CN203485281U - 一种抛釉砖模具 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种抛釉砖模具，其包括模底，围在所述模底周围并和所述模底形成模腔的模框，与所述模腔匹配的压头，其中所述模底或压头的边缘处设有凸起。使用此种模具制备的抛釉砖坯体层边缘有对应的凹槽，在高温烧结时，坯体层边缘的凹槽能吸收坯体层和釉面层膨胀收缩的应力，减少砖体变形，提高平整度，进而降低抛光时漏抛和过抛的缺陷，提高优等品率。

Description

一种抛釉砖模具

技术领域

本实用新型涉及冲压成型的模具，尤其涉及一种抛釉砖模具。

背景技术

抛釉砖是近年流行的一种陶瓷墙地砖，其是在砖坯上印花后，再施以一层透明釉，经高温烧成后，再对釉面进行全抛或半抛而制成的一种陶瓷墙地砖。因表面釉层的保护，印花层图案不会被磨损，使用寿命长，品质好，是人们室内装修首选的建材产品。但在实际生产中，此类产品品质控制困难，优等品率较低，因此其售价较高，而且废品资源浪费严重。造成以上问题的原因是抛釉砖表面的釉层较薄，多不超过1mm（较厚的釉层会影响印花层图案的呈现），而因坯体层和釉层在烧成时膨胀收缩不一致，制品会有一定的翘曲缺陷，在抛光时，容易出现漏抛和过抛的缺陷。漏抛会使表面光泽度不一致，影响装饰效果；过抛则会透底，甚至破坏印花图案。因此急需解决以上问题，提高抛釉砖优等品率。

发明内容

本实用新型的目的在于提出一种抛釉砖模具，其模底或压头边缘具有凸起，使用此种模具制备的抛釉砖坯体层边缘有对应的凹槽，在高温烧结时，坯体层边缘的凹槽能吸收坯体层和釉面层膨胀收缩的应力，减少砖体变形，提高平整度，进而降低抛光时漏抛和过抛的缺陷，提高优等品率。优选地，可以先进行磨边，去掉边缘有凹槽部分，再进行抛磨。

为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：一种抛釉砖模具，其包括模底，围在所述模底周围并和所述模底形成模腔的模框，与所述模腔匹配的压头，其中所述模底或压头的边缘处设有凸起。

为了不影响砖坯成型后的性能，优选地，所述凸起呈条状，其长度为0.5～5mm、宽度为0.2～1.5mm、高度为0.2～1.5mm。

进一步优选，所述凸起的长度为1～3mm、宽度为0.5～1mm、高度为0.5～1mm。

为了能较好的缓解在烧成时坯体层和釉面层之间的应力差，所述凸起分布均匀，且呈指向中心的放射状。

使用本模具冲压成型的抛釉砖砖坯，砖坯表面边缘具有与模具凸起对应的凹槽，凹槽能吸收烧成时坯体层与釉层收缩产生的应力，调节应力差，使拉伸变形控制在可接受范围内，提高平整度，进而降低抛光时漏抛和过抛的缺陷，提高产品的优等品率，降低生产成本。

附图说明

图1是本实用新型实施例1提供的抛釉砖模具的横截面结构示意图。

图2是本实用新型实施例1提供的抛釉砖模具中模腔结构的俯视图。

图3是本实用新型实施例2提供的抛釉砖模具的横截面结构示意图。

图4是实施例2提供的抛釉砖模具中压头结构的仰视图。

附图标号说明：1—模底；2—模框；3—压头；4—模腔；11—凸起。

具体实施方式

下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本实用新型的技术方案。应当说明附图仅为说明本方案，其并未严格按照比例绘制，其中为说明方便会有局部的放大或缩小，而且还会有一些公知的缺省。

实施例1

参照附图1和附图2，本实用新型提供一种抛釉砖模具，其包括模底1，围在所述模底1周围并和所述模底1形成模腔4的模框2，与所述模腔4匹配的压头3，其中所述模底1边缘处设有凸起11。

在本实施例中凸起11呈条状，其长度为0.5～5mm、宽度为0.2～1.5mm、高度为0.2～1.5mm；且分布均匀，呈指向中心的放射状。

通过测试验证，在凸起11的长度为1～3mm、宽度为0.5～1mm、高度为0.5～1mm时，对于800×800mm或1000×1000mm规格的抛釉砖制品最为适用，使用其作为砖坯的成型模具，优等品率可以达到90%以上，因翘曲变形造成的过抛漏抛缺陷率≤8%。

实施例2

参照附图3和附图4，本实用新型提供一种抛釉砖模具，其包括模底1，围在所述模底1周围并和所述模底1形成模腔4的模框2，与所述模腔4匹配的压头3，其中所述压头3的边缘处设有凸起11。

在本实施例中凸起11呈条状，其长度为1～3mm，宽度为0.5～1mm,高度为0.5～1mm，且分布均匀，呈指向中心的放射状。

当然，以上仅给出了两个优选实施例，在实际使用中，凸起形状可以为环状、梯形状等不规则形状。

且其分布也可以是随机在模底1或压头3的边缘分布，只是效果不如实施例1和2所介绍的效果。

使用以上模具成型的砖坯，在边缘具有与凸起对应的凹槽，在施釉后，凹槽处的釉较厚，因此在烧成时应力主要集中在凹槽处，调节应力差，将应力由集中的向内的纵向拉伸改变为沿凹槽两侧的横向拉伸，使拉伸变形控制在可接受范围内，提高平整度，进而降低抛光时漏抛和过抛的缺陷，提高产品的优等品率，降低生产成本。

以上结合具体实施例描述了本实用新型的技术原理。这些描述只是为了解释本实用新型的原理，而不能以任何方式解释为对本实用新型保护范围的限制。基于此处的解释，本领域的技术人员不需要付出创造性的劳动即可联想到本实用新型的其它具体实施方式，这些方式都将落入本实用新型的保护范围之内。

Claims (4)

1.一种抛釉砖模具，其包括模底，围在所述模底周围并和所述模底形成模腔的模框，与所述模腔匹配的压头，其中所述模底或压头的边缘处设有凸起。

2.如权利要求1所述的一种抛釉砖模具，其特征在于，所述凸起呈条状，其长度为0.5～5mm、宽度为0.2～1.5mm、高度为0.2～1.5mm。

3.如权利要求2所述的一种抛釉砖模具，其特征在于，所述凸起的长度为1～3mm、宽度为0.5～1mm、高度为0.5～1mm。

4.如权利要求1-3中任意一项所述的一种抛釉砖模具，其特征在于，所述凸起分布均匀，且呈指向中心的放射状。

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