CN204281610U - 一种用于陶瓷制作中喷釉的装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种用于陶瓷制作中喷釉的装置，所述装置包括：支撑台，设置于一操作房的容纳空间内，多个待喷釉陶瓷成列放置于所述支撑台上，且支撑台上设置有至少一列待喷釉陶瓷；用于喷釉的喷头，喷嘴方向朝待喷釉陶瓷设置；用于安装喷头的滑道，滑道固定于操作房上，且位于支撑台的正上方，形成为弯曲且首尾连接的封闭结构；喷头包括在滑道上滑动的第一状态以及在滑道上停留于一位置的第二状态；用于驱动喷头以预定速度相对于滑道移动的电机，电机启动时，喷头处于所述第一状态，电机关闭时，喷头处于第二状态。该装置能够自动完成喷釉过程，使喷釉效率提高。

Description

一种用于陶瓷制作中喷釉的装置

技术领域

本实用新型涉及陶瓷制作技术领域，尤其是指一种用于陶瓷制作中喷釉的装置。

背景技术

通常，陶瓷的制作过程包括练泥、拉坯、印坯、利坯、晒坯、刻花、施釉、烧窑及彩绘等工艺步骤。其中施釉的步骤中，采用喷涂方式上釉也即喷釉为很常用的一种方式。

现有技术喷釉的过程通常是操作人员手拿喷枪人工完成，存在效率低且技术不好掌握，造成喷涂不均匀的问题。

实用新型内容

本实用新型技术方案的目的是提供一种用于陶瓷制作中喷釉的装置，能够自动完成喷釉过程，使喷釉效率提高。

本实用新型提供一种用于陶瓷制作中喷釉的装置，所述装置包括：

支撑台，设置于一操作房的容纳空间内，多个待喷釉陶瓷成列放置于所述支撑台上，且所述支撑台上设置有至少一列所述待喷釉陶瓷；

用于喷釉的喷头，喷嘴方向朝所述待喷釉陶瓷设置；

用于安装所述喷头的滑道，所述滑道固定于所述操作房上，且位于所述支撑台的正上方，形成为弯曲且首尾连接的封闭结构；所述喷头包括在所述滑道上滑动的第一状态以及在所述滑道上停留于一位置的第二状态；

用于驱动所述喷头以预定速度相对于所述滑道移动的电机，所述电机启动时，所述喷头处于所述第一状态，所述电机关闭时，所述喷头处于所述第二状态。

优选地，上述所述的装置，所述滑道包括：

多个与待喷釉陶瓷的成列方向相平行的第一滑道部分，分别包括第一端和第二端，其中各个所述第一滑道部分的第一端至第二端的方向相同；

连接距离最远的两个第一滑道部分的第一端的第二滑道部分；

连接相邻两个所述第一滑道部分的第一端或第二端的第三滑道部分。

优选地，上述所述的装置，所述第二滑道部分与所述第一滑道部分相垂直，所述第三滑道部分形成为弯曲的弧形。

优选地，上述所述的装置，所述第一滑道部分的数量为N个，N为偶数，相邻两个所述第一滑道部分形成为一组，共形成为N/2组的所述第一滑道部分，每组所述第一滑道部分的中间位置处设置有一列所述待喷釉陶瓷。

优选地，上述所述的装置，所述装置还包括多根用于将所述滑道固定于所述操作房上的固定杆，所述固定杆垂直于所述滑道所在平面设置，一端与所述滑道的顶面连接，另一端固定于所述操作房的顶部。

优选地，上述所述的装置，所述滑道的底面上形成有滑槽，所述装置还包括一滑杆，所述喷头固定于所述滑杆上；且所述滑杆的一端设置有与所述滑槽配合的第一滑块，所述第一滑块插设于所述滑槽中，且能够相对于所述滑槽移动。

优选地，上述所述的装置，所述装置还包括第二滑块，所述喷头通过所述第二滑块固定于所述滑杆上，所述第二滑块包括相对于所述滑杆移动的状态以及相对于所述滑杆固定的状态。

优选地，上述所述的装置，所述喷头通过一螺栓固定于所述第二滑块上。

优选地，上述所述的装置，所述滑槽为T型。

优选地，上述所述的装置，所述装置还包括与所述喷头连接的传输管路。

本实用新型具体实施例上述技术方案中的至少一个具有以下有益效果：

采用本实用新型用于陶瓷制作中喷釉的装置，通过电机驱动喷头以预定速度在滑道上滑动的同时，喷头的喷嘴朝待喷釉陶瓷进行喷釉，滑动的过程对整列的待喷釉陶瓷完成喷釉，从而无需人工操作即能够自动完成喷釉过程，使喷釉效率提高；另外，由于电机驱动喷头的速度可以被控制，喷釉速度均匀，使每一陶瓷所喷涂釉层均匀。

附图说明

图1为本实用新型实施例用于陶瓷制作中喷釉的装置的立体结构示意图；

图2为本实用新型实施例所述装置中滑道的立体结构示意图；

图3为本实用新型实施例所述装置中滑道与待喷釉陶瓷之间结构关系的示意图；

图4为本实用新型实施例所述装置的平面结构示意图；

图5为图4中B部分的放大结构示意图；

图6为滑道与固定杆之间连接关系的剖面结构示意图；

图7为图2为A部分的放大结构示意图。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型的具体实施结构进行详细描述。

图1为本实用新型实施例用于陶瓷制作中喷釉的装置的立体结构示意图。参阅图1，所述装置包括：

支撑台10，设置于一操作房100的容纳空间内，多个待喷釉陶瓷1成列放置于所述支撑台10上，且所述支撑台10上设置有至少一列所述待喷釉陶瓷1；

用于喷釉的喷头20，喷嘴方向朝所述待喷釉陶瓷1设置；

用于安装所述喷头的滑道30，所述滑道30固定于所述操作房100上，且位于所述支撑台10的正上方，形成为弯曲且首尾连接的封闭结构；所述喷头包括在所述滑道30上滑动的第一状态以及在所述滑道上固定于一位置的第二状态；

用于驱动所述喷头20以预定速度相对于所述滑道30移动的电机(图中未示出)，所述电机与所述喷头20连接，所述电机启动时，所述喷头20处于所述第一状态，所述电机关闭时，所述喷头20处于所述第二状态。

利用本实用新型上述结构的装置，通过电机驱动所述喷头20以预定速度在滑道30上滑动的同时，喷头20的喷嘴朝待喷釉陶瓷1进行喷釉，滑动的过程对整列的待喷釉陶瓷1完成喷釉，从而无需人工操作即能够自动完成喷釉过程，使喷釉效率提高；另外，由于电机驱动喷头20的速度可以被控制，喷釉速度均匀，使每一陶瓷所喷涂釉层均匀。

进一步地，结合图1与图2，本实用新型实施例中，所述滑道30包括：

多个与待喷釉陶瓷1的成列方向相平行的第一滑道部分31，分别包括第一端311和第二端312，其中各个所述第一滑道部分31的第一端311至第二端312的方向相同；

连接距离最远的两个第一滑道部分31的第一端的第二滑道部分32；

连接相邻两个所述第一滑道部分31的第一端311或第二端312的第三滑道部分33。

采用上述的滑道30，各个第一滑道部分31通过第三滑道部分33首尾相接，且距离最远的两个第一滑道部分31通过第二滑道部分32相连接，形成为如图2所示呈封闭结构的滑道30。

根据图2，具体地，第二滑道部分32与第一滑道部分31相垂直，各个第三滑道部分33形成为弯曲的弧形。

所述喷头20在呈封闭结构的滑道30上，可以循环绕滑道30移动，以能够连续、多次地完成喷涂操作过程。

本领域技术人员可以理解，以上将滑道30划分为几个部分，仅是便于清楚地说明本实施例中所述滑道30的结构，实际整个滑道30是由一体制成，并没有各个部分的明确划分界限。

另外，优选地，本实用新型实施例中，第一滑道部分31的数量为N个，N为偶数，相邻两个所述第一滑道部分31形成为一组，共形成为N/2组的所述第一滑道部分31，每组所述第一滑道部分31的中间位置处设置有一列所述待喷釉陶瓷1，形成为如图3所示的结构形式。采用该种设置方式，结合图1和图2，利用待喷釉陶瓷1两侧的一组第一滑道部分31为陶瓷喷釉，当喷头20在待喷釉陶瓷1的一侧滑动时，喷头20为固定朝向于待喷釉陶瓷1的方向倾斜，从第一方向朝待喷釉陶瓷1喷釉；当转过第三滑道部分33移动到待喷釉陶瓷1的另一侧时，无需转动喷头20的角度，喷头20的方向依然为朝向待喷釉陶瓷1，从与第一方向相对的第二方向朝待喷釉陶瓷1喷釉。这样，从两个角度全方面的对陶瓷完成喷釉过程，且无需调节喷头20所朝向方向，使用方便。

本实用新型实施例中，参阅图4，所述装置还包括多根用于将所述滑道30固定于所述操作房100上的固定杆40，固定杆40垂直于滑道30所在平面设置，一端与滑道30的顶面连接，另一端固定于操作房100的顶部。

另外，参阅图5、图6和图7，所述滑道30的底面上形成有滑槽31，所述装置还包括一滑杆50，所述喷头20固定于所述滑杆50上；且所述滑杆50的一端设置有与所述滑槽31配合的第一滑块51，所述第一滑块51插设于所述滑槽31中，且能够相对于所述滑槽31移动。所述装置还包括第二滑块60，所述喷头20通过所述第二滑块60固定于所述滑杆50上，所述第二滑块60包括相对于所述滑杆50移动的状态以及相对于所述滑杆50固定的状态；具体地，所述第二滑块60通过一螺栓70固定于滑杆50上，喷头20通过一螺栓80固定于第二滑块60上；当螺栓70拧松时，第二滑块60能够相对于滑杆50上下移动，以用于调节喷头20的高度，当螺栓70拧紧时，第二滑块60相对于滑杆50固定；当螺栓80拧松时，喷头20能够相对于滑杆50转动，以用于调节喷头20相对于滑杆50的倾斜角度；当螺栓80拧紧时，喷头20相对于滑杆50固定，不能转动。

当然，如图7所示，与螺栓70和螺栓80相配合的设置有螺母，在此不再详细描述。

本实用新型实施例中，所述滑槽31的截面也可以设计为呈T字型，第一滑块51具有与T字型配合的结构。

采用本实用新型上述结构的用于陶瓷制作中喷釉的装置，当待喷釉陶瓷1成列设置于滑道30下方时，可以通过调节喷头20在滑杆50上的高度以及倾斜角度以调节至合适的喷涂方位，之后启动电机，使滑杆50沿滑道30上的滑槽31以预定速度自动移动，移动的过程完成对待喷釉陶瓷1的自动喷釉；当欲使喷头20固定至一位置持续对其中一待喷釉陶瓷1进行喷釉时，可以启动电机使喷头20移动至该位置，然后使电机停止即可。最佳地，所述滑道30上还可以设置一停留固定结构，以用于将滑杆50固定于一其中位置处而不会随意移动，本领域技术人员根据本实用新型的结构，应该可以用多种方式实现滑杆50的停留固定，该结构并非为本实用新型的研究重点，在此不再对能够实现的具体结构进行详细描述。

本实用新型所述装置中，还应该包括与所述喷头20连接的管路，用于输送喷釉的材料，喷头20的结构以及管路与喷头20的连接方式均为本领域的通常结构，在此不作详细描述。

以上所述仅是本实用新型的实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。

Claims (10)

1.一种用于陶瓷制作中喷釉的装置，其特征在于，所述装置包括：

支撑台，设置于一操作房的容纳空间内，多个待喷釉陶瓷成列放置于所述支撑台上，且所述支撑台上设置有至少一列所述待喷釉陶瓷；

用于喷釉的喷头，喷嘴方向朝所述待喷釉陶瓷设置；

用于安装所述喷头的滑道，所述滑道固定于所述操作房上，且位于所述支撑台的正上方，形成为弯曲且首尾连接的封闭结构；所述喷头包括在所述滑道上滑动的第一状态以及在所述滑道上停留于一位置的第二状态；

用于驱动所述喷头以预定速度相对于所述滑道移动的电机，所述电机启动时，所述喷头处于所述第一状态，所述电机关闭时，所述喷头处于所述第二状态。

2.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述滑道包括：

多个与待喷釉陶瓷的成列方向相平行的第一滑道部分，分别包括第一端和第二端，其中各个所述第一滑道部分的第一端至第二端的方向相同；

连接距离最远的两个第一滑道部分的第一端的第二滑道部分；

连接相邻两个所述第一滑道部分的第一端或第二端的第三滑道部分。

3.如权利要求2所述的装置，其特征在于，所述第二滑道部分与所述第一滑道部分相垂直，所述第三滑道部分形成为弯曲的弧形。

4.如权利要求2所述的装置，其特征在于，所述第一滑道部分的数量为N个，N为偶数，相邻两个所述第一滑道部分形成为一组，共形成为N/2组的所述第一滑道部分，每组所述第一滑道部分的中间位置处设置有一列所述待喷釉陶瓷。

5.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置还包括多根用于将所述滑道固定于所述操作房上的固定杆，所述固定杆垂直于所述滑道所在平面设置，一端与所述滑道的顶面连接，另一端固定于所述操作房的顶部。

6.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述滑道的底面上形成有滑槽，所述装置还包括一滑杆，所述喷头固定于所述滑杆上；且所述滑杆的一端设置有与所述滑槽配合的第一滑块，所述第一滑块插设于所述滑槽中，且能够相对于所述滑槽移动。

7.如权利要求6所述的装置，其特征在于，所述装置还包括第二滑块，所述喷头通过所述第二滑块固定于所述滑杆上，所述第二滑块包括相对于所述滑杆移动的状态以及相对于所述滑杆固定的状态。

8.如权利要求7所述的装置，其特征在于，所述喷头通过一螺栓固定于所述第二滑块上。

9.如权利要求6所述的装置，其特征在于，所述滑槽为T型。

10.如权利要求1至9任一项所述的装置，其特征在于，所述装置还包括与所述喷头连接的传输管路。