CN202671418U - 一种改进的玻璃薄化设备 - Google Patents
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Abstract
一种改进的玻璃薄化设备，包括一箱体、进液管、支撑支架及溢流管，所述的箱体下端连接有进液管，所述的箱体的内部设置有支撑支架，箱体侧边设置有溢流管，关键在于所述的支撑支架下方设置有曝气管。所述的曝气管呈蛇形迂回设置在箱体的内部。本实用新型的改进的玻璃薄化设备在箱体内设置了曝气管，采用通入曝气管的结构，由于气泡在液体内具有一定的浮力，气体可以用来将反应残渣冲刷剥离玻璃表面，具有明显提高反应速度及反应质量的优点，获得的产品可以具有较高的表面光洁度。
Description
技术领域：
本实用新型属于液晶显示屏玻璃基片的制造及薄化领域，具体涉及的是一种改进的玻璃薄化设备。
背景技术：
现有的液晶显示屏玻璃基片的制造方法，一般分为浸泡法和喷淋法，其中浸泡法因为设备简单，可处理量大而使用广泛。浸泡法中的浸泡液在反应箱体中是流动的，但其流速无法快到有效地将在玻璃基板表面因腐蚀而生成的膏状玻璃渣带走，残留的玻璃渣会影响反应效果及反应速度，造成浸泡法的整体反应速度较喷淋法慢。
发明内容：
本实用新型的目的是提供一种可以克服上述缺陷的,可以具有较高反应速度的改进的玻璃薄化设备。
本实用新型解决其技术问题所采取的技术方案是：一种改进的玻璃薄化设备，所述的玻璃薄化设备包括一箱体、进液管、支撑支架及溢流管，所述的箱体下端连接有进液管，所述的箱体的内部设置有支撑支架，箱体侧边设置有溢流管，关键在于所述的支撑支架下方设置有曝气管。
所述的曝气管呈S形迂回设置在箱体的内部。
所述的支撑支架上设置有多个的卡位槽，在卡位槽的下方对应着曝气管的直线段。
所述的曝气管的每个直线段上设置有两排的曝气孔，两排的曝气孔排列在曝气管轴线两侧。
所述的两排曝气孔的间距h为1mm-3mm。
本实用新型的改进的玻璃薄化设备在箱体内设置了曝气管，采用通入曝气管的结构，由于气泡在液体内具有一定的浮力，气体可以用来将反应残渣冲刷剥离玻璃表面，具有明显提高反应速度及反应质量的优点，获得的产品可以具有较高的表面光洁度。
附图说明：
图1为本实用新型结构示意图。
图2为本实用新型结构另一角度示意图。
图3为本实用新型曝气管剖视结构示意图。
图4为本实用新型曝气孔结构示意图。
具体实施方式：
如图1至图4所示，一种改进的玻璃薄化设备，所述的玻璃薄化设备包括一箱体1，所述的箱体1下端连接有进液管12，所述的箱体的内部设置有支撑支架11，箱体侧边设置有溢流管13，所述的支撑支架11下方设置有曝气管14。溢流管13的入口连接在箱体1顶部的侧边，反应液从溢流管13流出之后。通过循环系统及循环水泵后，通过箱体1下端连接有进液管12进入箱体内部。所述的循环系统为现有技术，所述的箱体可以为方形或者圆形，所述的支撑支架11为框架结构，设置在箱体内，支撑支架11用来将基片玻璃垂直挂放在箱体内，具体的挂放片数可根据反应箱体的体积和循环水泵的流量决定，优选地为4片至8片。箱体1下端设置有多个的进液口，分别连接多个的进液管12，多个进液口也有效提高进液时候反应液体流动的均匀性，避免波动，减少反应基片玻璃的的振动。优选的，所述的进液口可设置3个到6个。
所述的曝气管14呈S形迂回设置在箱体的内部。曝气管14可为圆管，也可以为方管，实现单管迂回设置，曝气管为呈直线及曲线间隔依次连接的结构，直线段的部分对应设置在支撑支架11正下方，或者成一管连接多管的设置。
所述的支撑支架上设置有多个的卡位槽15，在卡位槽的下方对应着曝气管的直线段。卡位槽15为凹槽形状，卡位槽15内可以放置基片玻璃。曝气管的轴线对准基片玻璃的轴线。当气体从曝气管溢出的时候，形成气泡，气泡会贴着玻基片璃的表面上浮，由于上浮速度比箱体内液体的流动速度，气泡会对玻璃表面的反应残渣有刮落的作用，使残渣剥离玻璃表面，并被流动的液体带出反应箱体。
所述的曝气管的每个直线段上设置有两排的曝气孔141，两排的曝气孔排列在曝气管轴线两侧。两排的曝气孔141的孔径为0.5mm～1mm。两排的曝气孔141排出的气泡可以贴着基片玻璃的两侧而上浮，可以同时对基片玻璃的两面进行除渣处理，使基片玻璃表面及时露出新的反应面，大大提高了反应液的蚀刻速度。
所述的两排曝气孔的间距h为1mm-3mm。
Claims (5)
1.一种改进的玻璃薄化设备，所述的玻璃薄化设备包括一箱体（1）、进液管（12）、支撑支架（11）及溢流管（13），所述的箱体（1）下端连接有进液管（12），所述的箱体的内部设置有支撑支架（11），箱体侧边设置有溢流管（13），其特征在于所述的支撑支架（11）下方设置有曝气管（14）。
2.根据权利要求1所述的改进的玻璃薄化设备，其特征在于所述的曝气管（14）呈S形迂回设置在箱体的内部。
3.根据权利要求2所述的改进的玻璃薄化设备，其特征在于所述的支撑支架（11）上设置有多个的卡位槽（15），在卡位槽的下方对应着曝气管的直线段。
4.根据权利要求2所述的改进的玻璃薄化设备，其特征在于所述的曝气管的每个直线段上设置有两排的曝气孔（141），两排的曝气孔（141）排列在曝气管轴线两侧。
5.根据权利要求2所述的改进的玻璃薄化设备，其特征在于所述的两排曝气孔的间距h为1mm-3mm。
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|---|---|---|---|
| CN 201220302253 CN202671418U (zh) | 2012-06-26 | 2012-06-26 | 一种改进的玻璃薄化设备 |
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Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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Family
ID=47492334
Family Applications (1)
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Country Status (1)
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102701598A (zh) * | 2012-06-26 | 2012-10-03 | 深圳市拓捷科技发展有限公司 | 一种改进的玻璃薄化设备 |
| CN109369028A (zh) * | 2018-10-17 | 2019-02-22 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 一种蚀刻设备 |
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2012
- 2012-06-26 CN CN 201220302253 patent/CN202671418U/zh not_active Withdrawn - After Issue
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN102701598A (zh) * | 2012-06-26 | 2012-10-03 | 深圳市拓捷科技发展有限公司 | 一种改进的玻璃薄化设备 |
| CN109369028A (zh) * | 2018-10-17 | 2019-02-22 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 一种蚀刻设备 |
| CN109369028B (zh) * | 2018-10-17 | 2021-11-23 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 一种蚀刻设备 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| ASS | Succession or assignment of patent right |
Owner name: SHANTOU TOPJET TECHNOLOGY CO., LTD. Free format text: FORMER OWNER: SHENZHEN TUOJIE TECHNOLOGY DEVELOPMENT CO., LTD. Effective date: 20140609 |
|
| C41 | Transfer of patent application or patent right or utility model | ||
| COR | Change of bibliographic data |
Free format text: CORRECT: ADDRESS; FROM: 518000 SHENZHEN, GUANGDONG PROVINCE TO: 515000 SHANTOU, GUANGDONG PROVINCE |
|
| TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20140609 Address after: East Lake village in Guangdong province Haojiang District 515000 Shantou Nanhu Taiwanese Investment Zone Daming Road Patentee after: SHANTOU TOPJET TECHNOLOGY CO., LTD. Address before: 518000, 2801-E, Royal Plaza building, Futian Huanggang port, Guangdong, Shenzhen Patentee before: Shenzhen Tuojie Technology Development Co.,Ltd. |
|
| AV01 | Patent right actively abandoned |
Granted publication date: 20130116 Effective date of abandoning: 20150930 |
|
| RGAV | Abandon patent right to avoid regrant |