CN204162789U - 用于加热cvd反应器的基座的设备 - Google Patents

用于加热cvd反应器的基座的设备 Download PDF

Info

Publication number
CN204162789U
CN204162789U CN201420247512.3U CN201420247512U CN204162789U CN 204162789 U CN204162789 U CN 204162789U CN 201420247512 U CN201420247512 U CN 201420247512U CN 204162789 U CN204162789 U CN 204162789U
Authority
CN
China
Prior art keywords
pad
strut member
equipment
heating
opening
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN201420247512.3U
Other languages
English (en)
Inventor
P-A.伯丁
M.E.奥彭
K.艾伦
F.M.A.克劳利
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Aixtron SE
Original Assignee
Aixtron SE
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Aixtron SE filed Critical Aixtron SE
Application granted granted Critical
Publication of CN204162789U publication Critical patent/CN204162789U/zh
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/46—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for heating the substrate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/458—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for supporting substrates in the reaction chamber
    • C23C16/4582—Rigid and flat substrates, e.g. plates or discs
    • C23C16/4583—Rigid and flat substrates, e.g. plates or discs the substrate being supported substantially horizontally
    • C23C16/4586—Elements in the interior of the support, e.g. electrodes, heating or cooling devices

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Resistance Heating (AREA)
  • Connection Of Plates (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本实用新型涉及一种用于加热CVD反应器(1)的基座(4)的设备，具有至少一个加热件(9、19)，其中，加热件(9、19)的部段或者不同的加热件(9、19)并排延伸并且借助支撑件(10、20)相对于支撑板被位置固定，其中，支撑件(10、20)分别具有形状接合地插入支撑板(29)的固定开口内的支脚(15、16、17；25、26、27)和与横向于支撑板(29)的延伸面延伸的柄部(14、24)相连接的头部(11、12、13；21、22、23)，加热件(9、19)固定在头部(11、12、13；21、22、23)上。为了改进支撑件和连接件在加热设备上的固定，建议支脚(15、16、17；25、26、27)通过形状接合固定件(15、16、17；25、26、27)固定在支撑板(29)的固定开口(38)内，形状接合固定件(15、16、17；25、26、27)将支撑件(10、20)束缚在支撑板(29)上。

Description

用于加热CVD反应器的基座的设备
技术领域
本发明涉及一种用于加热尤其CVD(化学气相沉积)反应器的基座的设备，具有至少一个加热件，其中，所述加热件的部段或者不同的加热件并排延伸并且借助支撑件相对于支撑板被位置固定，其中，所述支撑件分别具有形状接合地、牢固地插入所述支撑板的固定开口内的支脚，并且其中与横向于所述支撑板的延伸面延伸的柄部相连接的头部固定在颈部件上。 
本发明还涉及一种用于加热尤其CVD反应器的基座的设备，具有至少一个加热件，所述加热件与至少一个接触板相连接，所述接触板借助连接件相对于支撑板被位置固定。 
背景技术
CVD反应器具有反应器壳体，处理室处于反应器壳体内。反应器壳体将处理室气密地与周围环境相隔绝。进气机构处于在反应器壳体内，气体原料通过进气机构被导入处理室中。待涂覆的基板安置在基座上。基座构成处理室的底板，气体原料被输入到处理室内。为了在基板上沉淀层，基板表面必须被加热到处理温度，该处理温度在1000℃范围内。这通过安置在基座下面的加热设备实现。位于基座几厘米之上的进气机构常常例如通过冷却液被冷却。由此，在处理室内产出了变化剧烈的垂直温度差，其导致从基座到进气机构的加大的放热。因此为了达到处理温度，需要加热设备以较大的导热率进行输入。加热设备的加热件必须将温度加热到约2000℃。此外还需要大面积的加热。 
US 7,645,342 B2描述了一种加热设备，具有围绕中心圆弧形布置的加热丝。加热丝借助支撑件与支撑板相连接。 
在DE 26 30 466 A1或US 3,345,498中描述了一种沿螺旋线延伸的加热件。US 7,573,004也示出一种在圆弧线上延伸的加热件。由US 3,567,906已知一种波纹形状延伸的加热件。 
例如DE 10 2009 043 960 A1、DE 10 2007 009 145 A1、DE 103 29 107 A1、 DE 10 2005 056 536 A1、DE 10 2006 018 515 A1或DE 10 2007 027 704 A1示出一种用于加热CVD反应器的基座的设备。 
发明内容
按照本发明的设备的加热件通过接通电流进行加热。各个加热机构的两个端部与接触板相连接。加热件安置在至少一个平面内。但是也可行的是，加热件在相互不同的平行平面内安置。加热件在相应的平面上沿圆弧形或螺旋形的线延伸。尤其规定，加热件螺旋形地安置。这使得彼此不同的加热器或同一个加热器的不同的部段并排地延伸。为了如此固定并排延伸的加热器的位置，使得即便在加热或冷却时加热设备的部件剧烈移动的情况下，它们也不会相接触，因此设置有支撑件，其将加热件在多个位置、尤其在相互均匀间隔的位置上与支撑板相连接。此外还设置有连接件，一个或多个接触板通过连接件与支撑板相连接。所述连接件还具有的作用是，避免不同的接触板在加热设备加热和冷却时彼此接触。 
本发明所要解决的技术问题是，改进支撑件或连接件在加热设备上的固定。 
所述技术问题通过按照本发明的用于加热尤其CVD反应器的基座的设备得以解决。 
首先并且根本上建议，支撑件具有支脚，该支脚形状接合地、牢固地插入支撑板的固定开口中。支撑件具有柄部，所述柄部横向于支撑板的延伸平面延伸。在柄部的端部上具有头部，加热件固定在所述头部上。设置有形状接合固定件，支脚借助该形状接合固定件固定在支撑板上。所述形状接合固定件将支撑件沿柄部的延伸方向束缚在支撑板上。支撑件由此沿柄部的延伸方向具有最小化的、优选减小到零的移动间隙。在此，设置有从上面夹持支撑板的形状接合固定件和从下面夹持支撑板的形状接合固定件。所述形状接合固定件可以由从柄部上横向于柄部的延伸方向突起的固持凸起或固定凸起构成。优选如此设计至少一个固持凸起，使得该固持凸起可穿过支撑板的固定开口。通过旋转和/或弯曲操作，至少一个固定凸起可以被置入束缚位置中。例如将支撑件在插入固定开口后旋转90°，由此可以实现上述操作。但还可行的是，仅弯曲至少一个固持凸起，使得固持凸起的部段可以支承在支撑板的底侧上。固定凸起安置在支撑板的上侧上。优选分别设置有两个固持 凸起和两个固定凸起。两个凸起对可以设计为从柄部的侧面凸起的接片。在固持凸起和固定凸起之间延伸着颈部，该颈部在支撑件的固定状态下位于固定开口中。固定凸起和/或固持凸起也可以支承在插入件上。插入件可以是绝缘体。在这种情况下，支撑板可以由金属材料制造。支撑板能够尤其由钨或钼构成。但还可规定，支撑板由陶瓷材料制成。支撑板尤其是绝缘的。至少支撑件的支脚可以被设计为平板件。固定开口可以是长孔。该长孔可以具有窄孔段，该窄孔段的宽度等于支撑件或支脚的材料厚度。支撑件可以由例如钨或钼构成的金属平板件制成。在此能够是冲压件。此外，固定开口具有宽孔段，该宽孔段的宽度等于颈部的宽度，使得颈部可以在较宽的固定孔部段的内部旋转90°，以便侧向突出的固定凸起可以从下面扣住支撑板的底侧。支撑件的头部可以具有至少一个弧形延伸的支承面。侧面的臂在侧面设置在该支承面的两侧。支承面可以被设计为弧形的凹穴(Mulde)。但也可规定，支承面由四周封闭的开口的边缘构成。开口可以具有圆形的横截面。支承面优选可以具有齿纹。加热件接触地贴靠在支承面上。加热件可以是一种螺旋盘绕的加热线。优选延伸有两条并排的、设计为双股螺旋线的加热线。通过固定线，设计为加热件的加热线被固定在支撑件上。为了将固定线固定，支撑件和尤其支撑件的头部具有至少一个凹槽。但也可以设置多个凹槽，在固定状态下固定线置于凹槽中。 
此外，本发明还涉及对连接件的改进，一个或多个接触板通过连接件与支撑板相连接。接触板通过连接件被位置固定。通过连接件也可以将两个平行平面安置的接触板相互连接。由此，连接件也可以共同将在三个平行平面安置的板件、即支撑板和两个接触板相互连接。在此也设置有形状接合固定件，该形状接合固定件将连接件的部段分别固持在支撑件的开口或接触板的开口中。形状接合固定件也可以嵌接在插入开口中的绝缘体上。当支撑板由金属制成或者当两个接触板相互连接时，这尤其是有利的。形状接合固定件如此设计，使得该形状接合固定件将支撑板或至少一个接触板沿连接件的延伸方向、也就是沿横向于接触板或支撑板的延伸平面束缚在连接件上。所述连接件按照本发明以最小化的移动间隙被束缚在接触板或支撑板上。为了将两个接触板相互连接至少设置有间隔体。在此这种间隔体能够是一种套筒形状的部件，其被连接件穿过。形状接合固定件可以是支撑凸起，该支撑凸起嵌接在支撑板或接触板上或者在插入开口内的绝缘体上。但是还可以规定， 形状接合固定件被设计为连接件的横向开口，固定件的销插入该横向开口中。所述固定件能够是一种盘状的部件，其通过一个舌片形成插入连接件开口中的固定销。连接件的两个端部尤其分别具有横向开口，所述销插入该横向开口中。通过插入或穿透所述开口而实现连接件的装配。所述开口具有足够的开口尺寸，使得支撑凸起可以在此穿过。然而为了可以实现支撑件的支承，支撑件可以支承在垫片上。垫片可以具有一条缝隙，使得垫片随之可以安置在支撑凸起的下面。插入件、尤其绝缘体可以被分为两部件，使得所述插入件同样可以在穿过连接件之后能够穿过开口装配。尤其两部件形式的绝缘体具有直径较小的部段，该部段可以插入接触板的开口中。插入件的直径较大的部段支撑在接触板的上表面上。 
前述支撑件不仅可以由导电材料制造。还规定，支撑件或连接件由陶瓷材料制造或者所述支撑件或连接件具有绝缘层、例如以30至40μm的层厚度被涂层。即可以将绝缘的支撑件/连接件涂层，也可以将导电的支撑件/连接件涂层。使用绝缘的支撑件或连接件的优点是，支撑板可以由导电材料、如钼制成，并且为了连接接触板不需要设置绝缘体。 
还建议，支撑板由金属制造并且具有30至40μm的涂层。在前述支撑板的涂层中，支撑件或连接件可以是一种碳化硅。金属的支撑件或连接件优选被涂覆有碳化硅涂层，因为这种保护层阻止了由陶瓷材料、如氮化硼(Bohrnitrit)制成的支撑板与金属的、可由钼构成的支撑件或连接件之间的反应。 
附图说明
以下结合附图对本发明的实施例进行说明。在附图中： 
图1示出CVD反应器的结构示意图， 
图2示出多区加热器的侧视图， 
图3示出多区加热器的俯视图， 
图4示出沿剖切线IV-IV剖切支撑件的第一实施例所得的剖面图， 
图5示出在插入孔内置入的第一阶段的第一支撑件的立体图， 
图6示出根据图5的在插入孔内固定插入件的第二阶段的示意图， 
图7示出根据图5的支撑件10在支撑板29上形状接合地束缚后的示意图， 
图8示出加热件9借助固定线14在支撑件10上的固定， 
图9示出支撑件10的第二实施例， 
图10示出支撑件10的第三实施例， 
图11示出支撑件10的第四实施例， 
图12示出支撑件10的第五实施例， 
图13示出在根据图5的视图内支撑件的固定，但是具有变化的插入孔38， 
图14示出支撑件10的第六实施例， 
图15示出根据图3的剖切线XV-XV剖切所得的视图内，支撑件的第七实施例， 
图16示出图15所示支撑件20的立体图， 
图17示出沿图3的剖切线XVII-XVII剖切所得的剖面图， 
图18示出图17的剖面图区域的立体图， 
图19示出根据图18的视图，但是具有完整的间隔体37、绝缘体35和固定件36， 
图20示出沿图17的剖切线XX-XX剖切所得的剖面图，和 
图21示出连接件30的第二实施例。 
具体实施方式
图1示意性地示出CVD反应器的粗略结构。该CVD反应器具有向外气密的例如由不锈钢制成的壳体，在壳体内接合未示出的供气管道。供气管道接合在进气机构3的空腔内，进气机构3具有排气面，该排气面构成处理室2的遮盖面。处理气体通过排气板内的出气孔流入处理室2内。处理室2的底板由基座4构成，在该基座4上放置有待涂覆的基板、例如硅基板，但也能是由III和IV主族元素构成的基板。由石墨制成的基座4借助加热设备5从底侧被加热。 
图2示出按照本发明的加热设备的侧视图。图3示出其俯视图。加热设备5由三个相互分隔的加热器6、7、8构成。中央的加热器6位于中心并且构成第一加热区域。第一加热区域被围绕中央加热器6的环形的加热器7所环绕，该加热器7构成第二加热区域。第三加热区域由外围环形构成，其形成外侧的加热器8。加热器6、7、8中的每一个都具有布置为螺旋曲线的加 热件9、19。在一条螺旋曲线上相继安置有多个加热件。 
加热器6、7、8的加热件是电气并联的。每个加热件9、19通过连接触点与接触板39、40相连接。在两个内侧加热器6、7内，两个接触板39、40安置在同一个平面内。在外侧的加热器8内，接触板39、40安置在两个不同的水平面上，也就是安置在两个彼此间隔的平面内。接触板39、40或加热件9、19的通电通过向下突起的接触销45实现。 
加热件9、19出于简要的原因在图2至7中被显示为在螺旋曲线上延伸的实心圆柱体。图8示出加热件的详细视图。每个加热件9、19都由螺旋盘绕的加热丝构成。这种丝由钨构成。在图8中示出的加热件9由单一的、螺旋盘绕的钨丝制成。但也可以由两条或多条加热线形成螺旋线圈。这些加热线并排延伸。 
图4示出支撑件10的第一实施例，加热件9、尤其是加热螺旋线圈通过该支撑件10与支撑板29保持确定的间距。支撑板29由非导热材料、如陶瓷制成，并且在承载加热器6、7、8的整个表面上延伸。中央加热器6的支撑板具有圆盘形状。两个外侧加热器7、8的支撑板具有圆环形状。支撑板29也可以由多个单独的板件组合而成。 
支撑件10具有由两个臂11、12构成的头部，在两个臂之间延伸着弧形的支承面13。支撑件10由平坦的金属件、如钨件或钼件制成。支承面13具有齿纹，其通过在弧形的支承面加工的刻槽制成。支承面13的弧线延伸走向与加热件9的螺旋线圈的曲率变化相一致。 
在头部区域内设置钩形的凹槽18、18’。这些凹槽设置用于借助固定丝线将加热件9固定在支撑件10的头部上。 
支撑件10具有柄部14，其一个端部延伸至头部内，并且其另一个端部延伸至支脚内。支撑件10的支脚形状接合地与支撑板29相固定。为此设置有形状接合固定件。该形状接合固定件包括两个彼此背向的支撑凸起15。该支承凸起15横向于柄部14的延伸方向从支撑件10上突出，用于自身支承在支撑板29的上侧面上。支撑件10的与头部相对置的端部由两个彼此背向的固持凸起16构成。该固持凸起16同样是横向于柄部14的延伸方向从支撑件10上突出的接片。在两个固持凸起16和支撑凸起15之间延伸着颈部17，该颈部17的长度与支撑板29的材料厚度一致，使得在装配状态下，支撑板29被固持凸起16从下端夹持并且被支撑凸起15从上端夹住。 
由图4还可以看到，支撑板29在与盖板47和置于盖板下的接触板40平行的平面内延伸。 
图5至7示出插入孔38的第一变型方案，该插入孔38设置在支撑板29内，用于束缚支撑件10。在支撑板29内设置有多个这种插入孔38，每个插入孔相应地与一个支撑件10装配，使得加热件9、10可以在多个圆周位置上被束缚在支撑板29上。 
插入孔38具有窄部段38’和宽部段38”。窄部段38’具有大约等于支撑件10的支脚的材料厚度的缝隙宽度。插入孔38的长度被如此足够地定尺寸，使得支撑件10的支脚连同支撑件的固持凸起16可以插进穿过插入孔38。这由图5详细示出。如果固持凸起16插进穿过插入孔38，则支撑件10可以侧向移入图6所示的位置中，在该位置上颈部17位于插入孔38的较宽的、具有圆形轮廓的部段38”内。较宽的圆形部段38”的直径等于颈部17的宽度，使得颈部17可以在孔部段38”内旋转，直至达到图7所示的位置，在该位置上支撑凸起15以及固持凸起16横向于插入孔38的窄部段的延伸方向地延伸。插入孔38当前具有固定孔38的功能，因为插入孔位置固定地且横向于柄部14的延伸方向地将支撑件10束缚在支撑板29上。支撑件10的转动位置通过被支撑件10支撑的加热件9所固定。 
图8示出线44形式的束缚件，加热螺旋线圈9通过该线44被拴在支撑件10的头部上。支撑件10具有两个不同长度的臂11、12。此外，较短的臂12被设计为比较长的臂11更窄。这种被减小的横向延伸量使得两个相邻延伸的加热件9的径向间距被最小化。 
在图9所示的实施例中，支承面13被设计为在支撑件10头部内的圆形封闭开口的环形开口边缘表面。图9还示出，通过将支撑凸起15以及固持凸起16从支撑件10的延伸平面向外弯曲可以实现附加的形状接合的束缚。 
图10示出支撑件10的第三实施例，其中两个臂11被设计为具有相同长度。支承面13构成U型开口的底面，该支承面13在此也由被凹槽相互分割的肋板构成。 
图11示出支撑件的第四实施例，并且图12示出支撑件的第五实施例。在此，支撑件也由平面部件构成，并且本质上通过短臂12的结构设计与前述支撑件相区别。 
图13示出固定开口或插入孔38的变型方案。固定开口38在此具有两 个窄部段38’，它们相对于宽部段38”彼此对置。在此，支撑件10也可以实现与具有插入孔38的支撑板29的插接形式的连接。但是在此，在插入后支撑件10无需侧向移位。 
图14示出支撑件的第六实施例，其中固持凸起16由弹簧臂构成，在支撑件10的支脚插入后，该弹簧臂可以在支撑位置中弹性夹紧。在该实施例中，支撑板29由金属制成。在插入孔38中置入绝缘体35。绝缘体35分别具有凸缘，该凸缘贴靠在支撑板29的上侧或底侧上。在该凸缘上支承着支撑凸起15或固持凸起16。由金属构成的支撑件10由此相对于支撑板29被绝缘。 
图15示出支撑件20的第七实施例和背景中的连接件30，支撑板29通过连接件30与两个接触板39、40相连接。在图1至14中示出的支撑件配属于内侧加热器6、7，同时图15所示的支撑件20配属于外侧加热器8。加热件19在此也被显示为圆柱体。然而，加热件实际的结构设计与图8所示相一致。加热件可以是一种螺旋盘绕的钨丝。在此，螺旋线圈也可以由钨丝或多条相互平行延伸的加热线构成。支撑件20在此总共支承着五个加热件19。加热件19可以相互接触。加热件19位于不同的、相互间隔的平面内，这些平面平行于支撑板29的平面延伸。由此，支撑件20的头部被设计为多个相叠布置的分别容纳加热件19的凹穴23。在此，也可以通过固定线实现加热件19在凹穴23内的固定。为了系住固定线，所述支撑件20具有凹槽28。 
支撑件20的支脚在此也固定在支撑板29的孔38内，其可以依据上述实施例进行结构设计。从支撑件20的柄部24上突出有支撑凸起25和固持凸起26。支撑凸起25与前述实施例中的支撑凸起15相一致。固持凸起26与前述实施例中的固持凸起16相一致，从而可引用上述相关的设计方案，实施支撑件20的支脚在插入孔38内的固定。在此也通过插接-转动操作实现所述固定。 
图17至20示出连接件30的第一实施例，支撑板29通过该连接件30与接触板39或40相连接。设置有多个在加热器8的基础面上的相互不同的位置上延伸的连接件30。外侧加热件8具有在两个不同的平面上安置的接触板39、40。为了使两个接触板39、40保持恒定的间距，设置有套筒形状的、由陶瓷材料制成的间隔体37。在套筒形状的间隔体37的空腔内，相应延伸 有连接件30。连接件30在两个接触板39、40上的束缚通过形状接合固定件实现。两个彼此背离指向的支撑凸起31支撑在绝缘体35上，该绝缘体35在与间隔体37相对置的一侧上部分地插入接触板39的开口42内。绝缘体35可以由两个半部件构成，它们互补成圆柱体。支撑凸起31可以支撑在垫片46上，该垫片46不是侧向在连接件30上隆起就是插入穿过开口42。 
套筒状的间隔体37的轴向长度限定了两个接触板39、40的间距。间隔体37的端部边缘支撑在下部接触板40的上侧上。间隔体37的上端部边缘支承着上部接触板39。 
从置于间隔体37的空腔内的连接件30的部段上突出有两个侧翼32，该侧翼32使间隔体定心在相对于开口42的同心位置上。 
连接件30的端部部段穿过下部接触板40的开口43。在接触板40的开口43内插入绝缘体35。在此，该绝缘体35局部从与间隔体37相对置的开口侧突出。在绝缘体35的端侧上安置有垫片46，固定件36支承在该垫片46上。固定件36具有设计为销的舌片，其穿过连接件30的横向开口34。借助支撑凸起31和固定件36将连接件30轴向束缚在两个接触板40上。 
支撑板29与上部接触板39相间隔地延伸。支撑板29具有开口41，连接件30的端部部段穿过该开口41。在支撑板29的底侧区域内存在连接件30的支撑凸起31，支撑板29在中间安置有垫片的情况下支承在该支撑凸起31上。 
从支撑板29的上侧突起的连接件30的端部通过固定件36被束缚在支撑板29上。该固定件36构成舌片，其穿过连接件30的横向开口33。在支撑板29的上侧和固定件36之间在此具有垫片46。 
通过将插进入开口33或34的舌片的端部弯曲，从而实现固定件36的稳定的固定。 
图21示出连接件30的剖面图，该连接件用于两个内侧加热器6、7。因为在该实施例中两个接触板39、40在一个平面内延伸，所以为了将接触板40与支撑板29相连接，设置有连接件30。在此，支撑板29的底侧也支撑在支撑凸起31上，其中在此也设置有垫片46。在此也通过固定件36的舌片实现连接件30与支撑板29的上侧的固定，该固定件穿过连接件30的横向开口。 
向下指向的支撑凸起支撑在垫片46上，该垫片46安置在绝缘体35上， 该绝缘体35嵌入盖板47的开口中。插入盖板开口中的绝缘体35也具有间隔体的功能，因为绝缘体35使盖板47与接触板40保持一定间距。另一个绝缘体35从底侧插入接触板40的开口中，该另一个绝缘体借助固定件36固定。在此，固定件36的舌片也穿过连接件30的横向开口。 
前述实施方式用于描述在本申请中整体包含的发明内容，其通过以下技术特征组合相对于现有技术相应独立地进行改进，其特征包括： 
一种设备，其特征在于，支脚15、16、17；25、26、27通过形状接合固定件15、16、17；25、26、27固定在支撑板29的固定开口38内，所述形状接合固定件15、16、17；25、26、27将支撑件10、20沿柄部14、24的延伸方向束缚在支撑板29上。 
一种设备，其特征在于，形状接合固定件15、16、17；25、26、27具有至少一个横向于柄部14、24的延伸方向延伸的固持凸起16、26，在安装支撑件10、20时，所述固持凸起16、26能够穿过固定开口38并且在转动支撑件10、20和/或固持凸起16、26变形后从下端扣住支撑板29或插入固定开口38内的插入件35，并且形状接合固定件15、16、17；25、26、27还具有至少一个横向于柄部14、24的延伸方向延伸的固定凸起15、25。 
一种设备，其特征在于，插入件35是绝缘体，并且支撑板29由金属构成。 
一种设备，其特征在于，支脚15、16、17；25、26、27至少被设计为平面部件，并且固定开口38至少被设计为长孔，所述长孔具有窄孔段38’和宽孔段38”，所述窄孔段38’的宽度基本上等于固持凸起16的材料厚度，所述宽孔段38”基本上等于在支撑凸起15和固持凸起16之间延伸的颈部17的宽度。 
一种设备，其特征在于，头部11、12、13；21、22、23具有至少一个弧形走向的支承面13、23，尤其由螺旋盘绕的加热线构成的加热件9、19贴靠在支承面13、23上，其中尤其规定，所述支承面13、23被设计为凹穴23或环形封闭的孔并且尤其具有贴靠在加热件9、19上的齿纹表面。 
一种设备，其特征在于，支撑件10、20具有至少一个凹槽18、18’、28、28’，线44设置在凹槽18、18’、28、28’内，加热件9、19借助凹槽18、18’、28、28’固定在支撑件10、20上。 
一种设备，其特征在于，支撑件10、20由平坦的尤其由钨或钼构成的 金属件制成，并且尤其被设计为冲压件。 
一种设备，其特征在于，连接件30分别插入支撑板29的开口41中和接触板39、40的开口42、43中，并且在此通过形状接合固定件31、32、34、36被固定。 
一种设备，其特征在于，形状接合固定件32、34、36固定在插入开口42、43内的绝缘体35上。 
一种设备，其特征在于，至少一个接触板39、40、支撑板29和至少一个加热件9、19在三个彼此平行延伸的平面内延伸，并且支撑板29支撑着支撑件10、20，至少一个加热件9、19借助支撑件10、20相对于支撑板29被位置固定。 
一种设备，其特征在于，连接件30将两个在平行平面内彼此间隔布置的接触板39、40相互连接，其中，连接件30尤其穿过由绝缘材料制成的间隔体37。 
一种设备，其特征在于，连接件30是由金属、尤其钨或钼构成的扁平体，并且形状接合件31、32被设计为凸起，所述凸起支承在支撑件29或接触板39、40的表面上或插入开口41、42、43之一内的插入件35上，和/或形状接合固定件由连接件30的横向开口33、34和插入其中的固定件36的销构成。 
所有公开的特征(本身及其相互组合)都有发明意义或发明价值。在本申请的公开文件中，所属/附属的优先权文本(在先申请文件)的公开内容也被完全包括在内，为此也将该优先权文本中的特征纳入本申请的权利要求书中。从属权利要求的特征都是对于现有技术有独立发明意义或价值的改进设计，尤其可以这些从属权利要求为基础提出分案申请。 
附图标记列表 
1    CVD反应器 
2    处理时 
3    进气机构 
4    基座 
5    加热设备 
6    加热器 
7    加热器 
8    加热器 
9    加热件 
10   支撑件 
11   臂 
12   臂 
13   支承面 
14   柄部 
15   支撑凸起 
16   固持凸起 
17   颈部 
18   凹槽 
18’ 凹槽 
19   加热件 
20   支撑件 
21   臂 
22   臂 
23   凹穴 
24   柄部 
25   支撑凸起 
26   固持凸起 
27   颈部 
28   凹槽 
28’ 凹槽 
29   支撑板 
30   连接件 
31   支撑凸起 
32   侧翼 
33   横向孔 
34    横向孔 
35    绝缘体 
36    固定件 
37    间隔体 
38    插入孔 
38’  窄插入孔 
38”  宽插入孔 
39    接触板 
40    接触板 
41    开口 
42    开口 
43    开口 
44    线 
45    接触销 
46    垫片 
47    盖板 

Claims (12)

1.一种用于加热CVD反应器(1)的基座(4)的设备，具有至少一个加热件(9、19)，其中，所述加热件(9、19)的部段或者不同的加热件(9、19)并排延伸并且借助支撑件(10、20)相对于支撑板被位置固定，其中，所述支撑件(10、20)分别具有形状接合地、牢固地插入所述支撑板(29)的固定开口内的支脚和与横向于所述支撑板(29)的延伸面延伸的柄部(14、24)相连接的头部(11、12、13；21、22、23)，所述加热件(9、19)固定在所述头部(11、12、13；21、22、23)上，其特征在于，所述支脚通过形状接合固定件固定在所述支撑板(29)的固定开口(38)内，所述形状接合固定件将所述支撑件(10、20)沿所述柄部(14、24)的延伸方向束缚在所述支撑板(29)上。 
2.如权利要求1所述的设备，其特征在于，所述形状接合固定件具有至少一个横向于所述柄部(14、24)的延伸方向延伸的固持凸起，在安装所述支撑件(10、20)时，所述固持凸起能够穿过所述固定开口(38)并且在转动所述支撑件(10、20)和/或所述固持凸起变形后从下端夹持所述支撑板(29)或插入所述固定开口(38)内的插入件(35)，并且所述形状接合固定件还具有至少一个横向于所述柄部(14、24)的延伸方向延伸的固定凸起。 
3.如权利要求2所述的设备，其特征在于，所述插入件(35)是绝缘体，并且所述支撑板(29)由金属构成。 
4.如权利要求2或3所述的设备，其特征在于，至少所述支脚被设计为平面部件，并且所述固定开口(38)被设计为长孔，所述长孔具有窄孔段(38’)和宽孔段(38”)，所述窄孔段(38’)的宽度基本上等于所述固持凸起的材料厚度，所述宽孔段(38”)基本上等于在所述支撑凸起和固持凸起之间延伸的颈部的宽度。 
5.如权利要求1所述的设备，其特征在于，所述头部(11、12、13；21、22、23)具有至少一个弧形走向的支承面(13、23)，由螺旋盘绕的加热线构成的所述加热件(9、19)贴靠在所述支承面(13、23)上，和/或所述支承面(13、23)被设计为凹穴(23)或四周封闭的孔和/或具有贴靠在所述加热件(9、19)上的齿纹表面。 
6.如权利要求1所述的设备，其特征在于，所述支撑件(10、20)具有至少一个凹槽(18、18’、28、28’)，线(44)设置在所述凹槽(18、18’、28、28’) 内，所述加热件(9、19)借助所述线(44)固定在所述支撑件(10、20)上。 
7.如权利要求1所述的设备，其特征在于，所述支撑件(10、20)由平坦的金属部件制成并且被设计为冲压件。 
8.一种用于加热CVD反应器(1)的基座(4)的设备，具有至少一个加热件(9、19)，所述加热件(9、19)与至少一个接触板(39、40)相连接，所述接触板(39、40)借助连接件(30)相对于支撑板(29)被位置固定，其特征在于，所述连接件(30)分别插入所述支撑板(29)的开口(41)中和所述接触板(39、40)的开口(42、43)中，并且在此通过形状接合固定件被固定。 
9.如权利要求8所述的设备，其特征在于，所述形状接合固定件固定在插入所述开口(42、43)的绝缘体(35)中。 
10.如权利要求8或9所述的设备，其特征在于，所述至少一个接触板(39、40)、所述支撑板(29)和所述至少一个加热件(9、19)在三个彼此平行延伸的平面内延伸，并且所述支撑板(29)支撑着支撑件(10、20)，所述至少一个加热件(9、19)借助所述支撑件(10、20)相对于所述支撑板(29)被位置固定。 
11.如权利要求8所述的设备，其特征在于，所述连接件(30)将两个在平行平面内彼此间隔布置的接触板(39、40)相互连接，其中，所述连接件(30)穿过由绝缘材料制成的间隔体(37)。 
12.如权利要求11所述的设备，其特征在于，所述连接件(30)是由金属构成的扁平体，并且所述形状接合件被设计为凸起，所述凸起支撑在所述支撑板(29)或所述接触板(39、40)的表面上或插入所述开口(41、42、43)之一内的插入件(35)上，和/或所述形状接合固定件由所述连接件(30)的横向开口和插入其中的固定件的销构成。 
CN201420247512.3U 2013-11-26 2014-05-14 用于加热cvd反应器的基座的设备 Expired - Fee Related CN204162789U (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102013113046.1 2013-11-26
DE102013113046.1A DE102013113046A1 (de) 2013-11-26 2013-11-26 Stütz- bzw. Verbindungselemente an einem Heizorgan eines CVD-Reaktors

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN204162789U true CN204162789U (zh) 2015-02-18

Family

ID=52536497

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201420247512.3U Expired - Fee Related CN204162789U (zh) 2013-11-26 2014-05-14 用于加热cvd反应器的基座的设备
CN201410202884.9A Active CN104674194B (zh) 2013-11-26 2014-05-14 Cvd反应器的加热机构上的支撑件和连接件

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201410202884.9A Active CN104674194B (zh) 2013-11-26 2014-05-14 Cvd反应器的加热机构上的支撑件和连接件

Country Status (3)

Country Link
CN (2) CN204162789U (zh)
DE (1) DE102013113046A1 (zh)
TW (2) TWI628308B (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104674194A (zh) * 2013-11-26 2015-06-03 艾克斯特朗欧洲公司 Cvd反应器的加热机构上的支撑件和连接件
CN109136885A (zh) * 2017-06-19 2019-01-04 北京北方华创微电子装备有限公司 线圈调节机构、感应加热装置和气相沉积设备

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102014112645A1 (de) 2014-09-03 2016-03-03 Aixtron Se Heizeinrichtung
CN104962881B (zh) * 2015-06-12 2018-08-03 北京中科优唯科技有限公司 高温化学气相沉积设备及其加热系统
DE202016103834U1 (de) * 2016-07-15 2017-10-19 Aixtron Se Vorrichtung zum Beheizen eines Suszeptors eines CVD-Reaktors

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3345498A (en) 1965-02-01 1967-10-03 Gen Motors Corp Infrared surface heating unit
DE1565416A1 (de) * 1966-03-22 1970-03-05 Bbc Brown Boveri & Cie Keramischer Heizleitertraeger
US3567906A (en) 1969-04-14 1971-03-02 Gen Electric Planar surface heater with integral fasteners for heating element
US3991298A (en) 1975-07-28 1976-11-09 Gould Inc. Heating unit for a ceramic top electric range
US4458141A (en) * 1980-11-14 1984-07-03 Tutco, Inc. Electric heater and coil support insulator therefor
GB8625556D0 (en) * 1986-10-25 1986-11-26 Micropore International Ltd Radiant heaters
US5128515A (en) * 1990-05-21 1992-07-07 Tokyo Electron Sagami Limited Heating apparatus
JP2647799B2 (ja) * 1994-02-04 1997-08-27 日本碍子株式会社 セラミックスヒーター及びその製造方法
ES2188024T3 (es) * 1997-11-07 2003-06-16 Blum Gmbh Julius Herraje.
US6740853B1 (en) * 1999-09-29 2004-05-25 Tokyo Electron Limited Multi-zone resistance heater
JP4009100B2 (ja) * 2000-12-28 2007-11-14 東京エレクトロン株式会社 基板加熱装置および基板加熱方法
CN2578590Y (zh) * 2001-05-08 2003-10-08 雷永健 板与管的固定装置
DE10329107B4 (de) 2002-12-23 2015-05-28 Mattson Thermal Products Gmbh Verfahren zum Bestimmung wenigstens einer Zustandsvariablen aus einem Modell eines RTP-Systems
US7645342B2 (en) 2004-11-15 2010-01-12 Cree, Inc. Restricted radiated heating assembly for high temperature processing
DE102005056536A1 (de) 2005-11-28 2007-05-31 Aixtron Ag CVD-Reaktor mit widerstandsbeheiztem Suszeptor
US7573004B1 (en) 2006-02-21 2009-08-11 Structured Materials Inc. Filament support arrangement for substrate heating apparatus
DE102006018515A1 (de) 2006-04-21 2007-10-25 Aixtron Ag CVD-Reaktor mit absenkbarer Prozesskammerdecke
DE102007009145A1 (de) 2007-02-24 2008-08-28 Aixtron Ag Vorrichtung zum Abscheiden kristalliner Schichten wahlweise mittels MOCVD oder HVPE
DE102007027704A1 (de) 2007-06-15 2008-12-18 Aixtron Ag Vorrichtung zum Beschichten von auf einem Suszeptor angeordneten Substraten
JP4913695B2 (ja) * 2007-09-20 2012-04-11 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置及びそれに用いる基板載置台
DE102009043960A1 (de) 2009-09-08 2011-03-10 Aixtron Ag CVD-Reaktor
CN202144514U (zh) * 2011-07-04 2012-02-15 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 加热器定位调整装置
CN202881385U (zh) * 2012-09-07 2013-04-17 富强半导体有限公司 晶圆加热装置
DE102013113046A1 (de) * 2013-11-26 2015-05-28 Aixtron Se Stütz- bzw. Verbindungselemente an einem Heizorgan eines CVD-Reaktors

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104674194A (zh) * 2013-11-26 2015-06-03 艾克斯特朗欧洲公司 Cvd反应器的加热机构上的支撑件和连接件
CN109136885A (zh) * 2017-06-19 2019-01-04 北京北方华创微电子装备有限公司 线圈调节机构、感应加热装置和气相沉积设备

Also Published As

Publication number Publication date
TWI628308B (zh) 2018-07-01
CN104674194A (zh) 2015-06-03
CN104674194B (zh) 2019-05-28
TWM512201U (zh) 2015-11-11
TW201520365A (zh) 2015-06-01
DE102013113046A1 (de) 2015-05-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN204162789U (zh) 用于加热cvd反应器的基座的设备
KR102555735B1 (ko) 배기가스 히터
US7003014B2 (en) Electric heater for thermal treatment furnace
EP0103809B1 (en) High frequency induction coupled plasma torch
CN103153146B (zh) 动态流动加热器
KR20200119226A (ko) 고온 전극 연결들
US8422871B2 (en) Immersion heater
US11852271B2 (en) Modular heater systems
EP3043105B1 (en) Heater device for heating liquefied gas
TW201941260A (zh) 多區域加熱器
CN102022601B (zh) 用于排出线的加热管及半导体工程的排出线结构
US20130167894A1 (en) Annular semiconductor element and annular insulation material for a thermoelectric module, thermoelectric module and method for manufacturing the module
US20040108308A1 (en) Ceramic heater having a resistant heater element
CN109312890A (zh) 具有热绝缘层的夹具
CN104674196A (zh) 加热设备
US20120223069A1 (en) Resistance heater
CN110024481A (zh) 电磁感应加热装置
JP2011065991A (ja) 大電流プラグコネクタ用電気コンタクト及びその製造方法
TWI646297B (zh) 加熱器支撐裝置
RU2461104C2 (ru) Термостойкая герметичная вилка и способ ее монтажа
KR102157476B1 (ko) 진공 증발원용 히터 및 절연체 어셈블리
JP2021179010A (ja) プレートタイプ加熱装置
CN102190304B (zh) 三氯硅烷制造装置
TWM562955U (zh) 加熱器支撐裝置
KR102666976B1 (ko) 히팅블록모듈

Legal Events

Date Code Title Description
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20150218

Termination date: 20210514