CN207878849U - 抛光面带有凹槽的抛光砖及其模具结构 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种抛光面带有凹槽的抛光砖及其模具结构，其中，所述抛光砖的抛光面设置有至少一个凹槽，所述凹槽中设置有釉料层。本实用新型所提出的抛光砖结构，其抛光面上设置有凹槽，并且在凹槽中设置有釉料层，通过凹槽和釉料层的结合在抛光砖的抛光面上形成丰富图案或者纹路，并且该凹槽对应的丰富图案或者纹路并不会受到抛光打磨的影响。

Description

抛光面带有凹槽的抛光砖及其模具结构

技术领域

本实用新型涉及瓷砖生产领域，尤其涉及的是一种抛光面带有凹槽的抛光砖及其模具结构。

背景技术

瓷砖作为一种重要的建材，广泛应用到不同类型的建筑装修中。在实际应用中，瓷砖的铺贴需要配合一定的纹路图案，以提高瓷砖的美观性，例如墙裙砖、楼梯台阶砖等均要求铺贴后的瓷砖具有一定的纹路图案。传统的方式有两种，一种是直接通过不同种类/尺寸的瓷砖组合铺贴，形成纹路或图案；另一种是直接在单个瓷砖产品上设置纹路或图案。

针对第二种方式，一般采用仿古砖、抛釉砖等釉面砖，因为釉面砖是在砖体表面通过丝网印刷或者喷涂等方式添加釉料，经过窑炉烧成后，釉料会形成色彩艳丽的纹路或图案。但是釉面砖硬度低、不耐磨，表面容易刮花(甚至施釉层被刮磨掉)，刮花后直接影响纹路或图案的美观性。而如果采用抛光砖，由于抛光砖是直接在胚体上直接打磨的砖，其生产过程中并不适合添加釉料(打磨抛光时会将釉料刮花)，因此难以在抛光砖上设置纹路或图案。

因此，现有技术还有待于改进和发展。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种抛光面带有凹槽的抛光砖。

本实用新型的技术方案如下：一种抛光面带有凹槽的抛光砖，其中，所述抛光砖的抛光面设置有至少一个凹槽，所述凹槽中设置有釉料层。

所述的抛光砖，其中，所述凹槽为花纹槽或分隔槽。

所述的抛光砖，其中，所述凹槽设置有两个，两个凹槽平行设置在所述抛光砖的抛光面。

所述的抛光砖，其中，所述两个凹槽之间的距离为500-1200mm。

所述的抛光砖，其中，所述抛光砖的吸水率不超过0.5％。

本实用新型的另一个目的在于提供生产上述抛光砖的模具结构。

一种生产抛光面带有凹槽的抛光砖的模具结构，用于对抛光砖粉料进行压制成型，使压制成型后的抛光砖粉料表面形成凹槽，其中，包括上模、下模和压条；在所述上模和所述下模合模对抛光砖粉料进行压制成型时，所述压条对抛光砖粉料表面进行挤压，使压制成型后的抛光砖粉料表面形成凹槽。

所述的模具结构，其中，所述下模包括基座和活动面；在抛光砖粉料送达到模具结构中后，所述活动面相对于所述基座下沉，形成压制凹腔，所述抛光砖粉料落入所述压制凹腔中，所述上模动作向压制凹腔中的抛光砖粉料进行挤压。

所述的模具结构，其中，所述压条设置在所述上模的挤压面上，在所述上模和所述下模合模对抛光砖粉料进行压制成型时，所述压条对抛光砖粉料上表面进行挤压，使压制成型后的抛光砖粉料上表面形成凹槽。

所述的模具结构，其中，所述压条设置在所述下模的活动面上，在所述上模和所述下模合模对抛光砖粉料进行压制成型时，设置在活动面上的压条对抛光砖粉料下表面进行挤压，使抛光砖粉料下表面形成凹槽。

本实用新型的有益效果：本实用新型所提出的抛光砖结构，其抛光面上设置有凹槽，并且在凹槽中设置有釉料层，通过凹槽和釉料层的结合在抛光砖的抛光面上形成丰富图案或者纹路，并且该凹槽对应的丰富图案或者纹路并不会受到抛光打磨的影响。

附图说明

图1是本实用新型中抛光砖粉料送达模具结构的结构简图。

图2是本实用新型中下模的俯视图。

图3是本实用新型中下模的活动面下沉后的模具结构的结构简图。

图4是本实用新型的楼梯台阶抛光砖的结构简图。

图5是本实用新型的另一种楼梯台阶抛光砖的结构简图。

图6是本实用新型的墙裙抛光砖的结构简图。

图7是本实用新型的具有双凹槽的抛光砖的侧视图。

图8是压条设置在下模的活动面上的模具结构的结构简图。

图9是压条设置在下模的活动面上的下模俯视图。

具体实施方式

为使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚、明确，以下参照附图并举实施例对本实用新型进一步详细说明。

本实用新型公开了一种抛光面带有凹槽的抛光砖生产工艺，包括以下步骤：

布料：将配制好的抛光砖粉料布设在栅格中；具体为，根据抛光砖的生产要求配制粉料，并将配制好的粉料布设在栅格中。实际应用中，如果抛光砖需要有多种颜色，则需要按照栅格的色块结构进行布料，即将栅格分隔形成多个独立的区域，每个区域布设不同颜色的粉料，以形成具有多种色块的抛光砖产品。

压制成型：将布设好的抛光砖粉料送入模具结构中压制成型；具体为，通过栅格将布设好的抛光砖粉料送入模具结构中，所采用的模具结构简图参见图1至图3。模具包括上模10()和下模200，该上模100设置有凸起的压条110，下模200包括基座210和活动面220。在对抛光砖粉料进行压制成型时，栅格将抛光砖粉料400送达到活动面220上(参见图1)，然后活动面220相对于基座210下沉，形成压制凹腔300(参见图3)，抛光砖粉料400落入该压制凹腔300中，此时上模100动作下落向压制凹腔300中的抛光砖粉料400进行挤压，上模100表面设置的压条110对抛光砖粉料400表面进行挤压，使压制成型后的抛光砖粉料400表面形成凹槽(带有凹槽的抛光砖粉料400的表面在烧制后形成抛光砖的抛光面)。为了实现上模100和活动面220的动作，上模100和活动面220必然分别连接有动力机构(图中没画出)，该动力机构可以采用气缸、油缸、电机等已知的可以为上模100和活动面220提供动力的结构，在此不再赘述。

淋釉：对抛光砖粉料表面的凹槽进行淋釉，使釉料覆盖所述凹槽。

烧制：对淋釉后的抛光砖粉料进行高温烧制，形成抛光砖胚体。具体为，将压制成型后的抛光砖粉料送入窑炉中进行高温烧制，得到抛光砖胚体。经过烧制后的釉料在凹槽中固化，附着在凹槽中。

抛光：对抛光砖胚体进行抛光。

使用本实用新型的生产工艺生产得到的抛光砖，由于釉料经过烧制后在抛光砖的抛光面的凹槽中固化，附着在凹槽中，在抛光时，抛光设备只能打磨抛光砖表面，并不损坏凹槽的凹腔面，因此不会因为抛光而对凹槽的凹腔中的釉料产生影响(例如导致釉料脱落等)。而抛光砖的抛光面的凹槽与釉料(颜色)共同形成抛光砖的抛光面的纹路或图案，该纹路或图案并不会因为抛光砖抛光打磨而产生刮花、或者被刮除等不良效果。

在某个实施例中，参见图8和图9，根据瓷砖生产工艺要求的不同，瓷砖压制成型又分为正压成型(即对应抛光砖粉料上表面为抛光面，正压模具结构参见图1至图3)和反压成型(即对应抛光砖粉料下表面为抛光面，反压模具参见图8和图9)，本实施例中，采用反压成型模具结构，具体为，将压条110设置在活动面220上，在上模100和下模200合模对抛光砖粉料进行压制成型时，设置在活动面220上的压条110对抛光砖粉料下表面进行挤压，使抛光砖粉料下表面形成凹槽，此时抛光砖粉料下表面为抛光面(实现在抛光砖的抛光面形成凹槽)。

需要说明的是，本申请所公开的压条110可以采用不同形状的结构，例如长条形、圆形、弧形、多边形等，也可以通过采用多种不同形状尺寸的压条110组合形成压纹图案。

实际应用中，利用本实用新型公开的工艺生产得到的抛光砖，其抛光面带有凹槽，凹槽内部设置有釉料层。

更加具体的，根据实际生产要求，通过改变上模100的压条110的位置、尺寸、形状、数量等参数，可以在抛光砖的抛光面的不同位置形成尺寸不同、形状不同、数量不同的凹槽；更加具体的，通过这些凹槽可以组合形成不同的纹路图案，以下列举实施例进行详细说明。

在某个实施例中，参见图4，图4是楼梯台阶抛光砖的结构简图，该抛光砖由两种色块组成，分别为第一色块11和第二色块12，第二色块12设置有两个，分别设置在第一色块11的两侧。第一色块11和第二色块12通过凹槽20分隔(此处的凹槽20为分隔槽)，凹槽20中设置有釉料层。通过这种方式，实现了楼梯台阶抛光砖的一体成型制作，不但降低生产成本和铺贴施工成本，同时提高其美观性。需要说明的是，为了达到同样的楼梯台阶砖的铺贴效果，传统的方式是分别通过三块抛光砖实现(一个色块对应一块抛光砖)，而为了提高相邻的色块之间的分隔效果，则需要在这两个色块之间再设置一个细长的抛光砖分隔带(一般是通过对抛光砖进行裁切得到)，因此传统的这种抛光砖结构在铺贴时需要进行切割加工和多次铺贴，其后期加工成本和铺贴成本非常高。而采用本实施例的结构后，后期无需对抛光砖进行裁切，也无需分开铺贴多块不同颜色的抛光砖，其后期加工成本和铺贴成本低。

实际应用中，楼梯台阶抛光砖还设置有防滑槽30，防滑槽30可以通过传统的开槽工艺加工得到，也可以通过在上模上设置对应压条的方式挤压得到，这种方式后期加工成本低，同时防滑槽30的纹路和颜色可以选择，实用性高。

本实施例中，凹槽20设置有两个，并且平行设置(参见图4和图7)。而根据楼梯台阶抛光砖的要求，两个凹槽20之间的距离可以选择为600mm或者800mm，而楼梯台阶抛光砖的整体长度可以选择为1000mm或者1200mm。当然，实际应用中，凹槽20的位置、数量、以及抛光砖的尺寸等需要根据该抛光砖的应用需要进行调整。

在某个实施例中，参见图5，图5是楼梯台阶抛光砖的另一结构简图。该实施例与上述图4的实施例基本一样，不同的是，该实施例的凹槽20为花纹槽。

在某些实施例中，也可以在抛光砖的抛光面上设置多种不同形状的凹槽20，通过这些不同形状尺寸的凹槽20组合形成更加丰富的纹路图案。在抛光砖生产中，通过改变上模的压条110结构，即可得到不同纹路、不同尺寸大小的花纹槽或图案。

在某个实施例中，参见图6，图6为墙裙抛光砖的结构简图。可以看出，图6中公开的墙裙抛光砖的凹槽20同样采用花纹槽，但是由于抛光砖的用途和要求不同，其凹槽20设置的位置和尺寸也存在差异，本实施例的凹槽20设置在抛光砖的抛光面的最上方位置，同时凹槽20的宽度也比图4和图5的凹槽宽。

需要说明的是，本申请所述的抛光砖优选为瓷质抛光砖，并且符合GB/T4100-2015标准，具体为，本申请的抛光砖的吸水率不超过0.5％(即≤0.5％)。

上述实施例公开的抛光砖的抛光面具有凹槽，并且凹槽中设置釉料层，使抛光砖的抛光面形成具有丰富的纹路或图案，便于在抛光砖的抛光面上形成良好的区域分隔效果，提高产品的美观性，并且这种纹路或图案并不会受到抛光砖的抛光打磨影响，实用性高。

应当理解的是，本实用新型的应用不限于上述的举例，对本领域普通技术人员来说，可以根据上述说明加以改进或变换，所有这些改进和变换都应属于本实用新型所附权利要求的保护范围。

Claims (9)

1.一种抛光面带有凹槽的抛光砖，其特征在于，所述抛光砖的抛光面设置有至少一个凹槽，所述凹槽中设置有釉料层。

2.根据权利要求1所述的抛光砖，其特征在于，所述凹槽为花纹槽或分隔槽。

3.根据权利要求1所述的抛光砖，其特征在于，所述凹槽设置有两个，两个凹槽平行设置在所述抛光砖的抛光面。

4.根据权利要求3所述的抛光砖，其特征在于，所述两个凹槽之间的距离为500-1200mm。

5.根据权利要求1所述的抛光砖，其特征在于，所述抛光砖的吸水率不超过0.5％。

6.一种生产抛光面带有凹槽的抛光砖的模具结构，用于对抛光砖粉料进行压制成型，使压制成型后的抛光砖粉料表面形成凹槽，其特征在于，包括上模、下模和压条；在所述上模和所述下模合模对抛光砖粉料进行压制成型时，所述压条对抛光砖粉料表面进行挤压，使压制成型后的抛光砖粉料表面形成凹槽。

7.根据权利要求6所述的模具结构，其特征在于，所述下模包括基座和活动面；在抛光砖粉料送达到模具结构中后，所述活动面相对于所述基座下沉，形成压制凹腔，所述抛光砖粉料落入所述压制凹腔中，所述上模动作向压制凹腔中的抛光砖粉料进行挤压。

8.根据权利要求6或7所述的模具结构，其特征在于，所述压条设置在所述上模的挤压面上，在所述上模和所述下模合模对抛光砖粉料进行压制成型时，所述压条对抛光砖粉料上表面进行挤压，使压制成型后的抛光砖粉料上表面形成凹槽。

9.根据权利要求7所述的模具结构，其特征在于，所述压条设置在所述下模的活动面上，在所述上模和所述下模合模对抛光砖粉料进行压制成型时，设置在活动面上的压条对抛光砖粉料下表面进行挤压，使抛光砖粉料下表面形成凹槽。