CN202152366U - 柔性ito磁控镀膜装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开一种柔性ITO磁控镀膜装置，包括容器体和分别设于容器体内的水冷镀膜辊、薄膜传动机构及磁控靶，薄膜传动机构包括对称设于水冷镀膜辊两侧的薄膜输入传动组件和薄膜输出传动组件，水冷镀膜辊外周分布有多个磁控靶，薄膜输入传动组件和薄膜输出传动组件上分别设有离子源组件，各离子源组件分别包括离子源正极导体和离子源负极导体，离子源正极导体和离子源负极导体分别设于薄膜的两面，离子源正极导体和离子源负极导体上分别设有充气孔。本柔性ITO磁控镀膜装置通过在水冷镀膜辊的输入侧和输出侧分别设置离子源组件，使薄膜在镀膜前后其表面都附着离子，从而提高薄膜表面镀膜层的附着力，提高柔性ITO的成品质量。
Description
技术领域
本实用新型涉及玻璃镀膜技术领域，特别涉及一种柔性ITO磁控镀膜装置。
背景技术
高真空卷绕式镀膜设备是在薄膜卷材表面真空蒸镀铝膜的专用设备，适用于金属化食品包装材料、电化铝材料、反光材料、保温材料、表面装潢材料和电气材料等的镀膜。目前常用的高真空卷绕式镀膜设备中，柔性ITO(透明导电膜玻璃)磁控镀膜装置一般是在真空空间内，通过传统的传动机构将薄膜绕于水冷镀膜辊上，通过设于水冷镀膜辊外周的磁控靶对薄膜进行镀膜，但在实际生产中，该结构的镀膜装置使用时，薄膜表面的镀膜层附着力较差，影响柔性ITO成品质量。
实用新型内容
本实用新型的目的在于克服现有技术的不足，提供一种能有效提高薄膜表面镀膜层附着力的柔性ITO磁控镀膜装置。
本实用新型的技术方案为：一种柔性ITO磁控镀膜装置，包括容器体、水冷镀膜辊、薄膜传动机构和磁控靶，水冷镀膜辊、薄膜传动机构和磁控靶分别设于容器体内，薄膜传动机构包括对称设于水冷镀膜辊两侧的薄膜输入传动组件和薄膜输出传动组件，水冷镀膜辊外周分布有多个磁控靶，所述薄膜输入传动组件和薄膜输出传动组件上分别设有离子源组件，各离子源组件分别包括离子源正极导体和离子源负极导体，离子源正极导体和离子源负极导体分别设于薄膜的两面，离子源正极导体和离子源负极导体上分别设有充气孔。
所述薄膜输入传动组件包括放卷辊、第一导向辊、第一张力辊、第二导向辊和第三导向辊，按照薄膜输送方向，放卷辊、第一导向辊、第一张力辊、第二导向辊和第三导向辊依次设置于水冷镀膜辊的输入侧；第二导向辊和第三导向辊之间设置离子源组件；
所述薄膜输出传动组件包括第四导向辊、第五导向辊、第二张力辊、第六导向辊和收卷辊，按照薄膜输送方向，第四导向辊、第五导向辊、第二张力辊、第六导向辊和收卷辊依次设置于水冷镀膜辊的输出侧；第四导向辊和第五导向辊之间设置离子源组件。
所述水冷镀膜辊的输入侧和输出侧分别设有压紧辊，使薄膜可贴紧于水冷镀膜辊表面，提高薄膜表面镀膜层的均匀性。
所述容器体为圆筒状结构，容器体外壁设有多个抽真空用的分子泵。
所述各离子源组件分别外接直流电源。
本柔性ITO磁控镀膜装置使用时，由薄膜输入传动组件将薄膜送至水冷镀膜辊，该过程中当薄膜被送至第二导向辊和第三导向辊之间时，离子源组件将作为离子源的气体(如氧气、氮气等)电离，并将电离产生的离子附着于薄膜表面；薄膜在水冷镀膜辊上通过各个磁控靶进行镀膜后，由薄膜输出传动组件将薄膜送出并收卷，该过程当薄膜被送至第四导向辊和第五导向辊之间时，离子源组件将作为离子源的气体(如氧气、氮气等)电离，并将电离产生的离子进一步附着于薄膜表面，从而提高镀膜层在薄膜表面的附着力。在薄膜镀膜的整个过程中，通过各个分子泵保持容器体内部为真空状态。
本实用新型相对于现有技术，具有以下有益效果：
本柔性ITO磁控镀膜装置通过在水冷镀膜辊的输入侧和输出侧分别设置离子源组件，使薄膜在镀膜前后其表面都附着离子，从而提高薄膜表面镀膜层的附着力，提高柔性ITO的成品质量。
附图说明
图1为本柔性ITO磁控镀膜装置的结构示意图。
具体实施方式
下面结合实施例及附图，对本实用新型作进一步的详细说明，但本实用新型的实施方式不限于此。
实施例
本实施例一种柔性ITO磁控镀膜装置，其结构如图1所示，包括容器体1、水冷镀膜辊2、薄膜传动机构和磁控靶3，水冷镀膜辊2、薄膜传动机构和磁控靶3分别设于容器体1内，薄膜传动机构包括对称设于水冷镀膜辊2两侧的薄膜输入传动组件和薄膜输出传动组件，水冷镀膜辊2外周分布有多个磁控靶3，薄膜输入传动组件和薄膜输出传动组件上分别设有离子源组件4，各离子源组件4分别包括离子源正极导体和离子源负极导体，离子源正极导体和离子源负极导体分别设于薄膜的两面，离子源正极导体和离子源负极导体上分别设有充气孔。
其中，薄膜输入传动组件包括放卷辊5、第一导向辊6、第一张力辊7、第二导向辊8和第三导向辊9，按照薄膜输送方向，放卷辊5、第一导向辊6、第一张力辊7、第二导向辊8和第三导向辊9依次设置于水冷镀膜辊2的输入侧；第二导向辊8和第三导向辊9之间设置离子源组件4；
薄膜输出传动组件包括第四导向辊10、第五导向辊11、第二张力辊12、第六导向辊13和收卷辊14，按照薄膜输送方向，第四导向辊10、第五导向辊11、第二张力辊12、第六导向辊13和收卷辊14依次设置于水冷镀膜辊2的输出侧；第四导向辊10和第五导向辊11之间设置离子源组件4。
水冷镀膜辊2的输入侧和输出侧分别设有压紧辊15，使薄膜可贴紧于水冷镀膜辊2表面，提高薄膜表面镀膜层的均匀性。
容器体1为圆筒状结构，容器体1外壁设有多个抽真空用的分子泵16。
各离子源组件4分别外接直流电源。
本柔性ITO磁控镀膜装置使用时，由薄膜输入传动组件将薄膜17送至水冷镀膜辊2，该过程中当薄膜17被送至第二导向辊8和第三导向辊9之间时，离子源组件4将作为离子源的气体(如氧气、氮气等)电离，并将电离产生的离子附着于薄膜17表面；薄膜17在水冷镀膜辊2上通过各个磁控靶3进行镀膜后，由薄膜输出传动组件将薄膜17送出并收卷，该过程当薄膜17被送至第四导向辊10和第五导向辊11之间时，离子源组件4将作为离子源的气体(如氧气、氮气等)电离，并将电离产生的离子进一步附着于薄膜17表面，从而提高镀膜层在薄膜表面的附着力。在薄膜镀膜的整个过程中，通过各个分子泵16保持容器体内部为真空状态。
如上所述，便可较好地实现本实用新型，上述实施例仅为本实用新型的较佳实施例，并非用来限定本实用新型的实施范围；即凡依本实用新型内容所作的均等变化与修饰，都为本实用新型权利要求所要求保护的范围所涵盖。
Claims (5)
1.柔性ITO磁控镀膜装置，包括容器体、水冷镀膜辊、薄膜传动机构和磁控靶，水冷镀膜辊、薄膜传动机构和磁控靶分别设于容器体内，薄膜传动机构包括对称设于水冷镀膜辊两侧的薄膜输入传动组件和薄膜输出传动组件，水冷镀膜辊外周分布有多个磁控靶，其特征在于，所述薄膜输入传动组件和薄膜输出传动组件上分别设有离子源组件，各离子源组件分别包括离子源正极导体和离子源负极导体，离子源正极导体和离子源负极导体分别设于薄膜的两面，离子源正极导体和离子源负极导体上分别设有充气孔。
2.根据权利要求1所述的柔性ITO磁控镀膜装置，其特征在于，所述薄膜输入传动组件包括放卷辊、第一导向辊、第一张力辊、第二导向辊和第三导向辊，按照薄膜输送方向，放卷辊、第一导向辊、第一张力辊、第二导向辊和第三导向辊依次设置于水冷镀膜辊的输入侧；第二导向辊和第三导向辊之间设置离子源组件；
所述薄膜输出传动组件包括第四导向辊、第五导向辊、第二张力辊、第六导向辊和收卷辊，按照薄膜输送方向，第四导向辊、第五导向辊、第二张力辊、第六导向辊和收卷辊依次设置于水冷镀膜辊的输出侧；第四导向辊和第五导向辊之间设置离子源组件。
3.根据权利要求2所述的柔性ITO磁控镀膜装置，其特征在于，所述水冷镀膜辊的输入侧和输出侧分别设有压紧辊。
4.根据权利要求1所述的柔性ITO磁控镀膜装置，其特征在于，所述容器体为圆筒状结构，容器体外壁设有多个抽真空用的分子泵。
5.根据权利要求1所述的柔性ITO磁控镀膜装置，其特征在于，所述各离子源组件分别外接直流电源。
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