CN204803398U - 一种提高磁控溅射靶材利用率的结构 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种提高磁控溅射靶材利用率的结构，包括伺服电机、丝杠、磁铁板、丝杠螺母、磁铁组和靶材，所述靶材的背面设置磁铁组，磁铁组固连在磁铁板上，从而构成磁控溅射靶材结构，所述磁铁板的背面固连丝杠螺母，丝杠螺母连接丝杠，丝杠的一端连接伺服电机。本实用主要是通过将磁铁板的宽度变窄，同时配有伺服电机与丝杠，通过伺服电机的正反转及适当的转速控制，使得磁铁板带着磁铁组在靶材宽度范围内，进行左右移动。通过周期性的左右运动叠加，最终达到最大的靶材刻蚀效果，通过测试，靶材利用率可提高1倍以上。

Description

一种提高磁控溅射靶材利用率的结构

技术领域

本实用新型涉及一种磁控溅射靶材，具体是一种提高磁控溅射靶材利用率的结构。

背景技术

大型连续性真空镀膜设备，主要是在真空的环境下连续不断的将靶材溅射沉积到玻璃基板上。靶材从更换到用完，其寿命直接影响了镀膜产品的成本。尤其是ITO导电玻璃镀膜行业，因氧化铟锡的价格极其昂贵，溅射用靶材的成本占产品成本的三分之一以上，故提高溅射靶材的利用率一直是镀膜行业技术人员追求的方向。

所谓镀膜，就是在固体表面上镀上一层与基体材料不同的薄层材料，从而改变表面的基体性质的技术。ITO导电玻璃镀膜技术，即通过磁控溅射的方法将氧化铟锡(简称ITO)靶材，溅射沉积到玻璃表面，从而形成一层透明导电的氧化物薄膜。所谓“溅射”就是用荷能粒子(通常是气体的正离子)轰击物体，从而引起物理表面原子从母体中逸出的现象。1842年，Groue在实验室发现的这种现象；1877年，美国贝尔实验室及西屋电气公司开始应用溅射原理制备薄膜。1970年磁控溅射技术及其装置开始出现。利用磁场的来束缚电子的运动，使轰击基片的高能电子减少，而轰击靶的高能粒子增多，从而具备高速，低温两大特点，从而得到了大面积的工业应用。

通过靶材下面的N-S-N三排固定在磁铁板上的磁铁所发散出的磁力线束缚靶材表面的电子运动轨迹，电子在辉光放电时不断促使氩气电离出氩正离子，而ITO靶材上通了较高的负电压，氩正离子就不断的向靶材方向高速移动，从而不断将靶材原子轰击出来，沉积到基材表面形成ITO导电薄膜。靶材在刻蚀完成后，所形成的沟槽形状，其正好与磁力线的分布对称，因为中间区域平行于靶面方向的磁力线最多，其所束缚的电子就越多，导致溅射量就越大。

现有技术的缺点主要是磁力线从固定在磁铁板上的磁极上，垂直于磁铁表面出来，从N到S。其靶材的中间及两边有较多的无效溅射区域，导致利用率比较低，基本在18％左右。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种提高磁控溅射靶材利用率的结构，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种提高磁控溅射靶材利用率的结构，包括伺服电机、丝杠、磁铁板、丝杠螺母、磁铁组和靶材，所述靶材的背面设置磁铁组，磁铁组固连在磁铁板上，从而构成磁控溅射靶材结构，所述磁铁板的背面固连丝杠螺母，丝杠螺母连接丝杠，丝杠的一端连接伺服电机。

作为本实用新型进一步的方案：所述磁铁组由极性交错设置的条形磁铁构成。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本实用主要是通过将磁铁板的宽度变窄，同时配有伺服电机与丝杠，通过伺服电机的正反转及适当的转速控制，使得磁铁板带着磁铁组在靶材宽度范围内，进行左右移动。通过周期性的左右运动叠加，最终达到最大的靶材刻蚀效果，通过测试，靶材利用率可提高1倍以上。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1，本实用新型实施例中，一种提高磁控溅射靶材利用率的结构，包括伺服电机1、丝杠2、磁铁板3、丝杠螺母4、磁铁组5、靶材6和已刻蚀区域7，所述靶材6的背面设置磁铁组5，磁铁组5固连在磁铁板3上，从而构成磁控溅射靶材结构，所述磁铁板3的背面固连丝杠螺母4，丝杠螺母4连接丝杠2，丝杠2的一端连接伺服电机1，通过伺服电机1带动丝杠2转动，而通过螺纹进给的原理，使得丝杠螺母4和磁控溅射靶材结构相对于丝杠2左右移动，使得靶材6正面的已刻蚀区域7增大。

所述磁铁组5由极性交错设置的条形磁铁构成。

本实用主要是通过将磁铁板3的宽度变窄，同时配有伺服电机1与丝杠2，通过伺服电机1的正反转及适当的转速控制，使得磁铁板3带着磁铁组5在靶材宽度范围内，进行左右移动。通过周期性的左右运动叠加，最终达到最大的靶材刻蚀效果，通过测试，靶材利用率可提高1倍以上。

对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。

此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。

Claims (2)

1.一种提高磁控溅射靶材利用率的结构，包括伺服电机、丝杠、磁铁板、丝杠螺母、磁铁组和靶材，所述靶材的背面设置磁铁组，磁铁组固连在磁铁板上，从而构成磁控溅射靶材结构，其特征在于，所述磁铁板的背面固连丝杠螺母，丝杠螺母连接丝杠，丝杠的一端连接伺服电机。

2.根据权利要求1所述的一种提高磁控溅射靶材利用率的结构，其特征在于，所述磁铁组由极性交错设置的条形磁铁构成。