CN203799159U - 成像装置 - Google Patents

Abstract

一种成像装置，包括前透镜组、后透镜组和防抖系统，该前透镜组以从物侧开始的顺序具有前透镜元件和棱镜，沿着第一光轴从前透镜元件发出的光线被棱镜反射，以沿着不平行于第一光轴的第二光轴行进。防抖系统包括支撑棱镜的底部构件、支撑前透镜元件的可移动框架以及相对的引导构件，该相对的引导构件分别位于参考平面的两侧上的棱镜的相对侧上，以支撑可移动框架以允许可移动框架相对于底部构件沿着垂直于第一光轴的平面移动，第一和第二光轴位于该参考平面上。本实用新型实现了成像装置的小型化。

Description

成像装置

技术领域

本实用新型涉及一种配备有防抖（图像抖动校正/图像稳定/抖动减弱）系统的成像装置。 

背景技术

近年来，主要为拍摄静态/动态摄影图像设计的移动电子设备（比如，数字照相机（静态视频照相机）和数字摄像机（动态视频照相机）），以及设计为能够将拍摄这样的摄影图像作为辅助功能的其他移动电子设备（比如，配备有照相机的移动电话以及配备有照相机的平板电脑等）已经成为较为普遍，并且存在一种使包含在这些类型的移动电子设备中的成像单元小型化的需求。为了使成像单元小型化，已知的是构造一种在弯曲光学系统之外的成像单元的光学系统，该弯曲光学系统利用反射物（比如棱镜或镜子）的反射表面来反射（弯曲）光线。在成像单元中利用弯曲光学系统使得能够获得成像单元的厚度的减少，特别是在从待拍摄的物体发射的入射光的行进方向中。 

此外，存在一种需求用于为成像单元配备所谓的防抖（图像抖动校正/图像稳定/抖动减弱）系统，其设计为减弱在由振动（手部抖动）造成的在图像平面上的图像抖动。作为利用配备有防抖系统的弯曲光学系统的成像单元，在现有技术中已知下面的四种不同类型的成像单元：第一种类型（在日本未审查专利公开第2009-86319和2008-268700号中公开），其中图像传感器在垂直于图像平面的方向上移动以减弱图像抖动；第二种类型（在日本未审查专利公开第2010-128384号和日本专利第4,789,655号中公开），其中设置在具有反射表面的反射物（在图像平面侧上）之后的透镜在垂直于光轴的方向上移动以减弱图像抖动；第三种类型（在日本未审查专利公开第2007-228005、2010-204341、2006-330439号和日本专利第4,717,529号中公开），其中改变反射物（其反射表面）的角度和与该反射物邻近的透镜的角度以减弱图像抖动；以及第四种类型（在日本未审查专利公开第2006-166202和2006-259247号中公开），其中倾斜/歪斜全部成像单元以减弱图像抖动。 

在现有技术中已知利用音圈马达（VCM）的防抖系统，其通过穿在放置在永久磁铁的磁场内部的线圈端来施加电流（电压）来生成力（驱动力），从而驱动光学元件（防抖光学元件）以减弱图像抖动（在日本未审查专利公开第2009-86319、2010-128384、2007-228005号和日本专利第4,789,655号中公开）。可以利用测量磁场中的变化的传感器（例如，霍尔传感器）来获得关于防抖光学元件的位置的信 息。 

第一种类型的防抖系统趋于变得结构复杂并且趋于增加成本，这是因为连接至图像传感器的电路板被移动以便跟随图像传感器的移动，这需要除图像传感器之外，在图像传感器周围设置的电子组件也是可移动组件。此外，图像传感器的成像表面的外缘需要是尘密的；但是，在意在包含在移动电话或平板电脑等之中的小成像单元中，难以保证足够的空间以允许图像传感器执行防抖（图像抖动校正/图像稳定/抖动减弱）操作，同时保持图像传感器的尘密结构。 

第二种类型的防抖系统具有一种结构，该结构使得设置在反射物之后的镜头组的移动方向在防抖操作期间对应于成像单元的厚度的方向（即，成像单元的向前/向后方向，其中向着待拍摄物体的方向指的是成像单元的向前（前）方向），并且因此，存在的问题是提供足够的空间以便在缩小的成像单元中容纳这样的防抖结构。换言之，如果使用这种类型的防抖系统，则限制成像单元的缩小。类似的问题也存在于这种类型的防抖系统中，其中在成像单元的厚度方向中移动的是图像传感器而不是透镜组。 

第三种类型的防抖系统需要较大空间，用于使得反射物和透镜组倾斜/歪斜，并且相应地，成像单元易于扩大尺寸。第四种防抖系统需要较大的空间，以允许全部成像单元倾斜/歪斜以减弱图像抖动。 

因此，已经存在一种对于防抖系统的需求，其利用不同的方式来驱动来自以上描述的类型的成像单元的那些防抖光学元件，并且有利于成像装置的小型化和缩小。特别地，已经需要支持防抖光学元件的机构和将驱动力给到防抖光学元件的设备变得简单且尺寸紧凑。 

实用新型内容

本实用新型已经根据以上涉及的缺点进行设计，并且提供了一种成像装置，该成像装置配备有防抖系统，并且其中弯曲光学系统形成了光学路径，其中实现了成像装置的小型化。 

在一个实施方案中，提供了一种成像装置，该成像装置包括前透镜组、至少一个后透镜组以及防抖系统，该前透镜组构成成像装置的成像光学系统的部分，并且设置在相对于光轴方向的固定位置处，其中前透镜组包括以从物侧开始的顺序的至少一个前透镜元件和棱镜，并且其中沿着第一光轴从前透镜元件发出的光线通过棱镜进行反射以沿着与第一光轴不平行的第二光轴行进；该至少一个后透镜组构成了成像光学系统的另一部分，并且设置为比前透镜组更接近图像平面；该防抖系统响应于施加至成像光学系统的振动，沿着垂直于第一光轴的平面驱动前透镜元件，以减弱在图像平面上的图像抖动。该防抖系统包括底部构件、可移动框架以及至少两个相对的引导构件，其中，该底部构件至少支撑前透镜组的棱镜；该可移动框架支撑前透镜组的前透镜元件；该至少两个相对的引导构件沿着 第一光轴观察分别布置为沿着参考平面的两侧上的棱镜的相对侧，从而以允许可移动框架相对于底部构件沿着垂直于第一光轴的平面移动的方式支撑可移动框架，第一光轴和第二光轴位于该参考平面上。 

期望的是，所述防抖系统进一步包括除了所述两个相对的引导构件之外的第三引导构件，所述第三引导构件以允许所述可移动框架相对于所述底部构件沿着垂直于所述第一光轴的所述平面移动的方式支撑所述可移动框架。所述第三引导构件放置在第二参考平面的一侧上，所述第二参考平面包括所述第一光轴并且垂直于所述参考平面，使得所述第二光轴在背离所述第二参考平面的方向上在所述第二参考平面的另一侧上延伸。 

期望的是，所述相对的引导构件包括两个侧导轴，所述两个侧导轴的轴位于垂直于所述第一光轴的平面上。所述可移动构件包括两个侧面可滑动支撑部分，所述两个侧面可滑动支撑部分中的每一个在平行于所述第一光轴的方向上从其两侧保持所述侧导轴的相关联的一个，使得所述侧面可滑动支撑部分的每一个通过相关联的所述侧导轴支撑，从而沿着垂直于所述第一光轴的所述平面能够滑动。 

期望的是，所述第三引导构件包括第三导轴，所述第三导轴的轴位于垂直于所述第一光轴的平面上。所述可移动构件包括第三可滑动支撑部分，所述第三可滑动支撑部分在平行于所述第一光轴的方向上从其两侧保持所述第三导轴，使得所述第三可滑动支撑部分通过所述第三导轴支撑，从而沿着垂直于所述第一光轴的所述平面能够滑动。 

期望的是，所述底部构件和所述可移动框架的所述侧面可滑动支撑部分中的每一个包括开口凹槽，所述开口凹槽具有开口，相关联的侧导轴沿着垂直于所述第一光轴的所述平面在接近所述第一光轴的方向上能够插入到所述开口中。所述底部构件的所述开口凹槽固定地保持插入到相关联的开口的相关联的侧导轴。所述可移动框架的每个所述侧面可滑动支撑部分的所述开口凹槽能够滑动地接触插入到相关联的开口中的相关联的侧导轴。 

期望的是，所述侧面可滑动支撑部分的每一个包括至少一个突出部，所述至少一个突出部形成在相关联的开口凹槽中，以便在平行于所述第一光轴的方向上突出以接触相关联的侧导轴。 

期望的是，所述成像装置进一步包括覆盖构件，所述覆盖构件安装至所述底部构件并且包括外围壁，所述外围壁用于封闭所述底部构件和所述可移动框架的所述侧面可滑动支撑部分的所述开口凹槽的所述开口。 

期望的是，所述侧导轴的轴平行于所述参考平面并且与所述参考平面大致上等距。 

期望的是，所述第三导轴的轴平行于所述第二参考平面。 

期望的是，防抖系统包括第一音圈马达和第二音圈马达，其中，所述第一音圈马达包括分别安装至所述底部构件和所述可移动框架中的一个和另一个的第一 线圈和第一磁铁，以便在平行于所述第一光轴的方向上相对，其中在所述第一线圈通电时，所述第一音圈马达在垂直于所述第一磁铁的磁极边界线的第一方向上生成驱动力；所述第二音圈马达包括分别安装至所述底部构件和所述可移动框架中的所述一个和所述另一个的第二线圈和第二磁铁，以便在平行于所述第一光轴的方向上相对，其中在所述第二线圈通电时，所述第二音圈马达在垂直于所述第二磁铁的磁极边界线的第二方向上生成驱动力。所述第一磁铁和所述第二磁铁放置为使得其所述磁极边界线的方向在垂直于所述第一光轴的平面上彼此垂直。所述第一线圈和所述第二线圈放置为在平行于所述第一光轴的方向上分别面向所述第一磁铁和所述第二磁铁。在这种情况下，如果所述第一磁铁和所述第二磁铁的中心以及所述第一线圈和所述第二线圈的中心放置在第二参考平面的一侧上，所述第二参考平面包括所述第一光轴并且垂直于所述参考平面，其中所述第二光轴在背离所述第二参考平面的方向上在所述第二参考平面的另一侧上延伸，则能够增强空间利用性。 

期望的是，所述相对的引导构件包括两个侧导轴，所述两个侧导轴的轴位于垂直于所述第一光轴的平面上，平行于所述参考平面，并且与所述参考平面大致上等距。所述防抖系统进一步包括第三导轴，所述第三导轴的轴位于垂直于所述第一光轴的平面上并且平行于所述第二参考平面。所述第三导轴放置在所述第二参考平面的一侧上，并且所述第二光轴在背离所述第二参考平面的方向上在所述第二参考平面的另一侧上延伸。所述可移动构件包括至少三个可滑动支撑部分，所述至少三个可滑动支撑部分中的每一个在平行于所述第一光轴的方向上从其两侧保持所述侧导轴和所述第三导轴中的相关联的一个，使得所述可滑动支撑部分中的每一个通过所述相关联的侧导轴和第三导轴支撑，从而能够沿着垂直于所述第一光轴的所述平面滑动。根据沿着所述第一光轴观察，所述第一磁铁、所述第二磁铁、所述第一线圈和所述第二线圈布置在通过所述侧导轴和所述第三导轴限定的U形区域中。 

期望的是，所述第一线圈和所述第一磁铁的组合以及所述第二线圈和所述第二磁铁的组合分别放置在所述参考平面的相对侧上。 

根据本实用新型，放置在前透镜组的棱镜的前方的前透镜组的前透镜元件在垂直于光轴（第一光轴）的方向上移动以抵消图像抖动，使其即使包含有防抖系统，也能够以有效的方式实现成像装置的小型化，特别是对于沿着穿过前透镜元件的第一光轴在向前/向后方向上的成像装置厚度减少。此外，利用至少两个引导构件作为支撑器来增强空间效率并且有助于包括防抖系统的成像装置的小型化，其中，沿着第一光轴观察该至少两个引导构件沿着前透镜组的棱镜的相对侧布置，所述支撑器以允许移动框架移动的方式支撑移动框架（保持前透镜元件）。 

附图说明

下面将根据所附附图具体描述本实用新型，其中： 

图1为根据本实用新型的成像单元的实施方案的立体图； 

图2为移除外壳的成像单元的立体图，示出了成像单元的内部结构； 

图3为成像单元的横截面图； 

图4为构成成像单元的一部分的成像单元的第一透镜组单元的立体分解图； 

图5为移除覆盖构件的成像单元的主视图； 

图6是沿着图5中所示的线VI-VI所呈现的截面图，示出了第一透镜组单元； 

图7是沿着图5中所示的线VII-VII所呈现的截面图，示出了第一透镜组单元； 

图8是沿着图5中所示的线VIII-VIII所呈现的截面图，示出了安装有覆盖构件的设置在第一透镜组单元中的电磁致动器的一部分及其周围区域； 

图9是沿着图5中所示的线IX-IX所呈现的截面图，示出了安装有覆盖构件的电磁致动器的另一部分及其周围区域； 

图10为保持成像单元的成像光学系统的第一透镜元件的第一透镜框架的主视图；以及 

图11为从物侧观察的底部构件和支撑在底部构件上的导轴和第一棱镜的主视图。 

具体实施方式

下面将参考图1至图11讨论根据本实用新型的成像单元（成像装置）10的实施方案。在以下的描述中，根据如图中显示的双头箭头的方向来确定向前和向后方向、向左和向右方向，以及向上和向下方向。物侧对应于前侧。如通过图1中的成像单元10的外观所示，成像单元10具有在向前/向后方向上较细并且在向左/向右方向上较长的横向伸长的形状。 

如图2和图3中所示，成像单元10的成像光学系统设置有第一透镜组（前透镜组）G1、第二透镜组（后透镜组）G2、第三透镜组（后透镜组）G3以及第四透镜组（后透镜组）G4。第一透镜组G1设置有第一棱镜L11，并且成像单元10在第四透镜组G4的右手侧（图像平面侧）上设置有第二棱镜L12。成像单元10的成像光学系统配置为弯曲光学系统，该弯曲光学系统在第一棱镜L11和第二棱镜L12的每一个处以大致直角反射（弯曲）光线。如图3和图7所示，第一透镜组G1配置为第一透镜元件（前透镜元件）L1、第一棱镜L11和第二透镜元件（后透镜元件）L2。第一透镜元件L1放置在第一棱镜L11的入射表面L11-a的前方（在物侧上），而第二透镜元件L2放置在第一棱镜L11的出射表面L11-b的右手侧（图像平面侧）上。第二透镜组G2、第三透镜组G3和第四透镜组G4中的每一个为不包括反射元件（比如棱镜）的透镜组。 

如图3中所示，从拍摄物体发射并且沿着从成像单元10的前方在向后方向上延伸的第一光轴O1入射在第一透镜元件L1上的光线通过入射表面L11-a进入第 一棱镜L11，并且在沿着第二光轴O2（在向右方向上延伸）的方向上通过第一棱镜L11的反射表面L11-c反射，以从第一棱镜L11的出射表面L11-b射出。随后，从出射表面L11-b射出的光线穿过位于第二光轴O2上的第一透镜组G1的第二透镜元件L2以及第二至第四透镜组G2、G3和G4，并且通过其入射表面L12-a入射在第二棱镜L12上。随后，穿过入射表面L12a的光线在沿着第三光轴O3（在向前方向上延伸）的方向上通过第二棱镜L12的反射表面L12-c反射，并且入射在图像传感器IS的成像表面上以在其上形成物像。第一光轴O1和第三光轴O3大致上彼此平行，并且与第二光轴O2共同位于公用平面上。这个（虚）公用平面限定了第一参考平面（参考平面）P1（见图5和图6），第一光轴O1、第二光轴O2和第三光轴O3位于该第一参考平面P1中，并且垂直于第一参考平面P1且包括第一光轴O1的虚平面通过第二参考平面P2（见图5）来表示。成像单元10具有在沿着第二光轴O2的方向上伸长的形状，并且第一透镜元件L1放置在其纵长方向上的成像单元10的端部（左端）的邻近位置上。 

如图1到图3所示，成像单元10设置有本体模块11和第一透镜组单元12，其中该本体模块11保持第二透镜组G2、第三透镜组G3、第四透镜组G4、第二棱镜L12以及成像传感器IS，该第一透镜组单元12保持第一透镜组G1。本体模块11设置有盒形外壳13，该盒形外壳13在向左/向右方向上伸长并且在向前/向后方向上的厚度较小（较细）。第一透镜组单元12在其纵长方向上固定至外壳13的一端（左端），并且第四透镜组G4、第二棱镜L12和成像传感器IS在其纵长方向上固定地保持在外壳13的另一端（右端）。 

如图2所示，第二透镜组G2和第三透镜组G3分别通过第二透镜组框架20和第三透镜组框架21保持，其被支撑从而通过设置在外壳13中的一对棒22和23沿着第二光轴O2可移动。成像单元10设置有通过外壳13支撑的第一马达M1和第二马达M2。当第一马达M1被驱动以旋转从第一马达M1的本体突出的其螺旋轴M1a时，该旋转被传递至第二透镜组框架20以便沿着一对棒22和23移动第二透镜组框架20。当第二马达M2被驱动以旋转从第二马达M2的本体突出的其螺旋轴M2a时，该旋转被传递至第三透镜组框架21以便沿着一对棒22和23移动第三透镜组框架21。成像单元10的成像光学系统为变焦透镜系统（可变焦距长度透镜系统），并且缩放操作（光焦度变化操作）通过沿着第二光轴O2移动第二透镜组G2和第三透镜组G3来执行。另外，聚焦操作通过沿着第二光轴O2移动第三透镜组G3来执行。 

成像单元10设置有防抖（图像抖动校正/图像稳定/抖动减弱）系统，该防抖系统减弱由振动（比如手部抖动）造成的在图像平面上的图像抖动。该防抖系统在垂直于第一光轴O1的平面上驱动第一透镜组G1的第一透镜元件L1。在成像装置的本实施方案的下面的描述和附图中，第一光轴O1表示在第一透镜元件L1通过防抖系统放置在其驱动范围的中心处的状态下第一光轴O1的位置（即，当不执 行图像抖动校正操作时第一透镜元件L1的初始光学设计位置）。 

如图4中所示，第一透镜组单元12设置有第一透镜框架（可移动框架）30、底部构件31以及覆盖构件32，该第一透镜框架30保持第一透镜元件L1，该底部构件31保持第一棱镜L11和第二透镜元件L2，该覆盖构件32从前方覆盖第一透镜框架30和底部构件31。底部构件31为如从图5和图11中所示从前方观察的大致上矩形的形状，并且设置有基板35、后凸缘36以及出射边凸缘37。如图4、图6和图7所示，基板35位于基本上垂直于第一光轴O1的平面上，后凸缘36从基板35向后突出，出射边凸缘37放置在基板35的右端处。通过使得后凸缘36和出射边凸缘37紧靠外壳13并且通过结合形成在出射边凸缘37中的孔中的一对棒22和23的末端（见图1和图3）来确定在本体模块11上的第一透镜组单元12的支撑位置。第一透镜组单元12通过将定位螺钉拧紧至形成在外壳13中的螺钉孔（未示出）中而固定至本体模块11，该定位螺钉插入到通过底部构件31的后凸缘36形成的孔36a（见图1、图2和图4）中。前述的定位螺钉没有显示在附图中。 

如图3、图4、图6、图7和图11所示，底部构件31设置有棱镜安装槽38。棱镜安装槽38的前侧打开且暴露在基板35的顶部，而棱镜安装槽38的右侧向着出射边凸缘37打开且暴露。第一棱镜L11配合－接合到棱镜安装槽38中并且固定至棱镜安装槽38。第一棱镜L11设置有入射表面L11-a、出射表面L11-b、反射表面L11-c以及一对侧表面L11-d。入射表面L11-a放置在第一光轴O1上且面朝前，出射表面L11-b放置在第二光轴O2上且面朝右，反射表面L11-c放置在相对于入射表面L11-a和出射表面L11-b成大致上45度的角度上，一对侧表面L11-d大致上垂直于入射表面L11-a和出射表面L11-b两者。出射表面L11-b大致上平行于第二参考平面P2，并且一对侧表面L11-d大致上平行于第一参考平面P1。底部构件31进一步设置有透镜保持部分39，该透镜保持部分39在向右方向上从棱镜安装槽38延伸穿过出射边凸缘37，第二透镜元件L2配合－接合到透镜保持部分39中从而被保持。 

如图4、图10和图11所示，第一棱镜L11的入射表面L11-a为由两对侧面（两个长边和两个短边）限定的非正方形矩形的形状。第一棱镜L11放置在棱镜安装槽38中，使得入射表面L11-a的长边（一对相对的边）向上且向下延伸，并且使得入射表面L11-a的短边（另一对相对的边）向左且向右延伸。在下面的描述中，邻接出射表面L11-b（并且构成在入射表面L11-a和出射表面L11-b之间的边界）的入射表面L11-a的长边指的是入射表面L11-a的出射长边，而在出射长边的相对边且远离出射表面L11-b（并且构成入射表面L11-a和反射表面L11-c之间的边界）的入射表面L11-a的长边指的是入射表面L11-a的端部长边。入射表面L11-a的一对短边（连接入射表面L11-a的出射长边和端部长边）构成了入射表面L11-a和一对侧表面L11-d之间的边界。 

底部构件31设置在具有三个引导支撑部分40A、40B和40C的基板35的前 方。如图5和图11所示，引导支撑部分40A和40B布置在沿着第一棱镜L11的一对侧表面L11-d（入射表面L11-a的一对短边）的位置处并且相对于第一参考平面P1对称，引导支撑部分40C放置在入射表面L11-a的端部长边和底部构件31的左端之间。换言之，引导支撑部分40A、40B和40C形成在沿着入射表面L11-a除了其出射长边的三个侧面的U形区域中。如图4所示，引导支撑部分40A、40B和40C的每一个为U形截面，并且具有向着底部构件31的外沿打开的伸长开口凹槽T1。引导支撑部分40A和40B的伸长开口凹槽T1为在大致上平行于第一棱镜L11的入射表面L11-a的短边的方向上伸长的伸长凹槽，并且引导支撑部分40C的伸长开口凹槽T1为在大致上平行于第一棱镜L11的入射表面L11-a的长边的方向上伸长的伸长凹槽。 

导轴（两个相对的引导构件/侧导轴中的一个）41A、导轴（两个相对的引导构件/侧导轴中的另一个）41B以及导轴（第三引导构件/第三导轴）41C分别插入到引导支撑部分40A、40B和40C的伸长开口凹槽T1中，并且由引导支撑部分40A、40B和40C的伸长开口凹槽T1支撑。导轴41A、41B和41C为圆柱形构件，其具有在纵长方向上的均匀截面并且由金属、合成树脂等制成。引导支撑部分40A的伸长开口凹槽T1在其上侧打开，并且导轴41A在接近第一光轴O1的方向上从面朝上的该上侧开口插入到引导支撑部分40A的伸长开口凹槽T1中。引导支撑部分40B的伸长开口凹槽T1在其下侧打开，并且导轴41B在接近第一光轴O1的方向上从面朝下的该下侧开口插入到引导支撑部分40B的伸长开口凹槽T1中。引导支撑部分40C的伸长开口凹槽T1在其左侧打开，并且导轴41C在接近第一光轴O1的方向上从面朝左的该左侧开口插入到引导支撑部分40C的伸长开口凹槽T1中。每一个导轴41A、41B和41C能够沿着垂直于第一光轴O1的平面插入到关联的伸长开口凹槽T1中，并且导轴41A、41B和41C的轴位于垂直于第一光轴O1的平面上，其中每个导轴41A、41B和41C插入到关联的伸长开口凹槽T1中。更具体地，如图5和图11所示，导轴41A和41B的轴大致上平行第一棱镜L11的入射表面L11-a的短边（一对侧表面L11-d）和第一参考平面P1，导轴41A的轴和导轴41B的轴与第一参考平面P1大致上等距。另外，导轴41C的轴大致上平行于第一棱镜L11的入射表面L11-a的长边和第二参考平面P2。此外，如图5所示，导轴41A和41B相对于其轴向方向的中心位于第二参考平面P2中，而导轴41C相对于其轴向方向的中心位于第一参考平面P1中。截断部（槽）42A、42B和42C形成在引导支撑部分40A、40B和40C的中央部分中，其中的每一个具有使得不能保持关联的导轴41A、41B或41C的形状。截断部42A和42B放置在第二参考平面P2上，并且截断部42C放置在第一参考平面P1上。 

底部构件31设置在具有移动限制突出部43和摇摆枢轴44的基板35的前方，移动限制突出部43和摇摆枢轴44的每一个向前突出。如图4和图11所示，移动限制突出部43为形成在棱镜安装槽38（棱镜L11的入射表面L11-a的端部长边） 和截断部42C之间的圆柱形突出部。摇摆枢轴44为形成在棱镜安装槽38周围的引导支撑部分40B和出射边凸缘37之间的边界附近（在入射表面L11-a的下短边和入射表面L11-a的出射长边之间的角落周围）的圆柱形突出部。 

在成像单元10的防抖系统中，第一透镜框架30通过底部构件31支撑，以便经由三个导轴41A、41B和41C在垂直于第一光轴O1的平面上可移动。如图4和图10所示，第一透镜框架30设置有柱面透镜保持部分50和凸缘55，第一透镜元件L1安装到该柱面透镜保持部分50中以固定到该柱面透镜保持部分50，该凸缘55在与第二光轴O2的延伸方向相反的方向（向左方向）上突出。第一透镜框架30进一步设置在透镜保持部分50和凸缘55周围，具有三个可滑动支撑部分51A、51B和51C。从如图5和图10所示的前方观察，第一透镜元件L1具有D切割形（D-cut shape），其通过切掉其右侧（从该侧第二光轴O2从第一棱镜L11的反射表面L11-c向右延伸）上的第一透镜元件L1的外缘的一部分而形成（限定），并且透镜保持部分50具有D切割圆柱形，其外部形状对应于第一透镜元件L1。三个可滑动支撑部分51A、51B和51C沿着第一透镜框架30的三个侧面（除了形成D切割部分的侧面）形成在其上。 

更具体地，可滑动支撑部分（侧面可滑动支撑部分）51A和51B形成在透镜保持部分50的外围上以便相对于第一参考平面P1对称，可滑动支撑部分（第三可滑动支撑部分）51C形成在凸缘55的左端处。在图5至图7所示的状态下，其中第一透镜框架30通过底部构件31支撑，可滑动支撑部分51A放置在截断部42A之上，可滑动支撑部分51B放置在截断部42B之上，并且可滑动支撑部分51C放置在截断部42C之上。截断部42A、42B和42C作为间隙槽，当第一透镜框架30相对于底部构件31移动以执行防抖操作时，其分别防止引导支撑部分40A、40B和40C干扰可滑动支撑部分51A、51B和51C。 

如图4、图6和图7所示，三个可滑动支撑部分51A、51B和51C的每一个为U形截面，并且具有向着第一透镜框架30的外周打开的伸长开口凹槽T2。可滑动支撑部分51A和51B的伸长开口凹槽T2为在大致上平行于第一棱镜L11的入射表面L11-a的短边的方向上伸长的伸长凹槽，并且可滑动支撑部分51C的伸长开口凹槽T2为在大致上平行于第一棱镜L11的入射表面L11-a的长边的方向上伸长的伸长凹槽。导轴41A从面朝上的该伸长开口凹槽的上侧开口插入到可滑动支撑部分51A的伸长开口凹槽T2中，导轴41B从面朝下的该伸长开口凹槽的下侧开口插入到可滑动支撑部分51B的伸长开口凹槽T2中，导轴41C从面朝左的该伸长开口凹槽的左侧开口插入到可滑动支撑部分51C的伸长开口凹槽T2中。在装配过程中，明智的是底部构件31和第一透镜框架30结合到一起，并且之后每个导轴41A、41B和41C插入到关联的伸长开口凹槽T1和关联的伸长开口凹槽T2中。当第一透镜框架30利用分别与截断部42A、42B和42C对齐的可滑动支撑部分51A、51B和51C安装在底部构件31上时，可滑动支撑部分51A、51B和51C的 伸长开口凹槽T2相对于引导支撑部分40A、40B和40C的伸长开口凹槽T1放置，使得伸长开口凹槽T1分别连通地连接到伸长开口凹槽T2且与其同轴（每个伸长开口凹槽T2在其伸长方向上放置在关联地伸长开口凹槽T1的中点处）。在这种状态下，导轴41A在接近第一光轴O1的方向上从面朝上的这些伸长开口凹槽T1和T2的上侧开口插入到引导支撑部分40A的伸长开口凹槽T1以及可滑动支撑部分51A的伸长开口凹槽T2。同样地，导轴41B在接近第一光轴O1的方向上从面朝下的这些伸长开口凹槽T1和T2的下侧开口插入到引导支撑部分40B的伸长开口凹槽T1和可滑动支撑部分51B的伸长开口凹槽T2，并且导轴41C在接近第一光轴O1的方向上从面朝左的这些伸长开口凹槽T1和T2的左侧开口插入到引导支撑部分40C的伸长开口凹槽T1和可滑动支撑部分51C的伸长开口凹槽T2。插入到相关联的伸长开口凹槽T1中的每个导轴41A、41B和41C通过粘合剂、按压配合或类似的方法在相关联的伸长开口凹槽T1内部固定在其两端处并且保持，从而通过覆盖构件32的外周壁57无法脱离相关联的伸长开口凹槽T1。 

如图4、图6和图7所示，每个可滑动支撑部分51A、51B和51C利用一对在平行于第一光轴O1的方向上彼此面对的突出部52设置在其伸长开口凹槽T2中，并且每个可滑动支撑部分51A、51B和51C的一对突出部52在平行于第一光轴O1的方向上从其两侧将相关联的导轴41A、41B或41C保持在其间。每对突出部52向着彼此在相反的方向上突出，以便在平行于第一光轴O1的方向上使相关联的伸长开口凹槽T2的宽度部分地变窄以将相关联的导轴41A、41B或41C保持为大致上没有间隙（特别地，最小间隙的存在允许相关联的可滑动支撑部分51A、51B或51C在相关联的导轴41A、41B或41C上滑动）。该结构避免了第一透镜框架30在沿着第一光轴O1的方向上相对于底部构件31移动。如图4所示，每个突出部52为梯形截面的形状，并且与相关联导轴41A、41B或41C接触的每个突出部52的接触部分形成为位于大致上垂直于第一光轴O1的平面上的平坦表面（梯形的上底）。因此，每个突出部52在沿着垂直于第一光轴O1的平面的方向上在相关联的导轴41A、41B或41C上可滑动。 

如图5所示，间隙D1设置在在其相对于相关联（相邻）的引导支撑部分40A、40B或40C的滑动方向上的每个可滑动支撑部分51A、51B和51C的相对侧的每一个上，以允许每个可滑动支撑部分51A、51B和51C在相关联导轴41A、41B或41C的轴向方向上移动。此外，如图6和图7所示，间隙D2设置在该伸长开口凹槽T2的底部和插入到其中的相关联导轴41A、41B或41C之间的每个可滑动支撑部分51B、51B和51C的伸长开口凹槽T2中，以允许每个可滑动支撑部分51A、51B和51C在垂直于相关联导轴41A、41B或41C的轴的伸长开口凹槽T2的深度方向上移动。也即，可滑动支撑部分51A、51B和51C被支撑以便分别经由固定地支撑在底部构件31上的导轴41A、41B和41C沿垂直于第一光轴O1的平面可移动。 

第一透镜框架30的凸缘55设置有移动限制孔53，该移动限制孔53在向前/向后方向上穿过凸缘55而形成，并且底部构件31的移动限制突出部43插入到该移动限制孔53中。如图5和图10所示，移动限制孔53的内壁在大致上垂直于第一光轴O1的平面上通常为矩形的形状。第一透镜框架30能够在一定范围内相对于底部构件31移动，直到移动限制突出部43与移动限制孔53的内壁接触。上述的设定在每个可滑动支撑部分51A、51B和51C的间隙D1和D2设定为大于被移动限制孔53和移动限制突出部43允许的第一透镜框架30的移动范围，并且第一透镜框架30相对于底部构件31的移动范围通过移动限制突出部43和移动限制孔53确定。 

第一透镜框架30进一步设置有在其中接合有底部构件31的摇摆枢轴44的枢轴支撑凹槽54。枢轴支撑凹槽54为向着第一透镜框架30的外周在集中于第一光轴O1上的径向方向上伸长并且径向向外暴露的伸长凹槽。如图5所示，枢轴支撑凹槽54与摇摆枢轴44接合，具有允许枢轴支撑凹槽54在枢轴支撑凹槽54的纵长（深度）方向上相对于摇摆枢轴44移动的间隙，并且防止枢轴支撑凹槽54在垂直于枢轴支撑凹槽54的纵长方向的方向上相对于摇摆枢轴44移动。由于如上所述的三个导轴41A、41B和41C与可滑动支撑部分51A、51B和51C的滑动接合，虽然第一透镜框架30由底部构件31支撑以便在垂直于第一光轴O1的平面上可移动，但是在前述垂直平面上第一透镜框架30的移动方向通过摇摆枢轴44与枢轴支撑凹槽54的接合而限定。具体地，第一透镜框架30通过底部构件31支撑，以允许在关于摇摆枢轴44的旋转（摇摆）方向和枢轴支撑凹槽54的纵长方向上移动。 

在导轴41A、41B和41C的安装之前第一透镜框架30安装在底部构件31上的阶段处，移动限制突出部43和摇摆枢轴44分别插入到移动限制孔53和枢轴支撑凹槽54中。 

如图4所示，覆盖构件32设置有垂直于第一光轴O1的板状前壁56和从前壁56向后突出的外周壁57。覆盖构件32固定至底部构件31，使得前壁56从前方覆盖第一透镜框架30。在这种固定状态下，外周壁57为从外侧围绕底部构件31的三个引导支撑部分40A、40B和40C的U形壁，并且引导支撑部分40A、40B和40C的伸长开口凹槽T1的侧开口以及可滑动支撑部分51A、51B和51C的伸长开口凹槽T2的侧开口全部被外周壁57封闭（参见图3）。前壁56设置有摄影光圈58，通过该摄影光圈58第一透镜元件L1向前暴露。 

第一透镜框架30由电磁致动器驱动。该电磁致动器包括两个分别设置有两个永久磁铁60和61以及两个线圈62和63的音圈马达（VCM）。 

两个永久磁铁60和61由第一透镜框架30支撑，两个线圈62和63由覆盖构件32支撑。永久磁铁60和61装入形成在第一透镜框架30的凸缘55中的磁铁保持孔中，并且由该磁铁保持孔保持（参见图8和图9）。永久磁铁60和61的每一 个为非正方形的矩形薄板的形状。永久磁铁60和61相对于第一参考平面P1对称地布置。更具体地，在其纵长方向上延伸且相对于其宽度穿过永久磁铁60的近似中心的永久磁铁60的磁极边界线Q1的相对侧（参见图5和图10）分别磁化为北极和南极，而在其纵长方向上延伸且相对于其宽度穿过永久磁铁61的近似中心的永久磁铁61的磁极边界线Q2的相对侧（参见图5和图10）分别磁化为北极和南极。换言之，磁极边界线Q1限定了永久磁铁60的北极和南极之间的边界，而磁极边界线Q2限定了永久磁铁61的北极和南极之间的边界。永久磁铁60的磁极边界线Q1和永久磁铁61的磁极边界线Q2彼此倾斜，使得其间的距离（即，距第一参考平面P1的距离）在从左到右的方向上逐渐增加。永久磁铁60和61的磁极边界线Q1和Q2相对于第一参考平面P1的倾斜角分别设定为大约±45度。也即，永久磁铁60和61的纵长方向（磁极边界线Q1和Q2）大致上彼此垂直。 

如图4所示，电路板59固定至不与拍摄光圈58重叠的覆盖构件32的前壁56的一部分。如图8和图9所示，构成电磁致动器的元件的线圈62和63固定至前壁56的后部并且电连接至电路板59。如图5和图10所示，线圈62和63的每一个为空心线圈，其包括一对大致上彼此平行的线性部分以及一对在其各自的端部处连接一对线性部分的弯曲（U形）部分。线圈62和63为彼此基本上相同的形状和大小，并且相对于第一参考平面P1对称布置。具体地，在第一透镜元件L1通过防抖系统放置在其驱动范围的中心处（即，在当没有执行图像抖动校正操作时的第一透镜元件L1的初始光学设计位置处）的状态中，平行于线圈62的线性部分且穿过线圈62的空心的线圈62的长轴（主轴）以及平行于线圈63的线性部分且穿过线圈63的空心的线圈63的长轴（主轴）分别对应于永久磁铁60的磁极边界线Q1和永久磁铁61的磁极边界线Q2，如从图5和图10所示的前方观察。换言之，线圈62和63布置为彼此倾斜，使得线圈62的长轴以及线圈63的长轴之间的距离在从左到右的方向上逐渐增加，与永久磁铁60和61相似。线圈62和63的长轴的倾斜角相对于第一参考平面P1被分别设定为大约±45度。也即，线圈62和63的纵长方向（长轴）大致上彼此垂直。 

线圈62和63的通电经由电路板59控制。在线圈62通电后，在垂直于第一光轴O1的平面上在大致上垂直于永久磁铁60的磁极边界线Q1的方向上（即，垂直于线圈62的长轴的方向）产生驱动力。该驱动力的作用方向通过图5、图8和图10中的双头箭头F1来显示。另一方面，在线圈63通电后，在垂直于第一光轴O1的平面上在大致上垂直于永久磁铁61的磁极边界线Q2的方向上（即，垂直于线圈63的长轴的方向）产生驱动力。该驱动力的作用方向通过图5、图9和图10中的双头箭头F2来显示。通过使线圈62通电而产生的驱动力的作用方向F1大致上平行于枢轴支撑凹槽54的纵长方向，并且在线圈62通电后，第一透镜框架30能够沿着枢轴支撑凹槽54相对于底部构件31的纵长方向线性地移动。另一方面，通过使线圈63通电而产生的驱动力的作用方向F2大致上垂直于枢轴支撑 凹槽54的纵长方向，并且防止枢轴凹槽54在该垂直方向上相对于摇摆枢轴44移动，并且相应地，在线圈63通电后，第一透镜框架30相对于第一透镜框架30的底部构件31围绕摇摆枢轴44旋转（摇摆）。通过控制电流流过线圈62和63的通路的结合，第一透镜框架30可以相对于底部构件31移动到垂直于第一光轴O1的平面上的任意位置。如上所述，第一透镜框架30相对于底部构件31的移动范围通过移动限制突出部43与移动限制孔53的内壁的接合而得以限制。 

图5和图10中显示的参考符号U1指明在垂直于第一光轴O1的平面上的永久磁铁60和线圈62的中心（其外部形状的中心）。同样地，图5和图10中显示的参考符号U2指明在垂直于第一光轴O1的平面上的永久磁铁61和线圈63的中心（其外部形状的中心）。永久磁铁60的中心U1对应于永久磁铁60在其纵长（长边）方向上沿着磁极边界线Q1的中心，还对应于永久磁铁60在其垂直于磁极边界线Q1的短边方向上的中心。永久磁铁61的中心U2对应于永久磁铁61在其纵长（长边）方向上沿着磁极边界线Q2的中心，还对应于永久磁铁61在其垂直于磁极边界线Q2的短边方向上的中心。线圈62的中心U1对应于线圈62在其纵长（长边）方向上沿着线圈62的长轴的中心，还对应于线圈62在其垂直于线圈62的长轴的短边方向上的中心。线圈63的中心U2对应于线圈63在其纵长（长边）方向上沿着线圈63的长轴的中心，还对应于线圈63在其垂直于线圈63的长轴的短边方向上的中心。图5和图10每一个显示了其中第一透镜框架30放置在其移动范围的中心处的状态，其通过移动限制突出部43和移动限制孔53机械地限定（限制）。当第一透镜框架30放置在其移动范围的中心处时，永久磁铁60的中心U1和线圈62的中心U1彼此一致（即，永久磁铁60的中心U1和线圈62的中心U1在向前/向后方向上对齐），并且永久磁铁61的中心U2和线圈63的中心U2彼此一致（即，永久磁铁61的中心U2和线圈63的中心U2在向前/向后方向上对齐）。由流过线圈62和63的电流的通路造成的第一透镜框架30的移动导致永久磁铁60和61的中心U1和U2的位置相对于线圈62和63的中心U1和U2分别改变。 

另外，两个磁性传感器65和66安装至覆盖构件32的前壁56的后部并且被其支撑，如图8和图9中所示。两个磁性传感器65和66中的每一个由连接至电路板59的霍尔传感器组成。从图5和图10所示的前方观察，磁性传感器65设置在作用方向F1上线圈62距第一透镜元件L1侧的相对侧上（在距离第一光轴O1更远的一侧上）以便邻接线圈62的线性部分，并且如在作用方向F1上所观察的（参见图8），磁性传感器65和线圈62彼此重叠。此外，从图5和图10所示的前方观察，磁性传感器66设置在作用方向F2上线圈63距第一透镜元件L1侧的相对侧上（在距离第一光轴O1更远的一侧上）以便邻接线圈63的线性部分，并且如在作用方向F2上所观察的（参见图9），磁性传感器66和线圈63彼此重叠。图8中显示的参考符号K1指明磁性传感器65和线圈62之间的重叠范围，而图9中的参考符号K1指明磁性传感器66和线圈63之间的重叠范围。 

当覆盖构件32安装至底部构件31时，磁性传感器65和66分别放置在永久磁铁60和61的周围地区上。如图8和图9中所示，在成像单元10沿着第一光轴O1的向前/向后方向上，磁性传感器65和66分别放置在永久磁铁60和61的前方。如图8中所示，在作用方向F1上，永久磁铁60在其短边方向上的宽度大于线圈62在其短边方向上的宽度，使得永久磁铁60的两端在作用方向F1上均从线圈62的两端突出，并且永久磁铁60的突出端中距离第一光轴O1更远的一个（距离第一透镜元件L1更远）（即，相对于图8的永久磁铁60的右端）以及磁性传感器65彼此重叠（如从前方观察的）。如图9中所示，在作用方向F2上，永久磁铁61在其短边方向上的宽度大于线圈63在其短边方向上的宽度，使得永久磁铁61的两端在作用方向F2上均从线圈63的两端突出，并且永久磁铁61的突出端中距离第一光轴O1更远的一个（距离第一透镜元件L1更远）（即，相对于图9的永久磁铁61的左端）以及磁性传感器66彼此重叠（如从前方观察的）。图8中显示的参考符号K2指明磁性传感器65和线圈60之间的重叠范围，而图9中的参考符号K2指明磁性传感器66和永久磁铁61之间的重叠范围。 

如图5和图10所示，两个磁性传感器65和66中的每个具有在前正射投影上的窄矩形形状，并且图5和图10中显示的参考符号U3和U4分别指明了在垂直于第一光轴O1的平面上的磁性传感器65和66的中心。磁性传感器65的纵长方向大致上平行于磁极边界线Q1，磁性传感器66的纵长方向大致上平行于磁级边界线Q2。如图5中所示，穿过磁性传感器65的中心U3并且在由永久磁铁60和线圈62导致的驱动力的作用方向F1上延伸的直线以及穿过磁性传感器66的中心U4并且在由永久磁铁61和线圈63导致的驱动力的作用方向F2上延伸的直线在第一参考平面P1上彼此相交。由于这种布置，永久磁铁60根据由电磁致动器造成的第一透镜框架30的移动引起的位置上的变化使得磁性传感器65的输出变化，并且永久磁铁61根据由电磁致动器造成的第一透镜框架30的移动引起的位置上的变化使得磁性传感器66的输出变化。因此，第一透镜框架30的位置可以从两个磁性传感器65和66的输出变化进行检测。在成像单元10起动后，每个磁性传感器65和66的校正通过将第一透镜框架30驱动到其由移动限制突出部43和移动限制孔53限定的移动端来执行。 

如果通过将具有上述结构的第一透镜组单元12安装到本体模块11而完整装配的成像单元10定向为向着位于成像单元10的前方的物体，则由物体反射的光线（从拍摄物体发射的光线）在经过第一透镜元件L1之后通过入射表面L11-a进入第一棱镜L11，并且通过第一棱镜L11的反射表面L11-c以90度的角度反射，并且向着出射表面L11-b行进。随后，从第一棱镜L11的出射表面L11-b出现的反射光线在经过第二透镜元件L2、第二透镜组G2、第三透镜组G3和第四透镜组G4之后从入射表面L12-a进入第二棱镜L12，并且通过第二棱镜L12的反射表面L12-c以90度的角度反射，并且向着出射表面L12-b行进。随后，反射光线从出 射表面L12-b出现并且被图像传感器IS的成像表面采集（接收）。通过利用第一马达M1和第二马达M2沿着一对棒22和23移动第二透镜组G2和第三透镜组G3来进行成像单元10的成像光学系统的缩放操作。通过利用第二马达M2沿着一对棒22和23移动第三透镜组G3来进行成像单元10的成像光学系统的聚焦操作。通过执行这些缩放和聚焦操作，可以在选择的视角处采集聚焦的物体图像。 

此外，在成像单元10中，利用放置在第一棱镜L11的前方的第一透镜组G1的第一透镜元件L1来进行防抖（图像抖动校正/图像稳定/抖动减弱）操作。如上所述，防抖系统以允许第一透镜框架30相对于底部构件31（该底部构件31相对于外壳13固定）在垂直于第一光轴O1的平面上移动的方式支撑第一透镜框架30，并且利用电磁致动器驱动第一透镜框架30。 

在防抖操作期间第一透镜元件L1的移动方向垂直于第一光轴O1。也即，保持第一透镜元件L1的第一透镜框架30不在对应于成像单元10的厚度的方向的向前/向后方向上移动。另外，支撑机构（其包括引导支撑部分40A、40B和40C，导轴41A、41B和41C，截断部42A、42B和42C，移动限制突出部43，摇摆枢轴44，可滑动支撑部分51A、51B和51C，移动限制孔53，枢轴支撑凹槽54等等）和用于相对于底部构件31移动第一透镜框架30的驱动器（其包括永久磁铁60和61，线圈62和63等等）布置在围绕第一光轴O1（绕第一透镜元件L1）的位置处，使得对于支撑机构和驱动器的安装空间相对于成像单元10的向前/向后方向较小。因此，将第一透镜元件L1选择作为防抖光学元件使得即使成像单元10设置有防抖系统，其也能够在向前/向后方向上使成像单元10缩小。例如，不同于本实施方案，如果防抖系统在垂直于第二光轴O2的方向上移动第二透镜组G2或第三透镜组G3以消除图像抖动，则相比于上述显示的实施方案的情况，在向前/向后方向上对于外壳13内的防抖系统，确保第二透镜组框架20或第三透镜组框架21的空间和安装第二透镜组框架20或第三透镜组框架21的驱动器将需要更大的空间，从而增加了成像单元10的厚度。 

与诸如成像传感器IS的电子组件不同，由第一透镜框架30支撑的第一透镜元件L1不需要连接至任意的电路板，使得成像单元10的结构由于柔性线路板的布线不会变得复杂，或者柔性线路板在防抖操作期间不会在第一透镜元件L1上施加阻力。例如，不同于本实施方案，如果防抖系统在垂直于第三光轴O3的方向上移动图像传感器IS以消除图像抖动，则被电路板和成像传感器IS连接的柔性线路板需要具有足够的长度，以便不会阻碍图像传感器IS的移动；但是，在图像传感器IS周围并没有很多的空间，使得如果柔性线路板较长则柔性线路板将会干扰其他构件。如果图像传感器IS和电路板在向前/向后方向上彼此间隔，从而避免该问题的发生，这个间隔与成像单元10的缩小发生矛盾。 

将第一透镜元件L1作为防抖光学元件的选择避免了上述问题，并且使得其能够获得有助于缩小成像单元10的简单防抖系统。由于在防抖控制期间仅驱动第一 透镜元件L1而不是全部第一透镜组G1，因此优点是防抖系统给的移动部件能够以紧凑的方式设置并且在其上的驱动负载可以较小。在典型的防抖系统中，如果透镜组仅有一部分（例如，一个透镜元件）在垂直于其光轴的方向上被驱动，则增加了在成像光学系统中产生像差的可能性（从而使得成像光学系统的光学性能变差），并且因此导致成像光学系统变得不能实际地使用。在这种关系中，由于仅用于反射入射光线的第一棱镜L11设置在本实施方案的第一透镜组G1中的第一透镜元件L1和第二透镜元件L2（其为具有折光力的光学元件）之间，因此在第一透镜元件L1和第二透镜元件L2之间的距离较大，使得即使第一透镜元件L1独自移动以执行防抖控制也能减少在像差中的增加（使得成像光学系统的光学性能的变差最小）。因此，即使第一透镜元件L1和第二透镜元件L2（其在光轴方向上彼此间隔并且在其间放置第一棱镜L11）被当作不同的透镜组，也能够保证用于防抖操作的符合要求的光学性能，虽然成像光学系统中，在整个第一透镜组G1（包括第一透镜元件L1、第一棱镜L11和第二透镜元件L2）上控制像差，但是仅有第一透镜元件L1被设定为用于本实施方案中的防抖操作的光学元件。 

不同于望远镜透镜镜筒，在望远镜透镜镜筒中当执行缩放操作或镜筒收缩操作时光轴方向上的长度（在图像平面和最接近物侧的透镜元件之间的距离）变化，从第一透镜元件L1的入射表面至图像平面（图像传感器IS的成像表面）的光学路径的长度在成像单元10中始终恒定。因此，能够将成像单元10嵌入到移动电子设备中并且利用保护玻璃等覆盖第一透镜元件L1的前方，并且即使定位为最接近物侧的成像单元10的光学系统的第一透镜元件L1被驱动以消除图像抖动，也不会出现实际问题。 

如上所述，虽然在上述结构中仅驱动镜头组的一部分，其中作为为第一透镜组LG1的元件并且放置在第一棱镜L11的前方的第一透镜元件L1单独被驱动以减弱图像抖动，但是这样的构造不会简单的影响成像光学系统的像差。但是，由于第一透镜元件L1需要具有比防抖系统更高的操作准确度，在该防抖系统中驱动整个透镜组以减弱图像抖动，需要精确地支撑和驱动保持第一透镜元件L1的第一透镜框架30,从而稳定防抖性能和光学性能。此外，关于驱动第一透镜元件L1以减弱图像抖动，该第一透镜元件L1在成像光学系统的所有透镜元件之中具有最大的直径，需要使得该防抖系统尽可能紧凑以便有助于成像单元的小型化。下面将描述该防抖系统的特征。 

当在下面描述的前提下如图5中所示设定可以被第一参考平面P1和第二参考平面P2划分为四个的四个象限V1、V2、V3和V4时，第一象限V1和第四象限V4放置在第二参考平面P2的一侧上（参考图5的第二参考平面P2的右侧），朝向在光线被第一棱镜L11反射时沿第二光轴O2的光学行进方向，而第二象限V2和第三象限V3放置在第二参考平面P2的相对于第一象限V1和第四象限V4的侧面的相对侧上（参考图5的第二参考平面P2的左侧）。 

在第二参考平面P2的左侧部分和右侧部分中，成像光学系统的光学元件（比如，第二透镜元件L2、第二透镜组G2、第三透镜组G3、第四透镜组G4和第二棱镜L12）在第二参考平面P2的右侧部分（包括第一象限V1和第四象限V4）上沿着第二光轴O2布置。构成用于沿着第二光轴O2移动第二透镜组G2和第三透镜组G3的前进/收回驱动机构的元件的一对棒22和23、第一马达和第二马达同样布置在第二参考平面P2的右侧部分上。 

另一方面，永久磁铁60和61以及线圈62和63（构成用于驱动第一透镜元件L1以减弱图像抖动的电磁致动器）以及磁性传感器65和66（在其驱动期间用于检测第一透镜元件L1的位置）布置在第二和第三象限V2和V3上，该第二和第三象限V2和V3在第二参考平面P2的左侧部分中放置在第二参考平面P2的与向着光线沿着第二光轴O2的行进方向的侧面的相对侧上。更具体地，永久磁铁60、线圈62和磁性传感器65放置在第二象限V2中；永久磁铁61、线圈63和磁性传感器66放置在第三象限V3中；并且第二象限V2中的每一个元件和第三象限V3中的每一个元件相对于第一参考平面P1大致上对称地布置。如上所述，永久磁铁60和61布置为使得其磁极边界线Q1和Q2的倾斜角度相对于第一参考平面P1分别为大约±45度，并且磁极边界线Q1和Q2的倾斜方向被设定为在背离第二参考平面P2的向左方向上接近第一参考平面P1（以便减少在磁极边界线Q1和Q2之间的距离）。同样地，线圈62和63布置为使得线圈62的长轴和线圈63的长轴的倾斜角度相对于第一参考平面P1分别成为大约±45度，并且线圈62和63的长轴的倾斜方向被设定为在远离第二参考平面P2的向左方向上接近第一参考平面P1（以便减少在线圈62和63的长轴之间的距离）。换言之，分别沿着磁极边界线Q1和Q2延伸的两条直线之间的交叉点以及分别沿着线圈62和63的长轴延伸的两条直线之间的交叉点放置在第二参考平面P2的左侧部分上，其在第二参考平面P2的针对第二光轴O2延伸的相对侧上。 

通过构成用于驱动第一透镜元件L1的防抖系统的元件的永久磁铁60和61以及线圈62和63的上述布置得到下面的效果。电磁致动器的布置不是简单地服从空间约束，这是因为第二象限V2和第三象限V3为第二参考平面P2从朝向光线沿着第二光轴O2行进的方向的一侧的相对侧上的部分，并且因为从第一棱镜L11在光学上向后（参考图3的向右）放置的成像光学系统的光学元件既没有布置在第二象限V2上也没有布置在第三象限V3上。例如，根据上述（显示）的布置，即使永久磁铁60和线圈62的组合以及永久磁铁61和线圈63的组合分别布置在第一象限V1和第四象限V4上从而相对于第二参考平面P2对称，也能够驱动第一透镜元件L1。但是，第二透镜元件L2放置在与第一棱镜L11的出射表面L11-b邻接的位置处的第一象限V1和第四象限V4上，使得在这种情况下的问题在于在不干扰第二透镜元件L2的情况下难以保证用于安装整个电磁致动器的空间。然而，在显示的其中永久磁铁60和线圈62的组合设置在第二象限V2中且永久磁铁61 和线圈63的组合设置在第三象限V3中的实施方案的布置中，并没有这样的约束。 

通常而言，为了利用音圈马达驱动物体，每一个音圈马达包括永久磁铁和线圈，使用了两组具有相互不同的驱动力方向的永久磁铁和线圈。本实施方案的成像装置设置有永久磁铁60和线圈62的组合（其纵长（长边）方向（磁极分界线Q1和线圈62的长轴）彼此平行），以及永久磁铁61和线圈63的组合（其纵长（长边）方向（磁极分界线Q2和线圈63的长轴）彼此平行），并且由前一个组合（永久磁铁60和线圈62）生成的驱动力的作用方向F1和由后一个组合（永久磁铁61和线圈63）生成的驱动力的作用方向F2彼此垂直。这种布置使得能够在垂直于第一光轴O1的平面上自由移动第一透镜元件L1。另外，前一个组合（永久磁铁60和线圈62）以及后一个组合（永久磁铁61和线圈63）的倾斜方向设定为使得磁极边界线Q1和Q2之间的距离以及线圈62和63的长轴之间的距离在向右方向（第二光轴O2在其上延伸）上增加，并且使得磁极边界线Q1和Q2之间的距离以及线圈62和63的长轴之间的距离在相反方向（即，向左方向）上减少。这种布置使得其能够将永久磁铁60和线圈62以及永久磁铁61和线圈63容纳在圆柱形状的第一透镜框架30的透镜保持部分50外围区域中的第二象限V2和第三象限V3中。 

仅用于驱动第一透镜元件L1的目的，能够使得永久磁铁60和线圈62以及永久磁铁61和线圈63相对于第一参考平面P1的倾斜方向不同于在上面描述的实施方案中的那些倾斜方向。例如，即使永久磁铁60的磁极边界线Q1和线圈62的长轴平行于参考平面P1和P2中的一个，并且永久磁铁61的磁极边界线Q2和线圈63的长轴平行于另一个参考平面P1或P2，也能够在垂直于第一光轴O1的平面上驱动第一透镜元件L1。但是，这种布置导致永久磁铁60和线圈62的组合以及永久磁铁61和线圈63的组合中的至少一个大量进入第一象限V1或第四象限V4，这使得利用几乎不服从于空间约束的第二象限V2和第三象限V3的上述效果变差。另外，还存在的缺点在于在沿着第一参考平面P1的方向上增加了防抖系统的大小，这是由于永久磁铁60和线圈62的组合或者永久磁铁61和线圈63的组合放置在根据图5的移动限制突出部43和移动限制孔53的左手侧上。 

相反，根据以上说明的实施方案中的描述，从图5中显示从前方观察，防抖系统可以通过设定永久磁铁60和61以及线圈62和63的倾斜方向，以节省空间的方式安装在第二象限V2和第三象限V3中。在上述实施方案中，虽然永久磁铁60和61的磁极边界线Q1和Q2相对于第一参考平面P1的倾斜角分别被设定为大约±45度，线圈62和63的长轴相对于第一参考平面P1的倾斜角分别被设定为大约±45度，但是即使磁极边界线Q1和Q2相对于第一参考平面P1的倾斜角以及线圈62和63的长轴相对于第一参考平面P1的倾斜角稍稍改变，也可获得上述空间节省设计的效果。具体而言，如果永久磁铁60和61的磁极边界线Q1和Q2相对于第一参考平面P1的倾斜角以及线圈62和63的长轴相对于第一参考平面P1的 倾斜角每一个被设定在±35度至±55度之内，其中磁极边界线Q1和Q2的角度以及线圈62和63的长轴的角度每一个保持在90度处，则将实现防抖系统的空间节省布置。 

此外，沿着第二光轴O2可移动的第二透镜组G2和第三透镜组G3设置在从第一棱镜L11延伸的光学路径上；分别构成第二透镜组G2和第三透镜组G3的驱动系统的第一马达M1和第二马达M2包含金属部件；并且一对棒22和23也为金属部件。如果这些金属部件由磁性材料构成并且放置在电磁致动器附近，则这样的金属部件可能会将不利影响施加在电磁致动器的防抖驱动操作上。特别是本实施方案的防抖系统的动磁式电磁致动器中，其中永久磁铁60和61支撑在可移动第一透镜框架30上，为了使得电磁致动器执行具有高精度的驱动控制，需要移除由在永久磁铁60和61的磁场上的外部磁性材料导致的不利影响。与永久磁铁60和61以及线圈62和63布置在第一象限V1和第四象限V4中的情况相比，布置在第二象限V2和第三象限V3上的永久磁铁60和61以及线圈62和63距离每个马达M1和M2以及每个棒22和23更远；因此，即使在电磁致动器的这些部件包含磁性金属时，这些部件的任何不利影响不会轻易地达到电磁致动器的驱动。 

如上所述，通过将永久磁铁60和61以及线圈62和63安装在第二参考平面P2的与朝向光线沿着第二光轴O2的方向行进的一侧的相反侧上的部分（第二象限V2和第三象限V3）上，并且通过永久磁铁60和61以及线圈62和63的布置获得具有优秀的空间利用和驱动性能的防抖系统，在永久磁铁60和61以及线圈62和63的这种布置中，磁极边界线Q1和Q2之间的距离以及线圈62和63的长轴之间的距离在与用于驱动第一镜头元件L1的防抖系统的布置中的第二光轴O2的延伸方向相反的方向上减少。 

虽然永久磁铁60和61以及线圈62和63全部布置在成像装置的上述实施方案中的第二象限V2和第三象限V3中，但是永久磁铁60和61以及线圈62和63能够交替地布置，以便部分地伸出超过第二参考平面P2进入第一和第四象限V1和V4中。在这种情况中，作为达到用于防抖系统的空间利用和驱动性能的上述效果的条件，需要将至少永久磁铁60和61的中心U1和U2以及线圈62和63的中心U1和U2放置在第二参考平面P2的左手侧上，即，分别在第二象限V2和第三象限V3之内。 

另外，已经获得了在成像单元10的向前/向后方向（深度方向）上的防抖系统的缩小。构成防抖系统的驱动源的元件的永久磁铁60和61固定到第一透镜框架30的凸缘55上。凸缘55从透镜保持部分50（其为圆柱形并且保持第一透镜元件L1）的旁边突出并且从第一透镜元件L1在沿着第一光轴O1的方向上（即，在向前/向后方向；参见图7）通过透镜保持部分50支撑的位置向后放置（参考图7中的向下）。因此，在向前/向后方向上，分别通过在其上的凸缘55支撑的永久磁铁60和61的位置设定在第一棱镜L11的入射表面L11-a的周围区域上的第一透镜元 件L1之后。 

与永久磁铁60和61共同组成防抖系统的驱动源的线圈62和63以及检测第一透镜元件L1的位置的磁性传感器65和66在覆盖构件32安装至底部构件31的状态下保持在与向前/向后方向上的第一透镜元件L1重叠的位置处（参见图2）。 

如上所述，在第一透镜元件L1和第一棱镜L11侧面的空间中，永久磁铁60和61以及线圈62和63布置为使得永久磁铁60和线圈62在向前/向后方向上彼此重合，并且使得永久磁铁61和线圈63在向前/向后方向上彼此重合，并且因此，电磁致动器能够以空间节省的方式安装在向前/向后方向上，这有助于成像单元10的缩小。 

如图5、图8、图9和图10所示，在线圈62和63的外侧上布置磁性传感器65和66还具有优秀的空间效率。永久磁铁60和61以及线圈62和63布置为使得永久磁铁60和线圈62的组合以及永久磁铁61和线圈63的组合的倾斜方向在背离第二参考平面P2的方向上接近第一参考平面P1，使得在第一透镜组单元12（其前正射投影为大致矩形形状）的两个左角的每一个（根据图5和图11的底部构件31的基板35的左上角和左下角）以及电磁致动器的安装区域之间获得大致上的三角形空间。换言之，如从前方观察的，在基板35的左上角和左下角的周围区域上的基板35的前方上分别得到两个大致上的三角形空间。当利用这两个三角形空间的同时安装磁性传感器65和66。具体而言，由于永久磁铁60的宽度在通过使线圈62通电而产生的驱动力的作用方向F1上大于线圈62的宽度，并且永久磁铁61的宽度在通过使线圈63通电而产生的驱动力的作用方向F2上大于线圈63的宽度，并且由于磁性传感器65邻近线圈62的外部线性部分来放置，同时磁性传感器66邻近线圈66的外部线性部分来放置，因此已经将在背离第一光轴O1的方向上磁性传感器65从永久磁铁60的突出量以及在背离第一光轴O1的方向上磁性传感器66从永久磁铁61的突出量最小化。因此，可以避免发生可能由于安装磁性传感器65和66导致的成像单元10的前正射投影形状的大小的增加。 

虽然磁性传感器65和66的中心U3和U4分别与永久磁铁60和61的中心U1和U2间隔开，如图5和图10中所示，由于每个磁性传感器65和66放置为以一定程度接近于相关联的永久磁铁60或61，以便部分地包括在相关联的永久磁铁60或61的前正射投影区域中，如图8和图9所示的重叠范围K2，因此磁性传感器65和66能够达到足够的检测精确度。 

第一透镜框架30的位置可以被检测，即使磁性传感器65和66在沿着第一光轴O1的方向上放置在磁性传感器60和61的后方，不同于以上描述的实施方案。但是，在这种情况下，需要为在永久磁铁60和61的后方安装传感器提供空间。相反，根据在成像装置的上述实施方案中的磁性传感器65和66的布置，在永久磁铁60和61的后方不需要用于安装传感器的空间，并且还可以获得减少成像单元10在向前/向后方向上的厚度的效果。具体而言，获得了成像单元10的进一步 缩小，这是因为在沿着第一光轴O1的方向上，磁性传感器65和线圈62彼此重叠，并且磁性传感器66和线圈63彼此重叠，如图8和图9中的重叠范围K1所示。 

以上已经描述了在第一透镜组单元12中的电磁致动器的布置的特征，并且下面将讨论在底部构件31上用于第一透镜框架30的支撑结构。 

首先，第一透镜框架30被支撑以便可沿着垂直于第一光轴O1的平面移动，并且防止其通过以上描述的结构在沿着第一光轴O1的方向上脱离底部构件31，在该结构中每个导轴41A、41B或41C通过相关联的可滑动支撑部分51A、51B或51C（在其一对突出部52之间）来保持，其具有在沿着第一光轴O1的方向上相对的两个壁并且为U形截面。因此，不需要提供诸如弹簧的偏置装置以在底部构件31上保持第一透镜框架30，从而已经实现了对于在底部构件31上的第一透镜框架30的支撑结构的简单化。另外，对于在底部构件31上的第一透镜框架30的支撑结构在装配可加工性上表现十分优秀，这是因为支撑第一透镜框架30的状态通过从第一透镜组单元12的一侧（上侧、下侧或左侧）将每个导轴41A、41B和41C插入到相关联的引导支撑部分40A、40B或40C的伸长开口凹槽T1中以及插入到相关联的可滑动支撑构件51A、51B或51C的伸长开口凹槽T2中而完成。 

如上所述，从第一棱镜L11在光学上向后放置的成像光学系统的光学元件布置在通过第一棱镜L11偏斜的第二光轴O2上（即，布置在第一象限V1和第四象限V4上），使得空间在第二光轴O2侧受到限制。例如，如果第一透镜框架30的支撑器安装在沿着第一棱镜L11的出射表面L11-b（入射表面L11-a的出射长边）的位置处，则该支撑器可能与第二透镜元件L2或透镜保持部分39发生干扰。然而，在成像装置的上述实施方案的第一透镜组单元12中，以允许第一透镜框架30相对于底部构件31移动的方式支撑第一透镜框架30的导轴41A、41B和41C以及引导支撑部分40A、40B和40C布置在沿着入射表面L11-a的三个边（除了其出射长边）的U形区域上，如图10和图11所示沿着第一光轴O1从前方观察的，因此既不会干扰第二透镜元件L2也不会干扰透镜保持部分39。 

如图5和图10中所示从前方观察，在导轴41A、41B和41C和引导支撑部分40A、40B和40C中，两个导轴41A和41B以及引导支撑部分40A和40B沿着第一棱镜L11的一对侧表面L11-d（沿着入射表面L11-a的短边）布置在第一参考平面P1的任一侧上。如图10和图11所示，导轴41A和41B的轴大致上平行于参考平面P1（第二光轴O2），并且每个导轴41A和41B在其轴向方向上的长度大致上适合在第一棱镜L11的安装范围内。因此，导轴41A和41B的安装不会增加第一透镜组单元12在成像单元10的向左/向右（纵长方向）上的大小。另外，导轴41A和41B以及可滑动支撑部分51A和51B从第一透镜框架30的透镜保持部分50的两侧在成像单元10的向上/向下方向（宽度方向）上（在背离第一参考平面P1的方向上）的突出量已经下降到与构成如图5和图10所示的电磁致动器的永久磁铁60和61以及线圈62和63相同的程度，这实现了成像单元10的大小在其向上/向 下（宽度）方向上的减小。主要由于导轴41A和41B的布置，其中其轴大致上平行于在垂直于第一光轴O1的平面上的第一参考平面P1而延伸，相比于导轴41A和41B布置为使得其轴在与垂直于第一光轴O1的平面上与第一参考平面P1相交的方向上延伸的情况，导轴41A和41B在成像单元10的向上/向下方向（宽度方向）上的突出量为最小量。 

另外，第一透镜框架30通过导轴41A和41B的支撑部分布置为在第一棱镜L11的入射表面L11-a的长边方向上彼此间隔，从而放置为与第一参考平面P1大致上等距；这种布置使其能够以在向上/向下方向上平衡的方式支撑第一透镜框架30。此外，第一透镜框架30的支撑结构在向左/向右方向（在第一棱镜L11的入射表面L11-a的短边方向上）上的支撑平衡也十分优秀，这是因为将导轴41A保持在其间的可滑动支撑部分51A的一对突出部52以及将导轴41B保持在其间的可滑动支撑部分51B的一对突出部52位于第二参考平面P2上。 

为了在底部构件31上稳定地支撑第一透镜框架30，需要在三个或更多个支撑点处支撑第一透镜框架30。因此，除了通过布置在第一参考平面P1的两侧的导轴41A和41B以及可滑动支撑部分51A和51B的两个支撑点之外，第一透镜组单元12设置有导轴41C和可滑动支撑部分51C的组合作为第三支撑部分。如图5和图10所示，导轴41C和可滑动支撑部分51C布置在第一透镜组单元12的左端附近，从而在向上/向下方向上大致上装入在永久磁铁60和61以及线圈62和63之间的空间中。因此，导轴41C的安装不会导致第一透镜组单元12在成像单元10的向上/向下方向（宽度方向）上增加大小。此外，由于导轴41C的布置，其中其轴在垂直于第一光轴O1的平面上大致上平行于第二参考平面P2而延伸，相比于导轴41C布置为使得其轴在垂直于第一光轴O1的平面上在与第二参考平面P2相交的方向上延伸的情况，导轴41C在成像单元10的向左方向上的突出量为最小值。 

可以由上看出，以上说明的第一透镜框架30的支撑结构有助于成像单元10的小型化，其中第一透镜框架30被支撑从而通过导轴41A、41B和41C可移动，该导轴41A、41B和41C布置在沿着第一棱镜L11的入射表面L11-a的三个边（除了其出射长边）的区域中（U形区域）。 

作为与以上说明的成像装置的实施方案不同的成像装置的实施方案，而不是提供具有导轴41C的第一透镜组单元12，可以通过使导轴41A和导轴41B中的至少一个在其轴向方向上延伸，并且通过使第一透镜框架30的部件与导轴41A和导轴41B的该延伸部分接合来提供第三支撑部分。但是，如果导轴41A和41B分别在第二象限V2和第三象限V3中延伸，则导轴41A和41B的延伸部分将与电磁致动器产生干扰，这是因为从图5和图10中可以看出，构成电磁致动器的永久磁铁60和61、线圈62和63以及磁性传感器65和66布置在围绕第一透镜元件L1的第二和第三象限V2和V3中。此外，与本体模块11接触的出射边凸缘37设置在第一和第四象限V1和V4中，使得几乎没有空间允许导轴41A和41B在该侧延伸。 因此，这种结构在空间效率上十分优秀，在该结构中其轴在平行于第二参考平面P2的方向延伸的导轴41C（第三支撑部分）安装在第二参考平面P2的与第二光轴O2延伸的侧的相反侧上的空间（第二象限V2和第三象限V3）中。换言之，由于这种布置，已经实现了最优空间效率，在该布置中当从图5中所示的前方观察第一透镜组单元12时，构成电磁致动器的永久磁铁60和61、线圈62和63及磁性传感器65和66，以及第一透镜元件L1等布置在通过导轴41A、41B和41C的外部轮廓限定的U形区域中。 

移动限制突出部43和移动限制孔53，以及摇摆枢轴44和枢轴支撑凹槽54同样构成第一透镜框架30的支撑结构的元件。如图5、图10和图11所示，移动限制突出部43和移动限制孔53在通过透镜保持部分50、电磁致动器（永久磁铁60和61以及线圈62和63）和可滑动支撑部分51C围绕的位置处布置地具有空间效率。 

摇摆枢轴44和枢轴支撑凹槽54设置在第四象限V4中，从而不会与设置在第二象限V2和第三象限V3中的电磁致动器和其他元件产生干扰。此外，摇摆枢轴44和枢轴支撑凹槽54以具有空间效率且不干扰第二透镜元件L2的方式，布置在第一透镜元件L1的圆形部分和D-切割部分之间的边界附近的区域外侧，并且安置在第四象限V4中。 

虽然已经基于上述实施方案描述了本实用新型，但是本实用新型不仅限制于此；可以对上述实施方案进行各种修改。例如，本实用新型同样可以应用于一种类型的成像装置，其具有L形光学路径，不包括对应于成像光学系统中的第二棱镜L12的第二反射物。可替代地，本实用新型可以应用于包含弯曲光学系统的成像装置，该弯曲光学系统包括一个或多个除了第一棱镜L11和第二棱镜L12之外的附加反射物。根据弯曲光学系统的每个棱镜的光轴的弯曲角（反射角）可以为除了90度的任意角度。 

虽然导轴41A、41B和41C为上述成像装置的实施方案的圆柱形状，但是同样可以使用具有不同截面形状的引导构件（诸如矩形柱或正方柱）。 

虽然第一透镜框架30相对于底部构件31的操作方向利用上述成像装置的实施方案中的摇摆枢轴44和枢轴支撑凹槽54进行限定，但是能够通过提供不同的致动器而不是摇摆枢轴44和枢轴支撑凹槽54来限定操作方向。 

此外，电磁致动器的上述实施方案为动磁式电磁致动器，其中通过可移动第一透镜框架30支撑永久磁铁60和61，并且通过不可移动覆盖构件32支撑线圈62和63。这种类型的电磁致动器在线圈和磁性传感器的布线中十分优秀；但是，本实用新型还适用于动圈式电磁致动器，其中通过可移动的第一透镜框架30支撑线圈62和63，并且通过不可移动的底部构件31或覆盖构件32支撑永久磁铁60和61。在这种情况下，明智的是将磁性传感器65和66同样设置在第一透镜框架30上。 

虽然永久磁铁60和61中的每一个在前视图中具有在沿着相关联的磁极分界线Q1或Q2的方向上矩形形状，并且线圈62和63中的每一个在前视图中具有在沿着上述防抖系统的实施方案中的相关联的磁极分界线Q1或Q2的方向上伸长的形状，但是本实用新型同样可以应用于具有与永久磁铁60和61以及线圈62和63的不同形状的永久磁铁和线圈的防抖系统。具体而言，防抖系统的永久磁铁可以被例如每一个在前视图中具有正方形形状的永久磁铁代替。 

虽然当第一透镜框架30放置在上述防抖系统的实施方案中的其移动范围的中心处时，永久磁铁60的中心U1以及线圈62的中心U1在垂直于第一光轴O1的平面上大致上彼此一致，并且永久磁铁61的中心U2以及线圈63的中心U2在垂直于第一光轴O1的平面上大致上彼此一致，但是本实用新型同样可以应用与配备有如下防抖系统的成像装置，在该防抖系统中每个永久磁铁的中心和相关联的线圈的中心在防抖系统的初始状态中彼此并不一致（不对齐）。 

虽然第二透镜组G2、第三透镜组G3和第四透镜组G4设置在上述成像装置的实施方案中的第二光轴O2上，但是本实用新型同样可以应用于在其中少于或多于三个透镜组设置在对应于第二光轴O2的成像光学系统的光轴上的成像光学系统。 

此外，在第一透镜组G1中，能够改变布置在第一光轴O1上的第一棱镜L11的入射表面L11-a前方的透镜元件的数目，以及布置在第二光轴O2上的第一棱镜L11的出射表面L11-b的右手侧上的透镜元件的数目。例如，在上述实施方案中的第一透镜元件L1可以被布置在第一棱镜L11前方的两个或多个前透镜元件替代。在这种情况下，布置在第一棱镜L11前方的前透镜元件之间的距离较小，并且相应地，为了避免变差的像差，最好通过在垂直于第一光轴O1的方向上移动布置在第一棱镜L11前方的全部多个前透镜元件来进行防抖控制。此外，虽然第二透镜元件L2布置在上述实施方案的第一棱镜L11的右手侧上，但是在第一透镜组G1中的透镜元件的数目可以多于一个，该第一透镜组G1中的透镜元件布置在向着第二透镜组G2从第一棱镜L11的出射表面L11-b延伸的光学路径上。此外，能够修正第一透镜组G1，从而在从第一棱镜L11的出射表面L11-b向着第二透镜组G2延伸的光轴路径上不包括任意透镜元件。 

在上述实施方案中，从第一透镜元件L1的入射表面至成像单元10中的图像平面的光学路径的长度始终恒定。在这种类型的成像光学系统中，最接近于物侧的第一透镜元件L1通常为负透镜。但是，根据本实用新型的用于在成像装置中的防抖控制的透镜元件（前透镜元件）可以为正透镜。无论前透镜元件的光焦度（power）是负或正，只要其具有折光力，可以选择任意透镜元件作为前透镜元件。 

此外，虽然上述成像单元10的实施方案的成像光学系统为变焦透镜（可变焦光学系统），该变焦透镜通过沿着第二光轴O2移动第二透镜组G2和第三透镜组G3来执行缩放操作（光焦度变化操作），但是本实用新型同样适用于包含不具有光焦度变化能力的成像光学系统的成像装置。例如，可以修正成像单元10，使得 第二透镜组G2和第三透镜组G3对于缩放操作不移动，并且使得第二透镜组G2或第三透镜组G3对于聚焦操作单独移动。 

虽然在上述成像装置的实施方案中的第一棱镜L11的入射表面L11-a为横向伸长的矩形的形状，但是本实用新型同样可以应用于具有第一棱镜（其对应于第一棱镜L11）的一类成像装置，该第一棱镜的入射表面具有诸如正方形或梯形的不同形状。 

在本文描述的本实用新型的特定实施方案中可以进行明显改变，这样的修改落在本实用新型要求的精神和范围之内。应当指出，本文包含的全部主题是说明性的，并且不限制本实用新型的范围。 

Claims (12)

1.一种成像装置，其特征在于，所述成像装置包括： 

前透镜组，所述前透镜组构成所述成像装置的成像光学系统的部分，并且设置在相对于光轴方向的固定位置处，其中所述前透镜组包括以从物侧开始的顺序的至少一个前透镜元件和棱镜，并且其中沿着第一光轴从所述前透镜元件发出的光线被所述棱镜反射，从而沿着不平行于所述第一光轴的第二光轴行进； 

至少一个后透镜组，所述至少一个后透镜组构成所述成像光学系统的另一部分，并且设置为比所述前透镜组更接近图像平面；以及 

防抖系统，所述防抖系统响应于施加于所述成像光学系统的振动沿着垂直于所述第一光轴的平面驱动所述前透镜元件，以减弱在所述图像平面上的图像抖动， 

其中所述防抖系统包括： 

底部构件，所述底部构件至少支撑所述前透镜组的所述棱镜； 

可移动框架，所述可移动框架支撑所述前透镜组的所述前透镜元件；以及 

至少两个相对的引导构件，所述至少两个相对的引导构件沿着所述第一光轴观察分别沿着在参考平面的两侧上的所述棱镜的相对侧布置，从而以允许所述可移动框架相对于所述底部构件沿着垂直于所述第一光轴的所述平面移动的方式支撑所述可移动框架，其中所述第一光轴和所述第二光轴位于所述参考平面上。 

2.根据权利要求1所述的成像装置，其特征在于，所述防抖系统进一步包括除了所述两个相对的引导构件之外的第三引导构件，所述第三引导构件以允许所述可移动框架相对于所述底部构件沿着垂直于所述第一光轴的所述平面移动的方式支撑所述可移动框架， 

其中，所述第三引导构件放置在第二参考平面的一侧上，所述第二参考平面包括所述第一光轴并且垂直于所述参考平面，使得所述第二光轴在背离所述第二参考平面的方向上在所述第二参考平面的另一侧上延伸。 

3.根据权利要求1所述的成像装置，其特征在于，所述相对的引导构件包括两个侧导轴，所述两个侧导轴的轴位于垂直于所述第一光轴的平面上， 

其中，所述可移动构件包括两个侧面可滑动支撑部分，所述两个侧面可滑动支撑部分中的每一个在平行于所述第一光轴的方向上从其两侧保持所述侧导轴的相关联的一个，使得所述侧面可滑动支撑部分的每一个通过相关联的所述侧导轴支撑，从而沿着垂直于所述第一光轴的所述平面能够滑动。 

4.根据权利要求2所述的成像装置，其特征在于，所述第三引导构件包括第三导轴，所述第三导轴的轴位于垂直于所述第一光轴的平面上， 

其中，所述可移动构件包括第三可滑动支撑部分，所述第三可滑动支撑部分在平行于所述第一光轴的方向上从其两侧保持所述第三导轴，使得所述第三可滑动支撑部分通过所述第三导轴支撑，从而沿着垂直于所述第一光轴的所述平面能够滑动。 

5.根据权利要求3所述的成像装置，其特征在于，所述底部构件和所述可移动框架的所述侧面可滑动支撑部分中的每一个包括开口凹槽，所述开口凹槽具有开口，相关联的所述侧导轴沿着垂直于所述第一光轴的所述平面在接近所述第一光轴的方向上能够插入到所述开口中， 

其中，所述底部构件的所述开口凹槽固定地保持插入到相关联的所述开口的相关联的所述侧导轴，以及 

其中，所述可移动框架的每个所述侧面可滑动支撑部分的所述开口凹槽能够滑动地接触插入到相关联的所述开口中的相关联的所述侧导轴。 

6.根据权利要求5所述的成像装置，其特征在于，所述侧面可滑动支撑部分的每一个包括至少一个突出部，所述至少一个突出部形成在相关联的所述开口凹槽中，以便在平行于所述第一光轴的方向上突出以接触相关联的所述侧导轴。 

7.根据权利要求5所述的成像装置，其特征在于，所述成像装置进一步包括覆盖构件，所述覆盖构件安装至所述底部构件并且包括外围壁，所述外围壁用于封闭所述底部构件和所述可移动框架的所述侧面可滑动支撑部分的所述开口凹槽的所述开口。 

8.根据权利要求3所述的成像装置，其特征在于，所述侧导轴的轴平行于所述参考平面并且与所述参考平面大致上等距。 

9.根据权利要求4所述的成像装置，其特征在于，所述第三导轴的轴平行于所述第二参考平面。 

10.根据权利要求1所述的成像装置，其特征在于，所述防抖系统包括： 

第一音圈马达，所述第一音圈马达包括分别安装至所述底部构件和所述可移动框架中的一个和另一个的第一线圈和第一磁铁，以便在平行于所述第一光轴的方向上相对，其中在所述第一线圈通电时，所述第一音圈马达在垂直于所述第一磁铁的磁极边界线的第一方向上生成驱动力；以及 

第二音圈马达，所述第二音圈马达包括分别安装至所述底部构件和所述可移动框架中的所述一个和所述另一个的第二线圈和第二磁铁，以便在平行于所述第一光轴的方向上相对，其中在所述第二线圈通电时，所述第二音圈马达在垂直于 所述第二磁铁的磁极边界线的第二方向上生成驱动力， 

其中，所述第一磁铁和所述第二磁铁放置为使得其所述磁极边界线的方向在垂直于所述第一光轴的平面上彼此垂直， 

其中，所述第一线圈和所述第二线圈放置为在平行于所述第一光轴的方向上分别面向所述第一磁铁和所述第二磁铁，以及 

其中，所述第一磁铁和所述第二磁铁的中心以及所述第一线圈和所述第二线圈的中心放置在第二参考平面的一侧上，所述第二参考平面包括所述第一光轴并且垂直于所述参考平面，其中所述第二光轴在背离所述第二参考平面的方向上在所述第二参考平面的另一侧上延伸。 

11.根据权利要求10所述的成像装置， 

其特征在于，所述相对的引导构件包括两个侧导轴，所述两个侧导轴的轴位于垂直于所述第一光轴的平面上，平行于所述参考平面，并且与所述参考平面大致上等距， 

其中，所述防抖系统进一步包括第三导轴，所述第三导轴的轴位于垂直于所述第一光轴的平面上并且平行于所述第二参考平面， 

其中，所述第三导轴放置在所述第二参考平面的一侧上，并且所述第二光轴在背离所述第二参考平面的方向上在所述第二参考平面的另一侧上延伸， 

其中，所述可移动构件包括至少三个可滑动支撑部分，所述至少三个可滑动支撑部分中的每一个在平行于所述第一光轴的方向上从其两侧保持所述侧导轴和所述第三导轴中的相关联的一个，使得所述可滑动支撑部分中的每一个通过所述相关联的所述侧导轴和第三导轴支撑，从而能够沿着垂直于所述第一光轴的所述平面滑动，以及 

其中，根据沿着所述第一光轴观察，所述第一磁铁、所述第二磁铁、所述第一线圈和所述第二线圈布置在通过所述侧导轴和所述第三导轴限定的U形区域中。 

12.根据权利要求10所述的成像装置，其特征在于，所述第一线圈和所述第一磁铁的组合以及所述第二线圈和所述第二磁铁的组合分别放置在所述参考平面的相对侧上。