CN204255119U - 多磁系并用底装式熔炼炉搅拌器 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种多磁系并用底装式熔炼炉搅拌器，包括平台、行走机构、升降机构、旋转机构、磁系本体和控制柜，其中：所述的旋转机构和磁系本体设置至少二组于平台上，且旋转机构和磁系本体组成的磁系本体组在平台上的布置方式以熔炼炉需搅拌区域大小对应布置；所述布置在平台上的各磁系本体组由全部电磁式磁系本体组成，或者由全部永磁式磁系本体组成，或者由电磁式磁系本体与永磁式磁系本体混合排列组成。本实用新型为电磁或永磁磁体结构，在各自的旋转机构驱动下绕本身轴线旋转，在有色金属液体中产生周期交变的搅拌磁场，搅动有色金属液体，实现对熔炼液的大面积搅拌。本实用新型多磁系布置使得搅拌空白区域减少，搅拌更加充分。

Description

多磁系并用底装式熔炼炉搅拌器

技术领域

本实用新型涉及搅拌设备，特别指一种多磁系并用底装式熔炼炉搅拌器。

背景技术

传统的底装式熔炼炉搅拌器仅有一个磁系本体产生搅拌磁场，只能通过改变磁系本体的大小来适应不同的熔炼液分布区域。由于磁系本体为旋转体，线圈绕组及磁钢布置受到限制，实际搅拌磁场区域为以旋转轴线为中心的圆周。由此就会造成搅拌磁场区域与熔炼液分布区域的不对应，在熔炼炉中产生磁场搅拌的大量空白区域，造成熔炼液搅拌不充分的问题。

发明内容

本实用新型的目的是针对背景技术中存在的缺点和问题加以改进和创新，提供一种既可增加搅拌区域，又可根据实际情况变换搅拌区域的多磁系并用底装式熔炼炉搅拌器。

本实用新型的技术方案是构造一种设置在熔炼炉炉底的搅拌器，包括平台，设置在平台上带动平台沿轨道前、后移动的行走机构，设置在平台上带动平台上、下运动的升降机构，设置在平台上的旋转机构，设置在旋转机构上并由旋转机构驱动旋转的磁系本体，和连接行走机构、升降机构、旋转机构及磁系本体的控制柜，其中：

所述的旋转机构和磁系本体设置至少二组于平台上，且旋转机构和磁系本体组成的磁系本体组在平台上的布置方式以熔炼炉需搅拌区域大小对应布置；

所述布置在平台上的各磁系本体组由全部电磁式磁系本体组成，或者由全部永磁式磁系本体组成，或者由电磁式磁系本体与永磁式磁系本体混合排列组成。

本实用新型所述的平台上的各磁系本体组均与控制柜连接，并通过控制柜调整磁系本体的磁场强度和转换磁系本体的磁场方向，并控制所述磁系本体组单台或多台运行。

在其中一个实施例中，所述的由旋转机构和磁系本体组成的各磁系本体组单排均匀分布于平台上。

在其中另一个实施例中，所述的由旋转机构和磁系本体组成的各磁系本体组均匀横排并设置至少二排于平台上，且相邻两排磁系本体组之间错位布置。

本实用新型的优点及有益效果：

本实用新型为电磁或永磁磁体结构，在各自的旋转机构驱动下绕本身轴线旋转，在有色金属液体中产生周期交变的搅拌磁场，搅动有色金属液体，实现对熔炼液的大面积搅拌。多个磁系本体组成多磁系搅拌磁场由控制柜远程控制或现场控制，根据实际搅拌工况需要选择单台或多台磁系本体组运行。本实用新型通过多磁系的并用布置增加了搅拌磁场区域的适应性；根据实际搅拌区域的需求灵活布置磁系本体，使搅拌磁场与熔炼液分布区域的重合面积增大，搅拌空白区域减少，搅拌更加充分。

附图说明

图1是本实用新型整体结构示意图。

图2是本实用新型磁系本体实施状态之一俯视结构示意图。

图3是本实用新型磁系本体实施状态之二俯视结构示意图。

图4是本实用新型电磁式磁系本体主要部件剖面结构示意图。

图5是本实用新型永磁式磁系本体主要部件剖面结构示意图。

具体实施方式

为了便于理解本实用新型，下面将参照相关附图对本实用新型进行更全面的描述。附图中给出了本实用新型的首选实施例。但是，本实用新型可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本实用新型的公开内容更加透彻全面。

需要说明的是，当元件被认为是“设置”在另一个元件上，它可以是直接设置在另一个元件上或者可能同时存在居中元件。

除非另有定义，本文中所使用的所有的技术和科学术语与本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施目的，不是旨在于限制本实用新型。

如图1所示，搅拌器包括多个磁系本体3、升降机构5、行走机构2、旋转机构1及罩体4，其中磁系本体3、旋转机构1设于罩体4内，并与罩体4一并固置于平台6之上，平台6及上设部件由升降机构5和行走机构2驱动实现升降及前后移动。磁系本体3为电磁式或永磁式磁体单用或混用结构，各磁系本体3由旋转机构1驱动做旋转运动，产生周期交变搅拌磁场，搅动有色金属液体，实现对熔炼液的大面积搅拌。

根据熔炼液搅拌区域范围，多个磁系本体成单排布置，如图2所示；或多排交错布置，如图3所示；亦可根据熔炼炉的具体结构呈环形，或矩形等方式布置，图未示。各磁系本体3之间形成多个独立的搅拌磁场，并且布置的磁系本体组根据实际搅拌需求可选择单台或多台运行。所述磁系本体3通过升降机构5移动至搅拌工作位置，通过行走机构2调整与熔炼炉的垂直距离，搅拌完毕后离开工作位置。工作时磁系本体3产生定向磁场，在旋转机构驱动下做旋转运动，定向磁场转变为周期交变磁场实现对熔炼液的搅拌。

如图1所示，旋转机构1包括固定在平台6上的电机11，由电机11驱动的减速机12，设置于减速机12上的输出轴即空心支撑轴13，及与空心支撑轴13连接的旋转支撑14，磁系本体3固定在旋转支撑14上方设置的托盘上并通过旋转机构1驱动正、反旋转，磁系本体3的引出电缆或引出组件通过空心支撑轴13引出。所述电机11连接控制柜，并由控制柜远程控制启动工作或停止待机；电机11亦可现场启动工作或停止。

如图1所示，行走机构2由电机驱动使平台沿轨道前后移动，包括行走轮21，通过电动机或者液压马达驱动行走轮21移动的行走机构22。所述行走机构22及驱动部件连接控制柜，并由控制柜远程控制启闭；亦可现场控制启闭。

如图1所示，升降机构5由丝杆或液压驱动升降，包括控制平台6升降的电机52、升降锁紧装置51及限位装置53；其升降锁紧装置51设置在平台6的两侧，驱动部件即电机52连接控制柜，并由控制柜远程控制运行，亦可通过现场控制运行。

如图1、4所示，磁系本体3为设置在壳体35内的电磁式磁系本体，其壳体35上开有散热窗36；电磁式磁系本体由电工纯铁材料铁芯32和绕制在铁芯32上的电磁线圈31组成；电磁线圈31由带有绝缘层的铝制或铜制电磁线绕制而成，电磁线圈31连接控制柜并通过控制柜实现电磁磁场强度的调整及方向的转换。

如图1、5所示，磁系本体3为设置在壳体35内的永磁式磁系本体，其壳体35上开有散热窗36；永磁式磁系本体由永磁磁钢33和导磁磁轭34组成，永磁磁钢33成两极排列布置，密封于非导磁材料制成的壳体35内，与导磁磁轭34形成闭合磁路。

本实用新型的工作原理：

本实用新型用于有色金属冶炼中，通过机械旋转获得交变磁场实现对熔炼液的搅拌。磁系本体由电磁或永磁磁系产生定向磁场，在旋转机构驱动下做旋转运动，在有色金属液体中形成周期交变搅拌磁场，搅动有色金属液体实现对熔炼液的大面积搅拌。

本实用新型通过多磁系的并用布置以达到灵活适应搅拌区域的目的；根据搅拌区域需求，设置磁系本体的布置方式，增大搅拌磁场与熔炼液分布的重合面积。本实用新型非工作状态下置于停机位或检修位。当设备工作时，行走机构首先动作，使设备平台沿轨道向熔炼炉底部搅拌工作位置移动，通过点动控制精确调整磁系本体与熔炼液的相对位置后，行走机构暂停工作。随后升降机构动作，设备平台向熔炼炉底方向移动，到达指定位置后触发限位开关，升降机构停止工作。设备进入工作位置后磁系本体励磁启动，产生工作磁场。而后旋转机构工作，磁系本体绕各自轴线旋转，形成周期交变的搅拌磁场，实现对熔炼液的大面积充分搅拌。搅拌工作结束后，旋转机构停止工作，励磁电源关闭。而后升降机构工作平台复位，行走机构运动使设备移动至初始位置。

本实用新型所述的实施例仅仅是对本实用新型的优选实施方式进行的描述，并非对本实用新型构思和范围进行限定，在不脱离本实用新型设计思想的前提下，本领域中工程技术人员对本实用新型的技术方案作出的各种变型和改进，均应落入本实用新型的保护范围，本实用新型请求保护的技术内容，已经全部记载在权利要求书中。

Claims (4)

1.一种多磁系并用底装式熔炼炉搅拌器，设置在熔炼炉炉底，包括平台（6），设置在平台（6）上带动平台（6）沿轨道前、后移动的行走机构（2），设置在平台（5）上带动平台（5）上、下运动的升降机构（5），设置在平台（6）上的旋转机构（1），设置在旋转机构（1）上并由旋转机构（1）驱动旋转的磁系本体（3），和连接行走机构（2）、升降机构（5）、旋转机构（1）及磁系本体（3）的控制柜，其特征在于：

所述的旋转机构（1）和磁系本体（3）设置至少二组于平台（6）上，且旋转机构（1）和磁系本体（3）组成的磁系本体组在平台（6）上的布置方式以熔炼炉需搅拌区域大小对应布置；

所述布置在平台（6）上的各磁系本体组由全部电磁式磁系本体组成，或者由全部永磁式磁系本体组成，或者由电磁式磁系本体与永磁式磁系本体组成。

2. 根据权利要求1所述的多磁系并用底装式熔炼炉搅拌器，其特征在于所述的由旋转机构（1）和磁系本体（3）组成的各磁系本体组单排均匀分布于平台（6）上。

3. 根据权利要求1所述的多磁系并用底装式熔炼炉搅拌器，其特征在于所述的由旋转机构（1）和磁系本体（3）组成的各磁系本体组均匀横排并设置至少二排于平台（6）上，且相邻两排磁系本体组之间错位布置。

4. 根据权利要求1所述的多磁系并用底装式熔炼炉搅拌器，其特征在于所述的设置在平台（6）上的各磁系本体组通过控制柜控制单台或多台运行。