CN201826007U - 一种防着板和薄膜沉积设备 - Google Patents
一种防着板和薄膜沉积设备 Download PDFInfo
- Publication number
- CN201826007U CN201826007U CN2010205681463U CN201020568146U CN201826007U CN 201826007 U CN201826007 U CN 201826007U CN 2010205681463 U CN2010205681463 U CN 2010205681463U CN 201020568146 U CN201020568146 U CN 201020568146U CN 201826007 U CN201826007 U CN 201826007U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- plate
- preventing
- hole
- film
- cavity
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Images
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Description
Claims (8)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN2010205681463U CN201826007U (zh) | 2010-10-14 | 2010-10-14 | 一种防着板和薄膜沉积设备 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN2010205681463U CN201826007U (zh) | 2010-10-14 | 2010-10-14 | 一种防着板和薄膜沉积设备 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN201826007U true CN201826007U (zh) | 2011-05-11 |
Family
ID=43964556
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN2010205681463U Expired - Lifetime CN201826007U (zh) | 2010-10-14 | 2010-10-14 | 一种防着板和薄膜沉积设备 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN201826007U (zh) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103305798A (zh) * | 2013-05-21 | 2013-09-18 | 上海和辉光电有限公司 | 蒸镀装置及利用该蒸镀装置进行的蒸镀工艺 |
CN106460147A (zh) * | 2014-06-13 | 2017-02-22 | 应用材料公司 | 针对较好的均匀性和增加的边缘寿命的平坦边缘设计 |
WO2018192196A1 (zh) * | 2017-04-18 | 2018-10-25 | 京东方科技集团股份有限公司 | 防着板及其表面处理方法、材料回收方法以及薄膜沉积设备 |
CN109097739A (zh) * | 2018-08-02 | 2018-12-28 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种防着板及蒸镀设备 |
CN111155057A (zh) * | 2020-01-20 | 2020-05-15 | 绵阳京东方光电科技有限公司 | 限制结构、线源装置及蒸镀系统 |
CN112824558A (zh) * | 2019-11-20 | 2021-05-21 | 佳能特机株式会社 | 成膜装置、使用成膜装置的成膜方法及电子器件的制造方法 |
-
2010
- 2010-10-14 CN CN2010205681463U patent/CN201826007U/zh not_active Expired - Lifetime
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103305798A (zh) * | 2013-05-21 | 2013-09-18 | 上海和辉光电有限公司 | 蒸镀装置及利用该蒸镀装置进行的蒸镀工艺 |
CN103305798B (zh) * | 2013-05-21 | 2015-08-26 | 上海和辉光电有限公司 | 蒸镀装置及利用该蒸镀装置进行的蒸镀工艺 |
CN106460147A (zh) * | 2014-06-13 | 2017-02-22 | 应用材料公司 | 针对较好的均匀性和增加的边缘寿命的平坦边缘设计 |
WO2018192196A1 (zh) * | 2017-04-18 | 2018-10-25 | 京东方科技集团股份有限公司 | 防着板及其表面处理方法、材料回收方法以及薄膜沉积设备 |
CN109097739A (zh) * | 2018-08-02 | 2018-12-28 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种防着板及蒸镀设备 |
CN112824558A (zh) * | 2019-11-20 | 2021-05-21 | 佳能特机株式会社 | 成膜装置、使用成膜装置的成膜方法及电子器件的制造方法 |
CN111155057A (zh) * | 2020-01-20 | 2020-05-15 | 绵阳京东方光电科技有限公司 | 限制结构、线源装置及蒸镀系统 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN201826007U (zh) | 一种防着板和薄膜沉积设备 | |
CN102779715A (zh) | 等离子体生成用电极和等离子体处理装置 | |
TWI502091B (zh) | Sputtering device | |
KR101667195B1 (ko) | 물리적 기상 증착용 챔버 | |
CN201400713Y (zh) | 一种真空镀膜的挡板结构 | |
CN109097739A (zh) | 一种防着板及蒸镀设备 | |
CN206706198U (zh) | 磁控溅射装置和磁控溅射设备 | |
CN106011765A (zh) | 一种磁控溅射真空镀膜设备 | |
CN202954086U (zh) | 一种镀膜设备及靶材 | |
CN102560384A (zh) | 在基底表面上沉积纳米点阵的方法 | |
CN201785478U (zh) | 一种蒸镀设备 | |
CN204803396U (zh) | 一种真空溅射镀膜装置 | |
CN205205222U (zh) | 磁控溅射装置 | |
JP5003667B2 (ja) | 薄膜の製造方法および薄膜製造装置 | |
CN105525269A (zh) | 一种磁控溅射设备 | |
CN204803397U (zh) | 一种溅射镀膜装置 | |
CN203065565U (zh) | 用于在石墨烯薄膜上生成透明导电薄膜的溅射镀膜装置 | |
TW201721708A (zh) | 被配置為用於在基板上進行濺鍍沉積的系統、用於濺鍍沉積腔室的屏蔽裝置及用於在濺鍍沉積腔室中提供電屏蔽的方法 | |
CN102677006A (zh) | 一种透明非晶态氧化物半导体溅镀靶材 | |
CN204198843U (zh) | 真空溅射镀膜装置 | |
CN206408288U (zh) | 一种高清显示行业用旋转硅锆钛靶材 | |
CN102861737A (zh) | 洁净室及其自动清洁盒 | |
CN205529013U (zh) | 磁控溅射镀膜薄膜厚度一致性控制装置 | |
CN205954102U (zh) | 一种pvd载板 | |
CN202898521U (zh) | 薄膜形成装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
ASS | Succession or assignment of patent right |
Owner name: JINGDONGFANG SCIENCE AND TECHNOLOGY GROUP CO., LTD Free format text: FORMER OWNER: BEIJING BOE PHOTOELECTRICITY SCIENCE + TECHNOLOGY CO., LTD. Effective date: 20150702 Owner name: BEIJING BOE PHOTOELECTRICITY SCIENCE + TECHNOLOGY Effective date: 20150702 |
|
C41 | Transfer of patent application or patent right or utility model | ||
TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20150702 Address after: 100015 Jiuxianqiao Road, Beijing, No. 10, No. Patentee after: BOE Technology Group Co., Ltd. Patentee after: Beijing BOE Photoelectricity Science & Technology Co., Ltd. Address before: 100176 Beijing economic and Technological Development Zone, West Central Road, No. 8 Patentee before: Beijing BOE Photoelectricity Science & Technology Co., Ltd. |
|
CX01 | Expiry of patent term |
Granted publication date: 20110511 |
|
CX01 | Expiry of patent term |