CN204564642U - 一种硅片清洗设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型实施例公开了一种硅片清洗设备，该硅片清洗设备包括上料台、喷淋装置和硅片清洗机；所述上料台与所述硅片清洗机入口端连接，所述喷淋装置至少部分位于所述上料台的上方，以对所述上料台上的硅片进行喷淋。实施本实用新型实施例，具有如下有益效果：本实用新型的硅片清洗设备在上料台上安装有喷淋装置，不间断的向硅片喷淋纯水，避免了硅片由于在上料台上放置时间过长导致的氧化，保证了清洗质量。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种工业产品清洗设备，尤其涉及一种硅片清洗设备。
背景技术
在现在的工业产品生产过程中，例如硅片的生产过程中，需要对生产出来的硅片进行清洗。现有的清洗流程是，在清洗前先将8个装有硅片的塑料片盒装入不锈钢清洗篮中，放入水槽中避免接触空气，然后在清洗过程中，通过人工将盛满硅片片盒的不锈钢清洗篮放入上料台。放置上料台后，硅片表面的水会逐渐流失，如若员工放置过早，会造成硅片接触空气，产生氧化等化学物理作用，导致后续清洗不良。
实用新型内容
本实用实施例所要解决的技术问题在于，针对现有工艺中不锈钢篮在上料台上放置过早，会导致硅片表面纯水流失，接触空气被氧化，导致后续清洗不良的问题，提出了一种硅片清洗设备。
为了解决上述技术问题，本实用新型实施例提供了一种硅片清洗设备，其包括上料台、喷淋装置和硅片清洗机；上料台与硅片清洗机入口端连接，喷淋装置至少部分位于上料台的上方，以对上料台上的硅片进行喷淋。
其中，硅片清洗机包括依次设置的纯水清洗槽、加清洗剂清洗槽、纯水漂洗槽和烘干隧道，纯水清洗槽远离加清洗剂清洗槽的一端连接上料台。
其中，纯水清洗槽包括依次设置的第一纯水清洗槽和第二纯水清洗槽；加清洗剂清洗槽包括依次设置的第一加清洗剂清洗槽和第二加清洗剂清洗槽；纯水漂洗槽包括依次设置的第一纯水漂洗槽、第二纯水漂洗槽和第三纯水漂洗槽；第一纯水清洗槽连接上料台，第二纯水清洗槽连接第一加清洗剂清洗槽，第二加清洗剂清洗槽连接第一纯水漂洗槽，第三纯水漂洗槽连接烘干隧道。
其中，喷淋装置数量是一个，位于上料台正上方。
其中，喷淋装置包括喷淋头以及为与喷淋头连接并进行供水的水管，喷淋头设置于上料台的正上方。
其中，喷淋装置数量是两个，在上料台上方两侧对称分布。
其中，喷淋装置为至少三个，均匀设置于上料台周围，且至少每个喷淋装置的部分设置于上料台的上方。
实施本实用新型实施例，具有如下有益效果：本实用新型的硅片清洗设备在上料台上安装有喷淋装置，不间断的向硅片喷淋纯水，避免了硅片由于在上料台上放置时间过长导致的氧化，保证了清洗质量。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本实用新型提供的硅片清洗设备的第一实施例的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
请参见图1，图1是本实用新型提供的硅片清洗设备的第一实施例的结构示意图。喷淋装置10、上料台20、以及硅片清洗机(未标示)，硅片清洗机又包括纯水清洗槽30、加清洗剂清洗槽40、纯水漂洗槽50以及烘干隧道60。
喷淋装置10连接硅片清洗机的入口端，即连接纯水清洗槽30。喷淋装置10包括喷淋头11以及与喷淋头11相连接用于供水的水管12，喷淋头11位于上料台20的上方。在本实施例中，喷淋头11直接固定于水管12上，而在其它实施例中，喷淋头11可固定于上料台20上。在清洗前，装有硅片的不锈钢清洗篮放置在上料台20上，喷淋头11不断向不锈钢清洗篮喷出纯水，来隔绝硅片与空气的接触，避免硅片氧化。
纯水清洗槽30包括依次设置的第一纯水清洗槽31以及第二纯水清洗槽32；加清洗剂清洗槽40包括依次设置的第一加清洗剂清洗槽41以及第二加清洗剂清洗槽42；纯水漂洗槽50包括依次设置的第一纯水漂洗槽51、第二纯水漂洗槽52以及第三纯水漂洗槽53。所述第一纯水清洗槽31连接所述上料台，所述第二纯水清洗槽32连接所述第一加清洗剂清洗槽41，所述第二加清洗剂清洗槽42连接所述第一纯水漂洗槽51，所述第三纯水漂洗槽53连接所述烘干隧道60。
上料台20处放置硅片或装有硅片的塑料片盒或装有塑料片盒的不锈钢清洗篮后，喷淋装置10对上料台20进行喷淋，以防止硅片暴漏在空气中。当需要对硅片进行清洗时，机械臂从上料台20上抓取不锈钢清洗篮，使其依次通过第一纯水清洗槽31、第二纯水清洗槽32、第一加清洗剂清洗槽41、第二加清洗剂清洗槽42、第一纯水漂洗槽51、第二纯水漂洗槽52以及第三纯水漂洗槽53进行清洗，最后通过烘干隧道60进行烘干。
本实施例为优选实施例，在其它实施例中，可以根据实际情况进行修改，例如喷淋头11的数量，可以是两个，并且对称设置；或者是三个或三个以上，均匀的环绕设置于所述上料台20周围，且至少每个所述喷淋装置的部分设置于所述上料台的上方；例如喷淋头11的形状可以为矩形、圆形或者圆环形，可根据实际情况进行改进。
实施本实用新型实施例，具有如下有益效果：本实用新型的硅片清洗设备在上料台上安装有喷淋装置，不间断的向硅片喷淋纯水，避免了硅片由于在上料台上放置时间过长导致的氧化，保证了清洗质量。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (7)
1.一种硅片清洗设备，其特征在于，其包括上料台、喷淋装置和硅片清洗机；所述上料台与所述硅片清洗机入口端连接，所述喷淋装置至少部分位于所述上料台的上方，以对所述上料台上的硅片进行喷淋。
2.如权利要求1所述的一种硅片清洗设备，其特征在于，所述硅片清洗机包括依次设置的纯水清洗槽、加清洗剂清洗槽、纯水漂洗槽和烘干隧道，所述纯水清洗槽远离所述加清洗剂清洗槽的一端连接所述上料台。
3.如权利要求2所述的一种硅片清洗设备，其特征在于，所述纯水清洗槽包括依次设置的第一纯水清洗槽和第二纯水清洗槽；所述加清洗剂清洗槽包括依次设置的第一加清洗剂清洗槽和第二加清洗剂清洗槽；所述纯水漂洗槽包括依次设置的第一纯水漂洗槽、第二纯水漂洗槽和第三纯水漂洗槽；所述第一纯水清洗槽连接所述上料台，所述第二纯水清洗槽连接所述第一加清洗剂清洗槽，所述第二加清洗剂清洗槽连接所述第一纯水漂洗槽，所述第三纯水漂洗槽连接所述烘干隧道。
4.如权利要求1所述的一种硅片清洗设备，其特征在于，所述喷淋装置数量是一个，且至少部分位于上料台正上方。
5.如权利要求4所述的一种硅片清洗设备，其特征在于，所述喷淋装置包括喷淋头以及为与所述喷淋头连接并进行供水的水管，所述喷淋头设置于所述上料台的正上方。
6.如权利要求1所述的一种硅片清洗设备，其特征在于，所述喷淋装置数量是两个，在上料台上方两侧对称分布。
7.如权利要求1所述的一种硅片清洗设备，其特征在于，所述喷淋装置为至少三个，均匀设置于所述上料台周围，且至少每个所述喷淋装置的部分设置 于所述上料台的上方。
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| CN201520249710.8U CN204564642U (zh) | 2015-04-23 | 2015-04-23 | 一种硅片清洗设备 |
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| CN204564642U true CN204564642U (zh) | 2015-08-19 |
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| CN (1) | CN204564642U (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109333266A (zh) * | 2018-10-28 | 2019-02-15 | 昆山锲恒精密组件科技有限公司 | 一种镁铝合金研磨装置及研磨工艺 |
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2015
- 2015-04-23 CN CN201520249710.8U patent/CN204564642U/zh not_active Expired - Fee Related
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