CN204638624U - 一种硅片清洗设备 - Google Patents

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洪育林
张震
安冠宇
李文文
刘凯
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Abstract

本实用新型实施例公开了一种硅片清洗设备,该硅片清洗设备包括清洗机;放置硅片的水槽,与清洗机连接;将硅片由水槽转移至清洗机的机械手臂,机械手臂设置于清洗机或水槽上,或与清洗机以及水槽间隔设置。实施本实用新型实施例,具有如下有益效果:本实用新型的硅片清洗设备将水槽与清洗机连接,使其与清洗机成为一体,让机械手臂直接从水槽中将硅片移动至清洗机中,免去了人工操作,节约了人力;并且,还可以防止硅片在清洗之前接触空气,从而使清洗效果更好。

Description

一种硅片清洗设备
技术领域
本实用新型涉及一种清洗设备,尤其涉及一种硅片清洗设备。
背景技术
在硅片生产中清洗硅片时,硅片清洗机前段通常会放置1个水槽用来放置不锈钢清洗篮,在硅片清洗机前段与该水槽中间放置一上料台。在清洗过程中,通过人工将盛满硅片片盒的不锈钢清洗篮放入上料台,等待机械手吊走进入清洗机槽中。此种工序装置存在明显不足,在将硅片放入不锈钢清洗篮中后,还需要人工将不锈钢清洗篮从水槽放置到上料台上,浪费了人力。另外,放置上料台后,硅片表面的水会逐渐流失,如若员工放置过早,会造成硅片接触空气,产生氧化等化学物理作用,导致后续清洗不良。
实用新型内容
本实用新型实施例所要解决的问题在于,针对现有工序中需要人工将不锈钢清洗篮从水槽放置到上料台上,造成人力浪费的问题,并且还容易导致清洗效果不良,提出了一种硅片清洗设备。
为了解决上述问题,本实用新型实施例提供了一种硅片清洗设备,该硅片清洗设备包括:清洗机;放置硅片的水槽,与所述清洗机连接;将所述硅片由所述水槽转移至所述清洗机的机械手臂,所述机械手臂设置于所述清洗机或所述水槽上,或与所述清洗机以及所述水槽间隔设置。
其中,硅片清洗设备进一步包括塑料片盒,塑料片盒设置于水槽中,用于承装硅片,机械手臂移动塑料片盒从而移动硅片。
其中,硅片清洗设备进一步包括不锈钢清洗篮,不锈钢清洗篮设置于水槽中,用于承装塑料片盒,机械手臂移动不锈钢清洗篮从而移动塑料片盒。
其中,清洗机包括依次设置的纯水清洗槽、加清洗剂清洗槽、纯水漂洗槽和烘干隧道,纯水清洗槽远离加清洗剂清洗槽的一端连接水槽。
其中,纯水清洗槽包括依次设置的第一纯水清洗槽和第二纯水清洗槽;加清洗剂清洗槽包括依次设置的第一加清洗剂清洗槽和第二加清洗剂清洗槽;纯水漂洗槽包括依次设置的第一纯水漂洗槽、第二纯水漂洗槽和第三纯水漂洗槽;第一纯水清洗槽连接水槽,第二纯水清洗槽连接第一加清洗剂清洗槽,第二加清洗剂清洗槽连接第一纯水漂洗槽,第三纯水漂洗槽连接烘干隧道。
实施本实用新型实施例,具有如下有益效果:本实用新型的硅片清洗设备将水槽与清洗机连接,使其与清洗机成为一体,让机械手臂直接从水槽中将硅片移动至清洗机中,免去了人工操作,节约了人力;并且,还可以防止硅片在清洗之前接触空气,从而使清洗效果更好。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本实用新型提供的硅片清洗设备的实施例的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
请参见图1,图1是本实用新型提供的硅片清洗设备的实施例的结构示意图。在本实施例中,硅片清洗设备包括机械手臂10、水槽20、不锈钢清洗篮21、塑料片盒22以及清洗机30。
机械手臂10用于将硅片由水槽20转移至清洗机30。在本实施例中,机械 手臂10包括移动轨道11、手臂支架12以及抓取机械手13。移动轨道11间隔于清洗机30以及水槽20设置,手臂支架12一端与移动轨道11移动连接,另一端连接机械手13。机械手13负责进行抓取,手臂支架12与移动轨道11相配合,从而移动机械手13。因此,在本实施例中,机械手臂10间隔于清洗机30以及水槽20设置。在其它实施例中,机械手臂10还可设置于清洗机30上或者水槽20上,但本实施例中的实施方式较为优选。
清洗机30包括依次连接的纯水洗槽31、加清洗剂清洗槽32、纯水漂洗槽33和烘干隧道34。纯水洗槽31包括依次连接的第一纯水洗槽311和第二纯水洗槽312,加清洗剂清洗槽32包括依次连接的第一加清洗剂清洗槽321和第二加清洗剂清洗槽322,纯水漂洗槽33包括依次连接的第一纯水漂洗槽331、第二纯水漂洗槽332和第三纯水漂洗槽333。第一纯水洗槽311连接水槽20,第二纯水洗槽312连接第一加清洗剂清洗槽321,第二加清洗剂清洗槽322连接第一纯水漂洗槽331,第三纯水漂洗槽333连接烘干隧道34。
在本实施例中,将装有硅片的塑料片盒22放置在不锈钢清洗篮21中,再将不锈钢清洗篮21放置在水槽20中。水槽20中可同时放置3个不锈钢清洗篮21,以保障了清洗的循环进行。在其它实施例中,塑料片盒22的容量、不锈钢清洗篮21的容量以及水槽20的容量可根据实际情况进行调节。清洗硅片时,机械手臂10直接从水槽20中取走不锈钢清洗篮21,放入纯水洗槽31中清洗。清洗完毕后,机械手臂10再将不锈钢清洗蓝21依次放入加清洗剂清洗槽32和纯水漂洗槽33中进行清洗,最后放入烘干隧道34中烘干。
在其它实施例中,可以不设置不锈钢清洗篮21与塑料片盒22,直接将硅片放置于水槽20中,用机械手臂10进行抓取。或仅设置塑料片盒22,机械手臂10对塑料片盒22进行抓取。 
实施本实用新型实施例,具有如下有益效果:本实用新型的硅片清洗设备将水槽与清洗机连接,使其与清洗机成为一体,让机械手臂直接从水槽中将硅片移动至清洗机中,免去了人工操作,节约了人力;并且,还可以防止硅片在清洗之前接触空气,从而使清洗效果更好。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (5)

1.一种硅片清洗设备,其特征在于,所述硅片清洗设备包括:
清洗机;
放置硅片的水槽,与所述清洗机连接;
将所述硅片由所述水槽转移至所述清洗机的机械手臂,所述机械手臂设置于所述清洗机或所述水槽上,或与所述清洗机以及所述水槽间隔设置。
2.根据权利要求1所述硅片清洗设备,其特征在于,所述硅片清洗设备进一步包括塑料片盒,所述塑料片盒设置于所述水槽中,用于承装所述硅片,所述机械手臂移动所述塑料片盒从而移动所述硅片。
3.根据权利要求2所述硅片清洗设备,其特征在于,所述硅片清洗设备进一步包括不锈钢清洗篮,所述不锈钢清洗篮设置于所述水槽中,用于承装所述塑料片盒,所述机械手臂移动所述不锈钢清洗篮从而移动所述塑料片盒。
4.根据权利要求1所述硅片清洗设备,其特征在于,所述清洗机包括依次设置的纯水清洗槽、加清洗剂清洗槽、纯水漂洗槽和烘干隧道,所述纯水清洗槽远离所述加清洗剂清洗槽的一端连接所述水槽。
5.根据权利要求4所述硅片清洗设备,其特征在于,所述纯水清洗槽包括依次设置的第一纯水清洗槽和第二纯水清洗槽;所述加清洗剂清洗槽包括依次设置的第一加清洗剂清洗槽和第二加清洗剂清洗槽;所述纯水漂洗槽包括依次设置的第一纯水漂洗槽、第二纯水漂洗槽和第三纯水漂洗槽;所述第一纯水清洗槽连接所述水槽,所述第二纯水清洗槽连接所述第一加清洗剂清洗槽,所述第二加清洗剂清洗槽连接所述第一纯水漂洗槽,所述第三纯水漂洗槽连接所述烘干隧道。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106694443A (zh) * 2016-11-30 2017-05-24 北京七星华创电子股份有限公司 硅片清洗的调度方法及调度系统
CN109877098A (zh) * 2019-04-22 2019-06-14 西安奕斯伟硅片技术有限公司 用于清洗硅块的容器、装置及清洗方法
CN115608679A (zh) * 2022-08-20 2023-01-17 浙江艾科半导体设备有限公司 一种硅片清洗机用机械手
WO2024051135A1 (zh) * 2022-09-05 2024-03-14 上海中欣晶圆半导体科技有限公司 一种增强硅片清洗效果的方法

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106694443A (zh) * 2016-11-30 2017-05-24 北京七星华创电子股份有限公司 硅片清洗的调度方法及调度系统
CN109877098A (zh) * 2019-04-22 2019-06-14 西安奕斯伟硅片技术有限公司 用于清洗硅块的容器、装置及清洗方法
CN109877098B (zh) * 2019-04-22 2022-04-15 西安奕斯伟材料科技有限公司 用于清洗硅块的容器、装置及清洗方法
CN115608679A (zh) * 2022-08-20 2023-01-17 浙江艾科半导体设备有限公司 一种硅片清洗机用机械手
CN115608679B (zh) * 2022-08-20 2023-08-15 浙江艾科半导体设备有限公司 一种硅片清洗机用机械手
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