CN207446849U - 保持硅片后续工位洁净的清洗设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及太阳能硅片清洗水槽技术领域，尤其是一种保持硅片后续工位洁净的清洗设备，包括用于盛放清洗水的水槽，所述水槽内设置有用于放置硅片的载具，所述水槽的顶端设置有喷淋管，所述喷淋管的内侧分布有若干喷孔，所述喷淋管与水源连通，所述喷淋管用于对向上提升脱离水槽时的载具进行喷淋，本实用新型的保持硅片后续工位洁净的清洗设备通过在水槽上设置喷淋管，当机械手将装有硅片的载具往上提升时，喷淋管对硅片及载具使用纯水进行喷淋，使硅片及载具上的残留液体稀释并掉回水槽，有效避免硅片及载具将洁净度较低的残留液体带入下一个工位。
Description
技术领域
本实用新型涉及太阳能硅片清洗水槽技术领域，尤其是一种保持硅片后续工位洁净的清洗设备。
背景技术
在湿法设备行业，尤其是在太阳能硅片槽式湿法处理设备行业中，为了去除硅片表面的脏污或湿化学工位处理时表面残留的药液，通过会将装有硅片的载具放在水槽体内进行漂洗，经过一定时间的冲洗后，利用机械手将装有硅片的载具向上提出槽体，进入一下个湿法处理工序。虽然纯水槽中一边补入新的纯水，一边溢流出脏水，但是随着使用次数的增加，水槽体内的水杂质或化学药液含量不断上升，硅片和载具浸泡在本身洁净度比较低的水槽内漂洗，清洗完后机械手提走时，硅片和载具上依然会残留洁净度较低的漂洗水。进入下一工位后任然会对该工位造成洁净污染。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是：为了解决现有技术中载具从水槽内提出时，硅片和载具上依然会残留洁净度较低的漂洗水，导致该载具及硅片进入下一工位后会对该工位造成洁净污染的问题，现提供一种保持硅片后续工位洁净的清洗设备。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种保持硅片后续工位洁净的清洗设备，包括用于盛放清洗水的水槽，所述水槽内设置有用于放置硅片的载具，所述水槽的顶端设置有喷淋管，所述喷淋管的内侧分布有若干喷孔，所述喷淋管与水源连通，所述喷淋管用于对向上提升脱离水槽时的载具进行喷淋。
本方案中将装有硅片的载具放置在水槽中漂洗，水槽中不停的有清洗水补入，且不停的有脏水溢流排放，当机械臂将载具及硅片向上提升时，喷淋管中的喷孔喷出洁净度比水槽中清洗水高的纯水对载具及硅片进行冲刷，使硅片及载具上的残留液体稀释并掉回至水槽内，有效避免硅片及载具将洁净度较低的残留液体带入下移工位，提高后续工位的药液使用寿命。
进一步地，所述喷淋管有两根且相互平行，两根所述喷淋管分别设置在水槽顶端的两侧，在载具被机械臂提升的过程中，载具及硅片从上至下均会被喷淋管的喷孔直接喷射到高洁净度的纯水进行冲洗，清洁效果好。
进一步地，两根所述喷淋管中其中一者通过主管道连通所述水源，另一者通过支管道与主管道连通。
具体地，若干所述喷孔沿喷淋管的长度方向间隔设置。
本实用新型的有益效果是：本实用新型的保持硅片后续工位洁净的清洗设备通过在水槽上设置喷淋管，当机械手将装有硅片的载具往上提升时，喷淋管对硅片及载具使用纯水进行喷淋，使硅片及载具上的残留液体稀释并掉回水槽，有效避免硅片及载具将洁净度较低的残留液体带入下一个工位。
附图说明
下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。
图1是本实用新型保持硅片后续工位洁净的清洗设备的示意图；
图2是本实用新型硅片放置在载具中的示意图。
图中：1、水槽，2、喷淋管，3、主管道，4、支管道，5、硅片，6、载具。
具体实施方式
现在结合附图对本实用新型作进一步详细的说明。这些附图均为简化的示意图，仅以示意方式说明本实用新型的基本结构，因此其仅显示与本实用新型有关的构成，方向和参照(例如，上、下、左、右、等等)可以仅用于帮助对附图中的特征的描述。因此，并非在限制性意义上采用以下具体实施方式，并且仅仅由所附权利要求及其等同形式来限定所请求保护的主题的范围。
实施例1
如图1和2所示，一种保持硅片后续工位洁净的清洗设备，包括用于盛放清洗水的水槽1，水槽1内设置有用于放置硅片5的载具6，水槽1的顶端设置有喷淋管2，喷淋管2的内侧分布有若干喷孔，喷淋管2与水源连通，喷淋管2用于对向上提升脱离水槽1时的载具6进行喷淋。
喷淋管2有两根且相互平行，两根喷淋管2分别设置在水槽1顶端的两侧，在载具6被机械臂提升的过程中，载具6及硅片5从上至下均会被喷淋管2的喷孔直接喷射到高洁净度的纯水进行冲洗，清洁效果好。
两根喷淋管2中其中一者通过主管道3连通水源，另一者通过支管道4与主管道3连通。
若干喷孔沿喷淋管2的长度方向间隔设置。
喷淋管2的两端端部封堵，喷淋管2的中间部位与主管道3连通，通过泵入的方式将水源中的水送入主管道3中，实现喷淋管2的喷淋；装有硅片5的载具6在水槽1中漂洗后，由机械臂将载具6及硅片5向上提升时，喷淋管2中的喷孔喷出洁净度比水槽1中清洗水高的纯水对载具6及硅片5进行冲刷，使硅片5及载具6上的残留液体稀释并掉回至水槽1内，有效避免硅片5及载具6将洁净度较低的残留液体带入下一工位，提高后续工位的药液使用寿命。
上述依据本实用新型的理想实施例为启示，通过上述的说明内容，相关工作人员完全可以在不偏离本项实用新型技术思想的范围内，进行多样的变更以及修改。本项实用新型的技术性范围并不局限于说明书上的内容，必须要根据权利要求范围来确定其技术性范围。
Claims (4)
1.一种保持硅片后续工位洁净的清洗设备，其特征在于：包括用于盛放清洗水的水槽(1)，所述水槽(1)内设置有用于放置硅片(5)的载具(6)，所述水槽(1)的顶端设置有喷淋管(2)，所述喷淋管(2)的内侧分布有若干喷孔，所述喷淋管(2)与水源连通，所述喷淋管(2)用于对向上提升脱离水槽(1)时的载具(6)进行喷淋。
2.根据权利要求1所述的保持硅片后续工位洁净的清洗设备，其特征在于：所述喷淋管(2)有两根且相互平行，两根所述喷淋管(2)分别设置在水槽(1)顶端的两侧。
3.根据权利要求2所述的保持硅片后续工位洁净的清洗设备，其特征在于：两根所述喷淋管(2)中其中一者通过主管道(3)连通所述水源，另一者通过支管道(4)与主管道(3)连通。
4.根据权利要求1所述的保持硅片后续工位洁净的清洗设备，其特征在于：若干所述喷孔沿喷淋管(2)的长度方向间隔设置。
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| CN201721147879.8U CN207446849U (zh) | 2017-09-08 | 2017-09-08 | 保持硅片后续工位洁净的清洗设备 |
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| CN201721147879.8U CN207446849U (zh) | 2017-09-08 | 2017-09-08 | 保持硅片后续工位洁净的清洗设备 |
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| CN207446849U true CN207446849U (zh) | 2018-06-05 |
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Cited By (1)
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| CN115458439A (zh) * | 2022-08-26 | 2022-12-09 | 曲靖阳光新能源股份有限公司 | 一种带喷淋功能的清洗机用慢提拉槽体 |
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2017
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Cited By (2)
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| CN115458439A (zh) * | 2022-08-26 | 2022-12-09 | 曲靖阳光新能源股份有限公司 | 一种带喷淋功能的清洗机用慢提拉槽体 |
| CN115458439B (zh) * | 2022-08-26 | 2024-05-28 | 曲靖阳光新能源股份有限公司 | 一种带喷淋功能的清洗机用慢提拉槽体 |
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