CN205518772U - 一种铜箔清洗烘干装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种铜箔清洗烘干装置；属于铜箔清洗设备技术领域；其技术要点包括箱体，在箱体两侧分别设有进料口和出料口，所述箱体进料口侧边设有清洗机构；所述箱体上下两侧分别设有上气源和下气源；所述上、下气源分别导通连接有上气管和下气管；在上气管下端设有若干上喷嘴；在下气管上端设有若干下喷嘴；上喷嘴和下喷嘴呈交错分布；所述上、下气源与控制单元连接；本实用新型旨在提供一种使用方便、效果良好的铜箔清洗烘干装置；用于清洗、烘干铜箔。

Description

一种铜箔清洗烘干装置

技术领域

本实用新型涉及一种铜箔清洗烘干装置，更具体地说，尤其涉及一种铜箔清洗烘干装置。

背景技术

铜箔在剪切时，容易在铜箔上产生铜粉或者铜屑，而这些铜粉或者铜屑会对铜箔的使用产生严重的影响，例如在锂电池的生产中，铜粉会在锂电池阴阳极之间的隔膜形成短路，使锂电池的电化学性能受到严重的影响。一般的铜箔铜粉清除方式是采用人工法，工人用清洁布或粘尘纸对铜箔进行擦拭处理，容易损坏铜箔的同时，还存在清理不彻底、效率低下、费时费力等缺点。

实用新型内容

本实用新型的目的在于针对上述现有技术的不足，提供一种使用方便、效果良好的铜箔清洗烘干装置。

本实用新型的技术方案是这样实现的：一种铜箔清洗烘干装置，包括箱体，在箱体两侧分别设有进料口和出料口，所述箱体进料口侧边设有清洗机构；所述箱体上下两侧分别设有上气源和下气源；所述上、下气源分别导通连接有上气管和下气管；在上气管下端设有若干上喷嘴；在下气管上端设有若干下喷嘴；上喷嘴和下喷嘴呈交错分布；所述上、下气源与控制单元连接。

上述的一种铜箔清洗烘干装置中，所述上气管下端分叉成若干上支管，各上喷嘴对应设在上支管下端；所述下气管上端分叉成若干下支管，各下喷嘴对应设在下支管上端。

上述的一种铜箔清洗烘干装置中，在上支管侧边设有上隔板，在上隔板上设有若干与上支管一一对应的第一通孔，所述上支管下端穿过对应的第一通孔并延伸至上隔板下侧；在上隔板上分布有若干第一透气孔；上隔板上端面与壳体内壁之间配合形成第一气体回收通道，所述第一气体回收通道与上气源回收接口导通连接。

上述的一种铜箔清洗烘干装置中，在下支管侧边设有下隔板，在下隔板上设有若干与下支管一一对应的第二通孔，所述下支管上端穿过对应的第二通孔并延伸至下隔板上侧；在下隔板上分布有若干第二透气孔；下隔板下端面与壳体内壁之间配合形成第二气体回收通道，所述第二气体回收通道与下气源回收接口导通连接。

上述的一种铜箔清洗烘干装置中，所述清洗机构主要由沿水平方向设置的挤压辊以及若干导向辊组成；在导向辊下侧设有清洗池，在清洗池内设置至少一个导向辊；在清洗池上侧的铜箔两侧均设有清洗喷头。

本实用新型采用上述结构后，通过清洗机构清洗掉铜箔上的铜粉，再通过上、下气源将铜箔烘干，极大地提高了铜箔的清理效率，同时也提高了清洗的效果；上、下气源烘干时不与铜箔接触，使铜箔不容易发生打折、损伤；采用清洗喷头清洗的方式，不容易损伤铜箔表面；交错分布的喷嘴使铜箔呈正弦波形前进，延长铜箔在箱体内的烘干时间，增强烘干效果。

附图说明

下面结合附图中的实施例对本实用新型作进一步的详细说明，但并不构成对本实用新型的任何限制。

图1是本实用新型的结构示意图；

图2是上隔板的结构示意图。

图中：箱体1、清洗机构2、挤压辊2a、导向辊2b、清洗池2c、清洗喷头2d、上气源3、下气源4、上气管5、上支管5a、下气管6、下支管6a、上喷嘴7、下喷嘴8、上隔板9、第一通孔9a、第一透气孔9b、第一气体回收通道10、下隔板11、第二气体回收通道12。

具体实施方式

参阅图1和图2所示，本实用新型的一种铜箔清洗烘干装置，包括箱体1，在箱体1两侧分别设有进料口和出料口，所述箱体1进料口侧边设有清洗机构2；优选的，所述清洗机构2主要由沿水平方向设置的挤压辊2a以及若干导向辊2b组成；在导向辊2b下侧设有清洗池2c，在清洗池2c内设置至少一个导向辊2b；在清洗池2c上侧的铜箔两侧均设有清洗喷头2d。两侧的清洗喷头2d同时喷出清洗液体对铜箔进行清洗，清洗后的带铜粉液体滴落在清洗池2c内。

同时，所述箱体1上下两侧分别设有上气源3和下气源4；所述上、下气源3,4分别导通连接有上气管5和下气管6；在上气管5下端设有若干上喷嘴7；在下气管6上端设有若干下喷嘴8；上喷嘴7和下喷嘴8呈交错分布；所述上、下气源3,4与控制单元连接。优选的，所述上气管5下端分叉成若干上支管5a，各上喷嘴7对应设在上支管5a下端；所述下气管6上端分叉成若干下支管6a，各下喷嘴8对应设在下支管6a上端。采用这种结构，上、下喷嘴7,8吹出的气体使铜箔呈正弦波形前进，延长铜箔在箱体1内的烘干时间，增强铜箔的烘干效果。

为了对气体进行回收利用，在上支管5a侧边设有上隔板9，在上隔板9上设有若干与上支管5a一一对应的第一通孔9a，所述上支管5a下端穿过对应的第一通孔9a并延伸至上隔板9下侧；在上隔板9上分布有若干第一透气孔9b；上隔板9上端面与箱体1内壁之间配合形成第一气体回收通道10，所述第一气体回收通道10与上气源3回收接口导通连接。在下支管6a侧边设有下隔板11，在下隔板11上设有若干与下支管6a一一对应的第二通孔，所述下支管6a上端穿过对应的第二通孔并延伸至下隔板11上侧；在下隔板11上分布有若干第二透气孔；下隔板11下端面与壳体内壁之间配合形成第二气体回收通道12，所述第二气体回收通道12与下气源4回收接口导通连接。采用这种结构，上喷嘴7喷出的气体穿过第二透气孔、第二气体回收通道12后由下气源4回收；下喷嘴8喷出的气体穿过第一透气孔9b、第一气体回收通道10后由上气源3回收。

使用时，铜箔在清洗机构2处除去铜粉，然后进入箱体1内进行烘干。

以上所举实施例为本实用新型的较佳实施方式，仅用来方便说明本实用新型，并非对本实用新型作任何形式上的限制，任何所属技术领域中具有通常知识者，若在不脱离本实用新型所提技术特征的范围内，利用本实用新型所揭示技术内容所作出局部更动或修饰的等效实施例，并且未脱离本实用新型的技术特征内容，均仍属于本实用新型技术特征的范围内。

Claims (5)

1.一种铜箔清洗烘干装置，包括箱体(1)，在箱体(1)两侧分别设有进料口和出料口，其特征在于，所述箱体(1)进料口侧边设有清洗机构(2)；所述箱体(1)上下两侧分别设有上气源(3)和下气源(4)；所述上、下气源(3,4)分别导通连接有上气管(5)和下气管(6)；在上气管(5)下端设有若干上喷嘴(7)；在下气管(6)上端设有若干下喷嘴(8)；上喷嘴(7)和下喷嘴(8)呈交错分布；所述上、下气源(3,4)与控制单元连接。

2.根据权利要求1所述的一种铜箔清洗烘干装置，其特征在于，所述上气管(5)下端分叉成若干上支管(5a)，各上喷嘴(7)对应设在上支管(5a)下端；所述下气管(6)上端分叉成若干下支管(6a)，各下喷嘴(8)对应设在下支管(6a)上端。

3.根据权利要求1所述的一种铜箔清洗烘干装置，其特征在于，在上支管(5a)侧边设有上隔板(9)，在上隔板(9)上设有若干与上支管(5a)一一对应的第一通孔(9a)，所述上支管(5a)下端穿过对应的第一通孔(9a)并延伸至上隔板(9)下侧；在上隔板(9)上分布有若干第一透气孔(9b)；上隔板(9)上端面与箱体(1)内壁之间配合形成第一气体回收通道(10)，所述第一气体回收通道(10)与上气源(3)回收接口导通连接。

4.根据权利要求1所述的一种铜箔清洗烘干装置，其特征在于，在下支管(6a)侧边设有下隔板(11)，在下隔板(11)上设有若干与下支管(6a)一一对应的第二通孔，所述下支管(6a)上端穿过对应的第二通孔并延伸至下隔板(11)上侧；在下隔板(11)上分布有若干第二透气孔；下隔板(11)下端面与壳体()内壁之间配合形成第二气体回收通道(12)，所述第二气体回收通道(12)与下气源(4)回收接口导通连接。

5.根据权利要求1所述的一种铜箔清洗烘干装置，其特征在于，所述清洗机构(2)主要由沿水平方向设置的挤压辊(2a)以及若干导向辊(2b)组成；在导向辊(2b)下侧设有清洗池(2c)，在清洗池(2c)内设置至少一个导向辊(2b)；在清洗池(2c)上侧的铜箔两侧均设有清洗喷头(2d)。