CN110744685A - 一种陶瓷砖模具及其制成的砖坯 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种陶瓷砖模具，适用于干法冲压成型的陶瓷砖压制设备，包括上模和下模，所述上模和所述下模扣合形成模腔，所述下模的表面向下凹陷形成至少一个下沉位，且所述下沉位的宽度与所述模腔的宽度相同，所述下沉位靠近于所述下模的出窑方向的侧边。本技术方案提出的一种陶瓷砖模具，通过改变压机下模的形状以改善陶瓷砖波浪纹的产生。进而提出的一种使用上述陶瓷砖模具制成的砖坯，其烧成后的砖坯铺贴面的平整度较高，有利于提高瓷砖铺贴的美观度。
Description
技术领域
本发明涉及建筑陶瓷生产领域，尤其涉及一种陶瓷砖模具及其制成的砖坯。
背景技术
建筑陶瓷生产领域的陶瓷砖，其吸水率往往都达到了小于0.1％的水平，甚至在0.1％以内还可将吸水率再划分为两个档次，分别是0.05以下吸水率和0.05-0.1吸水率。吸水率越低，陶瓷砖的后期二次变形较稳定，基本可以做到磨边后变形度保持不变，且各项物化性能都较好，以此受到消费者的认可，所以低吸水率的陶瓷砖成为大多数生产厂家的选择。
陶瓷砖吸水率较低，意味着烧结程度越好，玻化程度越高，也就说明坯体在烧成区域越软。随着制造工厂的生产量越来越大，大产量的砖坯生产容易导致其在窑炉中的走位不好，在烧结过后，砖坯的出窑方向的前后边相距5cm-20cm的位置处产生较严重的S型变形，也就是陶瓷行业俗称的波浪纹或棍棒印。当陶瓷砖的波浪纹过大，会严重影响瓷砖铺贴的美观度，所以如何改善波浪纹成为了业界比较关注的技术难题。
发明内容
本发明的目的在于提出一种陶瓷砖模具，通过改变压机下模的形状以改善陶瓷砖波浪纹的产生，以克服现有技术中的不足之处。
本发明的另一个目的在于提出一种使用上述陶瓷砖模具制成的砖坯，其烧成后的砖坯铺贴面的平整度较高，有利于提高瓷砖铺贴的美观度。
为达此目的，本发明采用以下技术方案：
一种陶瓷砖模具，适用于干法冲压成型的陶瓷砖压制设备，包括上模和下模，所述上模和所述下模扣合形成模腔，所述下模的表面向下凹陷形成至少一个下沉位，且所述下沉位的宽度与所述模腔的宽度相同，所述下沉位靠近于所述下模的出窑方向的侧边。
优选的，所述下沉位沿所述下模的出窑方向的竖直剖面为弧形，且所述下沉位的最低点为所述弧形的中点。
优选的，所述下沉位设置有两个，且任意一所述下沉位靠近于所述下模的出窑方向的前侧边，另一所述下沉位靠近于所述下模的出窑方向的后侧边。
优选的，所述下沉位的下沉深度和所述模腔的最小深度的比例为1：(25～34)。
优选的，所述下沉位的长度和所述模腔的长度的比例为1：(3～6)。
优选的，所述下沉位的最低点到所述模腔的侧边的最短距离和所述模腔的长度的比例为1：(6～12)。
优选的，所述下沉位的下沉深度和所述模腔的最小深度的比例为1：30。
优选的，所述下沉位的长度和所述模腔的长度的比例为1：5。
优选的，所述下沉位的最低点到所述模腔的侧边的最短距离和所述模腔的长度的比例为1：7.5。
一种使用上述的陶瓷砖模具制成的砖坯，砖坯的下表面具有向下突出的隆起，所述隆起的形状与所述下沉位的形状相匹配。
本发明的有益效果：本技术方案提出的一种陶瓷砖模具，通过改变压机下模的形状以改善陶瓷砖波浪纹的产生。进而提出的一种使用上述陶瓷砖模具制成的砖坯，其烧成后的砖坯铺贴面的平整度较高，有利于提高瓷砖铺贴的美观度。
附图说明
附图对本发明做进一步说明，但附图中的内容不构成对本发明的任何限制。
图1是矩形砖坯在窑炉三个温度带中砖形变形的示意图。
图2是本发明一种砖坯在窑炉三个温度带中砖形变形的示意图。
图3是本发明一种陶瓷砖模具竖直剖面的结构示意图。
图4是本发明一种陶瓷砖模具竖直剖面的结构示意图。
图5是本发明一种陶瓷砖模具竖直剖面的结构示意图。
图6是本发明一种砖坯的侧视图。
其中：上模1；下模2；下沉位21；隆起22。
具体实施方式
下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本发明的技术方案。
一种陶瓷砖模具，适用于干法冲压成型的陶瓷砖压制设备，包括上模1和下模2，所述上模1和所述下模2扣合形成模腔，所述下模2的表面向下凹陷形成至少一个下沉位21，且所述下沉位21的宽度与所述模腔的宽度相同，所述下沉位21靠近于所述下模2的出窑方向的侧边。
建筑陶瓷的干法冲压成型工艺为将磨碎后的陶瓷粉料经过干法造粒后倒入压制设备的陶瓷砖模具中，再通过挤压成型机压制成砖坯。现有的压制模具的上模和下模的挤压面一般都是平整，其扣合形成一个矩形体的模腔，压制后形成矩形砖坯。在矩形砖坯入窑烧制的过程中，砖坯在窑炉中主要经历三个温度带，而砖坯在窑炉三个温度带中的砖形变化如图1所示，当砖坯处于预热带时，主要是水分的流失，其砖形变化不大；当砖坯处于氧化带时，窑炉底面气压增大，温度升高，砖形在氧化还原反应过程中会微微上翘；当砖坯处于烧成带时，砖坯开始软化，重力作用结合窑炉辊棒的转动带来的横向摩擦力，以及窑炉气压的综合作用，在平行砖坯出窑方向的左右边，前后段易产生辊棒纹，尤其以后段更为严重。
因此，为了改善陶瓷砖因烧制过程中产生的波浪纹，提高瓷砖铺贴的美观度，本发明的技术方案提出了一种陶瓷砖模具，通过改变下模的形状以改善陶瓷砖波浪纹的产生，提高瓷砖铺贴的美观度。
具体地，包括上模1和下模2，上模1和下模2扣合形成模腔，下模2的表面向下凹陷形成至少一个下沉位21，且下沉位21靠近于下模2的出窑方向的侧边，经过本技术方案的陶瓷砖模具压制而成的砖坯，其在烧成窑炉的整个烧成过程中，如图2所示，当砖坯处于氧化带时，砖坯微上翘的阶段幅度降低，当砖坯处于烧成带时，砖坯软化下陷的过程幅度相应降低，从而达到改善波浪纹的目的。由于陶瓷砖波浪形的产生，一般以陶瓷砖的出窑方向，其后边较为严重，前边较轻微，因此本技术方案中的下沉位21设置于靠近于下模2的出窑方向的侧边，以达到有效改善陶瓷砖波浪纹的目的。
更进一步说明，所述下沉位21沿所述下模2的出窑方向的竖直剖面为弧形，且所述下沉位21的最低点为所述弧形的中点。
下沉位21的竖直剖面为弧形，即下沉位21的表面从边缘到中部逐渐向下凹陷，将下沉位21的最低点限定为弧形的中点，其对改善烧制后陶瓷砖的波浪形的效果最佳，其铺贴面的平整度最好，铺贴效果最佳。
更进一步说明，所述下沉位21设置有两个，且任意一所述下沉位21靠近于所述下模2的出窑方向的前侧边，另一所述下沉位21靠近于所述下模2的出窑方向的后侧边。
需要说明的是，陶瓷砖波浪形一般在出窑方向的后边较为严重，前边较轻微。如果前边的波浪形情况对铺贴瓷砖时的平整度影响不大，可以只在出窑方向的后边设置下沉位21，如果陶瓷砖波浪形在出窑方向的前后边都比较严重，可以在陶瓷砖模具的出窑方向的前后两边都设置下沉位21。
更进一步说明，所述下沉位21的下沉深度和所述模腔的最小深度的比例为1：(25～34)。
如图3所示，下沉位21的下沉深度为a，模腔的最小深度为b，本技术方案中将下沉位21的下沉深度和模腔的最小深度的比例限定为1：(25～34)，对改善烧制后陶瓷砖的波浪形的效果最好。由于在陶瓷砖的砖坯生产中，砖坯的厚度所允许的偏差(即正常偏差)有一定的范围，当比例过大时，陶瓷砖的整砖厚度过厚(整砖厚度即为a+b)，尺寸偏差较大，不符合砖坯的生产标准；当比例过小时，对应下沉位21形成的砖坯隆起22位置的增厚效果不明显，对烧成后的砖坯波浪形的改善作用较小。
更进一步说明，所述下沉位21的长度和所述模腔的长度的比例为1：(3～6)。
如图4所示，下沉位21的长度为c，模腔的长度为d，本技术方案中将下沉位21的长度和模腔的长度的比例限定为1：(3～6)，对改善烧制后陶瓷砖的波浪形的效果最好。当比例过小时，对应下沉位21形成的砖坯隆起22位置离下模2的边缘越近，边缘抗弯曲力较大，对波浪纹起到的改善效果较差；由于陶瓷砖的波浪形在出窑方向的后边产生较为严重，如果砖坯中间或是出窑方向的前边也有较严重波浪，一般是需要通过降低窑温改善，而当下沉位21的长度和模腔的长度比例过大时，相对于增加了砖坯的局部厚度，其对陶瓷砖的波浪纹几乎起不到改善作用。
更进一步说明，所述下沉位21的最低点到所述模腔的侧边的最短距离和所述模腔的长度的比例为1：(6～12)。
如图5所示，下沉位21的最低点到模腔的侧边的最短距离为e，模腔的长度为f，本技术方案中将下沉位21的最低点到模腔的侧边的最短距离和模腔的长度的比例限定为1：(6～12)，对改善烧制后陶瓷砖的波浪形的效果最好。当比例过小时，对应下沉位21形成的砖坯隆起22位置离下模2的边缘越近，边缘抗弯曲力较大，对波浪纹起到的改善效果较差；由于陶瓷砖的波浪形在出窑方向的后边产生较为严重，如果砖坯中间或是出窑方向的前边也有较严重波浪，一般是需要通过降低窑温改善，而当下沉位21的长度和模腔的长度比例过大时，相对于增加了砖坯的局部厚度，其对陶瓷砖的波浪纹几乎起不到改善作用。
更进一步说明，所述下沉位21的下沉深度和所述模腔的最小深度的比例为1：30。
更进一步说明，所述下沉位21的长度和所述模腔的长度的比例为1：5。
更进一步说明，所述下沉位21的最低点到所述模腔的侧边的最短距离和所述模腔的长度的比例为1：7.5。
一种使用上述的陶瓷砖模具制成的砖坯，砖坯的下表面具有向下突出的隆起22，所述隆起22的形状与所述下沉位21的形状相匹配，且所述隆起22的厚度和所述砖坯的最小深度的比例为1：(25～34)。
需要说明的是，隆起22的厚度与砖坯的厚度实际是直接相关的，砖坯的厚度与模腔的厚度是相关联的。但在砖坯的实际生产中，由于砖坯出膜后会产生回弹，砖坯的厚度会比模腔厚度厚一点，两者间厚度的偏差是在误差范围内的，且肉眼看不出来，因此这个偏差是允许的。
以上结合具体实施例描述了本发明的技术原理。这些描述只是为了解释本发明的原理，而不能以任何方式解释为对本发明保护范围的限制。基于此处的解释，本领域的技术人员不需要付出创造性的劳动即可联想到本发明的其它具体实施方式，这些方式都将落入本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种陶瓷砖模具，适用于干法冲压成型的陶瓷砖压制设备，其特征在于：包括上模和下模，所述上模和所述下模扣合形成模腔，所述下模的表面向下凹陷形成至少一个下沉位，且所述下沉位的宽度与所述模腔的宽度相同，所述下沉位靠近于所述下模的出窑方向的侧边。
2.根据权利要求1所述的一种陶瓷砖模具，其特征在于：所述下沉位沿所述下模的出窑方向的竖直剖面为弧形，且所述下沉位的最低点为所述弧形的中点。
3.根据权利要求1所述的一种陶瓷砖模具，其特征在于：所述下沉位设置有两个，且任意一所述下沉位靠近于所述下模的出窑方向的前侧边，另一所述下沉位靠近于所述下模的出窑方向的后侧边。
4.根据权利要求1所述的一种陶瓷砖模具，其特征在于：所述下沉位的下沉深度和所述模腔的最小深度的比例为1：(25～34)。
5.根据权利要求1所述的一种陶瓷砖模具，其特征在于：所述下沉位的长度和所述模腔的长度的比例为1：(3～6)。
6.根据权利要求2所述的一种陶瓷砖模具，其特征在于：所述下沉位的最低点到所述模腔的侧边的最短距离和所述模腔的长度的比例为1：(6～12)。
7.根据权利要求4所述的一种陶瓷砖模具，其特征在于：所述下沉位的下沉深度和所述模腔的最小深度的比例为1：30。
8.根据权利要求5所述的一种陶瓷砖模具，其特征在于：所述下沉位的长度和所述模腔的长度的比例为1：5。
9.根据权利要求6所述的一种陶瓷砖模具，其特征在于：所述下沉位的最低点到所述模腔的侧边的最短距离和所述模腔的长度的比例为1：7.5。
10.使用权利要求1～9中任意一项所述的陶瓷砖模具制成的砖坯，其特征在于：砖坯的下表面具有向下突出的隆起，所述隆起的形状与所述下沉位的形状相匹配。
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| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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| GR01 | Patent grant | ||
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