

进一步的，所述掩模板采用不锈钢、因瓦合金、纯镍或镍合金材料制成。这样，采用不锈钢、因瓦合金、纯镍或镍合金材料制作掩模板，可以很好的保证掩模板的强度和硬度，使得掩模板可以更好的被应用到蒸镀操作中；而且采用不锈钢、因瓦合金、纯镍或镍合金材料制成的掩模板具有一定的磁性，在后期应用过程中，可被ITO玻璃基板背后的磁性吸附设备吸附，可进一步减小掩模板的下垂量；同时不锈钢、因瓦合金、纯镍或镍合金材料的价格便宜，便于大批量生产、节约生产成本及提高生产效率。

进一步的，所述阶梯形通孔在所述蒸镀区上均匀设置多个，所述阶梯形通孔之间设有连接部。这样，均匀设置多个阶梯形通孔在蒸镀区上，能够非常有效的提高蒸镀的效率，使得OLED显示面板的产量可以进一步的提高，均匀设置的阶梯形通孔使得蒸镀的效果更好，从而使得OLED显示面板的使用寿命更长；连接部能够更好的对阶梯形通孔之间进行连接和加固，有效的提高掩模板在蒸镀区的强度和韧性，使得阶梯形通孔可以更加高效的进行蒸镀工作，从而提高蒸镀质量，使得OLED显示面板可以更加高效的工作。

进一步的，所述掩模板层采用蚀刻或电铸或激光切割工艺制备。这样，蚀刻是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术，通过蚀刻的工艺能够非常精准的在掩模板层上进行开孔操作，使得各掩模板层的开口非常的规则均匀，从而能更好的满足蒸镀的要求；电铸是利用金属的电解沉积原理来精确复制某些复杂或特殊形状工件的特种加工方法，通过电铸的工艺能够非常方便的将掩模板层很好的电铸在底板上，使得掩模板层与底板的结合非常的牢固，从而非常好的满足蒸镀的要求；激光切割是利用高功率密度激光束照射被切割材料，使材料很快被加热至汽化温度，蒸发形成孔洞，通过激光切割的工艺能够非常精准的在掩模板层上进行开孔操作，而且开孔的速度快、精度高，非常方便掩模板层的批量生产制造，同时激光切割的工艺非常的清洁、安全、无污染，非常的有利于环境保护。

进一步的，所述纳米层为碳化钛膜。这样，纳米层使用碳化钛膜非常有效的对掩模板的硬度进行提高，同时掩模板强度和韧性的提高，让掩模板耐磨不易变形，大大提高掩模板的重复使用次数，即大大的提高了金属掩模板的使用寿命，降低了的电子组装的成本；而且碳化钛膜也具有一定的排斥作用，能够有效的减少有机物分子在掩模板上的残留，从而大大减少掩模板的清洗，提高了组装生产的效率，使得OLED显示面板制造效率进一步的提高。

进一步的，所述纳米层为氮化钛膜。这样，纳米层使用氮化钛膜非常有效的对掩模板的硬度进行提高，同时掩模板强度和韧性的提高，让掩模板耐磨不易变形，大大提高掩模板的重复使用次数，即大大的提高了金属掩模板的使用寿命，降低了的电子组装的成本；而且氮化钛膜也具有一定的排斥作用，能够有效的减少有机物分子在掩模板上的残留，从而大大减少掩模板的清洗，提高了组装生产的效率，使得OLED显示面板制造效率进一步的提高。

进一步的，所述纳米层为氮化铬膜。这样，纳米层使用氮化铬非常有效的对掩模板的硬度进行提高，同时掩模板强度和韧性的提高，让掩模板耐磨不易变形，大大提高掩模板的重复使用次数，即大大的提高了金属掩模板的使用寿命，降低了的电子组装的成本；而且氮化铬也具有一定的排斥作用，能够有效的减少有机物分子在掩模板上的残留，从而大大减少掩模板的清洗，提高了组装生产的效率，使得OLED显示面板制造效率进一步的提高。

本实用新型由于掩模板通过底板和至少一层掩模板层制作而成，这样可以非常方便的将底板和掩模板层做的更薄，多层掩模板层叠加可以非常好的保证掩模板的强度，如此在保证蒸镀孔的具有较小高宽比的前提下，进一步将蒸镀孔的宽度尺寸做的更小，从而保证了更好的蒸镀效果，提高了有机材料的成膜率，提高了蒸镀薄膜的均匀度，使得形成的最终掩模板能够蒸镀形成分辨率更高的OLED产品；而且这种通过多层掩模板层的叠加形成阶梯形通孔，可以简单有效的有效的解决蒸镀口的内壁在蒸镀过程中的遮挡，加工方法非常的简单易操作，从而保证低成本生产出非常高质量的OLED显示面板；蒸镀面上纳米层非常有效的对掩模板的硬度进行提高，非常有效的改善掩模板的板面产生下垂，同时掩模板强度和韧性的提高，让掩模板耐磨不易变形，大大提高了掩模板的蒸镀质量，大大提高掩模板的重复使用次数，降低了的电子组装的成本；而且纳米层也具有一定的排斥作用，能够有效的减少有机物分子在掩模板上的残留，从而大大减少掩模板的清洗，提高了组装生产的效率，使得OLED显示面板制造效率进一步的提高；现在我们将掩模板的厚度降低到小于60μm，由于纳米层的设置能够非常有效的提高掩模板的硬度，因此我们可以克服现有技术中材料的限制，由于蒸镀孔开设在弧形槽内，这样就可以非常好的将蒸镀孔的开口的尺寸与掩模板厚度比值减小，即背景技术中提到的高宽比，较小的高宽比与这种弧形槽内开设蒸镀孔的设置，能够更加有效的解决蒸镀口的内壁在蒸镀过程中的遮挡，从而可以非常好的满足高质量的蒸镀过程，大大的提高了蒸镀的质量，使得OLED显示面板的分辨率更高。

附图说明

图1是本实用新型实施例的掩模板的结构示意图；

图2是本实用新型现有技术的沿图1中A-A方向的剖面放大图；

图3是本实用新型实施例的沿图1中A-A方向的剖面放大图；

图4是本实用新型实施例的沿图1中I区域的放大示意图。

其中：1、掩模板，11、底板，111、ITO面，112、连接面，12、掩模板层，121、蒸镀面，13、蒸镀孔，14、纳米层，15、蒸镀区，16、定位区，161、定位孔，17、连接部，18、阶梯形通孔。

具体实施方式

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“横向”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。另外，术语“包括”及其任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

下面结合附图和较佳的实施例对本实用新型作进一步说明。

如图1至图4所示，本实施例公开一种用于蒸镀OLED显示面板的掩模板，掩模板1包括底板11，底板11包括ITO面111和连接面112，底板11上设有贯穿ITO面111和连接面112的蒸镀孔13，在连接面112上设有至少一层掩模板层12，各掩模板层12设有开口，掩模板层12的开口的尺寸随着掩模板层12与底板11的距离扩大而扩大，蒸镀孔13与各掩模板层12的开口相连通形成阶梯形通孔18，与ITO面111距离最远的掩模板层12的平面为蒸镀面121，蒸镀面121上设有的纳米层14,蒸镀孔13的尺寸小于掩模板层12的开口的尺寸，示例的，如图3所示d2>d1，掩模板1通过底板11和至少一层掩模板层12制作而成，这样可以非常方便的将底板11和掩模板层12做的更薄，多层掩模板层12叠加可以非常好的保证掩模板1的强度，如此在保证蒸镀孔13的具有较小高宽比的前提下，进一步将蒸镀孔13的宽度尺寸做的更小，从而保证了更好的蒸镀效果，提高了有机材料的成膜率，提高了蒸镀薄膜的均匀度，使得形成的最终掩模板1能够蒸镀形成分辨率更高的OLED产品；而且这种通过多层掩模板层12的叠加形成阶梯形通孔18，可以简单有效的有效的解决蒸镀口的内壁在蒸镀过程中的遮挡，加工方法非常的简单易操作，从而保证低成本生产出非常高质量的OLED显示面板；蒸镀面121上纳米层14非常有效的对掩模板1的硬度进行提高，非常有效的改善掩模板1的板面产生下垂，同时掩模板1强度和韧性的提高，让掩模板1耐磨不易变形，大大提高了掩模板1的蒸镀质量，大大提高掩模板1的重复使用次数，降低了的电子组装的成本；而且纳米层14也具有一定的排斥作用，能够有效的减少有机物分子在掩模板1上的残留，从而大大减少掩模板1的清洗，提高了组装生产的效率，使得OLED显示面板制造效率进一步的提高；现在我们将掩模板1的厚度降低到小于60μm，掩模板1的厚度为10-60μm，作为其中的优选方案，掩模板1厚度h为10μm或20μm或30μm或40μm或50μm，由于纳米层14的设置能够非常有效的提高掩模板1的硬度，因此我们可以克服现有技术中材料的限制，由于蒸镀孔13开设在弧形槽内，这样就可以非常好的将蒸镀孔13的开口的尺寸与掩模板1厚度比值减小，即背景技术中提到的高宽比，较小的高宽比与这种弧形槽内开设蒸镀孔13的设置，能够更加有效的解决蒸镀口的内壁在蒸镀过程中的遮挡，从而可以非常好的满足高质量的蒸镀过程，大大的提高了蒸镀的质量，使得OLED显示面板的分辨率更高。

掩模板1包括蒸镀区15和定位区16，掩模板1上的蒸镀区15和定位区16的区分，能够有效的限定在掩模板1上的用来蒸镀的区域，使得蒸镀操作非常的方便简单；蒸镀孔13和阶梯形通孔18设在蒸镀区15内，蒸镀孔13和阶梯形通孔18设在蒸镀区15内,很好的提高蒸镀的效率，使得蒸镀的时间有效的减少，从而非常好的提高了OLED显示面板的产量,而且可以很好的减小蒸镀面积，不需要在整个掩模板1上进行蒸镀操作，非常有效的节约蒸镀用的有机物分子材料，大大降低了OLED显示面板的制造成本；定位区16内设有定位孔161，通过定位区16内设置的定位孔161可以非常方便的将掩模板1固定，将掩模板1的ITO面111与ITO玻璃基板紧密贴紧，使得有机材料非常好的通过阶梯形通孔18蒸镀到ITO玻璃基板上，同时定位孔161非常稳固的对掩模板1进行限位，有效的防止掩模板1的位移，使得蒸镀质量进一步的提高；掩模板1的形状为四边形，定位区16沿四边形的掩模板1边缘设置，这样可以非常好的提高掩模板1的利用率，使得掩模板1的蒸镀质量更高。

阶梯形通孔18的内壁设有纳米层14，阶梯形通孔18的内壁的表面粗糙度为0.3-0.6μm，纳米层14设在阶梯形通孔18的内壁，使得阶梯形通孔18的内壁更加的光滑，从而有利于蒸镀用的有机物分子干燥后脱模；而且纳米层14能够非常有效的提高阶梯形通孔18内壁的硬度，使得阶梯形通孔18的内壁与ITO面111的夹角位置更加的坚固，非常的不容易变形，从而蒸镀用的有机物分子能够更好的定型，大大提高了掩模板1的蒸镀质量；同时纳米层14也具有一定的排斥作用，能够有效的减少有机物分子在阶梯形通孔18的内壁的残留，从而大大减少阶梯形通孔18的清洗，提高了组装生产的效率，使得OLED显示面板制造效率进一步的提高。

ITO面111设有纳米层14，纳米层14设在ITO面111，使得ITO面111更加的光滑，从而使得ITO面111可以更好的与ITO玻璃基板进行紧密的贴合，进一步的提高了掩模板1的蒸镀质量；而且ITO面111设置纳米层14能够进一步提高掩模板1的硬度，同时使得整个掩模板1的强度和韧性得到了很大的提升，从而让掩模板1更加的耐磨，更加的不容易变形，大大提高掩模板1的重复使用次数，即大大的提高了金属掩模板1的使用寿命，降低了的电子组装的成本；同时非常有效的改善掩模板1的板面产生下垂，大大提高了掩模板1的蒸镀质量。

掩模板1采用不锈钢、因瓦合金、纯镍或镍合金材料制成，其优选材料为具有较小热膨胀系数的因瓦合金，使得掩模板1在蒸镀过程中具有较好的稳定性，采用不锈钢、因瓦合金、纯镍或镍合金材料制作掩模板1，可以很好的保证掩模板1的强度和硬度，使得掩模板1可以更好的被应用到蒸镀操作中；而且采用不锈钢、因瓦合金、纯镍或镍合金材料制成的掩模板1具有一定的磁性，在后期应用过程中，可被ITO玻璃基板背后的磁性吸附设备吸附，可进一步减小掩模板1的下垂量；同时不锈钢、因瓦合金、纯镍或镍合金材料的价格便宜，便于大批量生产、节约生产成本及提高生产效率。

阶梯形通孔18在蒸镀区15上均匀设置多个，均匀设置多个阶梯形通孔18在蒸镀区15上，能够非常有效的提高蒸镀的效率，使得OLED显示面板的产量可以进一步的提高，均匀设置的阶梯形通孔18使得蒸镀的效果更好，从而使得OLED显示面板的使用寿命更长；阶梯形通孔18之间设有连接部17，连接部17能够更好的对阶梯形通孔18之间进行连接和加固，有效的提高掩模板1在蒸镀区15的强度和韧性，使得阶梯形通孔18可以更加高效的进行蒸镀工作，从而提高蒸镀质量，使得OLED显示面板可以更加高效的工作。

掩模板层12采用蚀刻或电铸或激光切割工艺制备，蚀刻是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术，通过蚀刻的工艺能够非常精准的在掩模板层12上进行开孔操作，使得各掩模板层12的开口非常的规则均匀，从而能更好的满足蒸镀的要求；电铸是利用金属的电解沉积原理来精确复制某些复杂或特殊形状工件的特种加工方法，通过电铸的工艺能够非常方便的将掩模板层12很好的电铸在底板11上，使得掩模板层12与底板11的结合非常的牢固，从而非常好的满足蒸镀的要求；激光切割是利用高功率密度激光束照射被切割材料，使材料很快被加热至汽化温度，蒸发形成孔洞，通过激光切割的工艺能够非常精准的在掩模板层12上进行开孔操作，而且开孔的速度快、精度高，非常方便掩模板层12的批量生产制造，同时激光切割的工艺非常的清洁、安全、无污染，非常的有利于环境保护。

纳米层14为碳化钛膜，纳米层14使用碳化钛膜非常有效的对掩模板1的硬度进行提高，同时掩模板1强度和韧性的提高，让掩模板1耐磨不易变形，大大提高掩模板1的重复使用次数，即大大的提高了金属掩模板1的使用寿命，降低了的电子组装的成本；而且碳化钛膜也具有一定的排斥作用，能够有效的减少有机物分子在掩模板1上的残留，从而大大减少掩模板1的清洗，提高了组装生产的效率，使得OLED显示面板制造效率进一步的提高。

纳米层14为氮化钛膜，纳米层14使用氮化钛膜非常有效的对掩模板1的硬度进行提高，同时掩模板1强度和韧性的提高，让掩模板1耐磨不易变形，大大提高掩模板1的重复使用次数，即大大的提高了金属掩模板1的使用寿命，降低了的电子组装的成本；而且氮化钛膜也具有一定的排斥作用，能够有效的减少有机物分子在掩模板1上的残留，从而大大减少掩模板1的清洗，提高了组装生产的效率，使得OLED显示面板制造效率进一步的提高。

纳米层14为氮化铬膜，纳米层14使用氮化铬非常有效的对掩模板1的硬度进行提高，同时掩模板1强度和韧性的提高，让掩模板1耐磨不易变形，大大提高掩模板1的重复使用次数，即大大的提高了金属掩模板1的使用寿命，降低了的电子组装的成本；而且氮化铬也具有一定的排斥作用，能够有效的减少有机物分子在掩模板1上的残留，从而大大减少掩模板1的清洗，提高了组装生产的效率，使得OLED显示面板制造效率进一步的提高。

以上内容是结合具体的优选实施方式对本实用新型所作的进一步详细说明，不能认定本实用新型的具体实施只局限于这些说明。对于本实用新型所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干简单推演或替换，都应当视为属于本实用新型的保护范围。

Claims (10)

1.一种用于蒸镀OLED显示面板的掩模板，其特征在于，所述掩模板包括底板，所述底板包括ITO面和连接面，所述底板上设有贯穿ITO面和连接面的蒸镀孔，在所述连接面上设有至少一层掩模板层，各掩模板层设有开口，掩模板层的开口的尺寸随着掩模板层与底板的距离扩大而扩大，所述蒸镀孔与各掩模板层的开口相连通形成阶梯形通孔，与ITO面距离最远的掩模板层的平面为蒸镀面，所述蒸镀面上设有的纳米层,所述蒸镀孔的尺寸小于所述掩模板层的开口的尺寸。

2.根据权利要求1所述的一种用于蒸镀OLED显示面板的掩模板，其特征在于，所述掩模板包括蒸镀区和定位区，所述蒸镀孔和所述阶梯形通孔设在所述蒸镀区内，所述定位区内设有定位孔。

3.根据权利要求2所述的一种用于蒸镀OLED显示面板的掩模板，其特征在于，所述阶梯形通孔的内壁设有所述纳米层。

4.根据权利要求2所述的一种用于蒸镀OLED显示面板的掩模板，其特征在于，所述ITO面设有所述纳米层。

5.根据权利要求2所述的一种用于蒸镀OLED显示面板的掩模板，其特征在于，所述掩模板采用不锈钢、因瓦合金、纯镍或镍合金材料制成。

6.根据权利要求2所述的一种用于蒸镀OLED显示面板的掩模板，其特征在于，所述阶梯形通孔在所述蒸镀区上均匀设置多个，所述阶梯形通孔之间设有连接部。

7.根据权利要求1至6任一所述的一种用于蒸镀OLED显示面板的掩模板，其特征在于，所述掩模板层采用蚀刻或电铸或激光切割工艺制备。

8.根据权利要求7所述的一种用于蒸镀OLED显示面板的掩模板，其特征在于，所述纳米层为碳化钛膜。

9.根据权利要求7所述的一种用于蒸镀OLED显示面板的掩模板，其特征在于，所述纳米层为氮化钛膜。

10.根据权利要求7所述的一种用于蒸镀OLED显示面板的掩模板，其特征在于，所述纳米层为氮化铬膜。