CN201804896U - 等离子体化学气相沉积连续生产装置 - Google Patents

等离子体化学气相沉积连续生产装置 Download PDF

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杨继泽
刘万学
张兵
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Abstract

本实用新型涉及一种太阳能电池生产中对太阳能电池进行等离子体化学气相沉积PIN层的设备，具体的说是一种等离子体化学气相沉积连续生产装置。该装置包括自动上下料平台、进片室、加热室、P层沉积室、多个I层的沉积室、N层沉积室、冷却仓、出片室、传动机构、回转台、回转机构、门阀，所述的自动上下料平台设置在本装置的一端，靠近自动上下料平台由左至右依次设置有进片室、加热室、P层沉积室、多个I层的沉积室、N层沉积室、冷却仓、出片室，传动机构设置在由进片室、加热室、P层沉积室、多个I层的沉积室、N层沉积室、冷却仓、出片室构成的连续沉积隧道内，出片室与回转台联通。

Description

等离子体化学气相沉积连续生产装置
技术领域
本实用新型涉及一种太阳能电池生产中对太阳能电池进行等离子体化学气相沉积PIN层的设备，具体的说是一种等离子体化学气相沉积连续生产装置。
背景技术
在现有太阳能电池生产中，非晶硅薄膜电池的生产要求过程中要求仓室压力稳定，温度均匀，成膜一致性好。
现有设备中大部分是非连续的生产线，离线进行加热，导致在沉积之前基片的温度有一定的下降，从而影响沉积后的膜厚；由于PIN层同在一个仓室沉积，会导致一定的交叉污染，使电池的效率下降；多片沉积会产生电源间的干扰，影响成膜质量，造成多片中电池功率有高有低。
发明内容
本实用新型的目的是要提供一种能够实现自动上下料、自动加热、自动抽真空、自动非晶硅的气相沉积的等离子体化学气相沉积连续生产装置。
本实用新型的目的是这样实现的：该装置包括自动上下料平台、进片室、加热室、P层沉积室、多个I层的沉积室、N层沉积室、冷却仓、出片室、传动机构、回转台、回转机构、门阀，所述的自动上下料平台设置在本装置的一端，靠近自动上下料平台由左至右依次设置有进片室、加热室、P层沉积室、多个I层的沉积室、N层沉积室、冷却仓、出片室，传动机构设置在由进片室、加热室、P层沉积室、多个I层的沉积室、N层沉积室、冷却仓、出片室构成的连续沉积隧道内，出片室与回转台联通。
本实用新型克服了现有技术的不足，实现了自动上下料、自动加热、自动抽真空、自动非晶硅的气相沉积生产等过程。
附图说明
图1为等离子体化学气相沉积生产直立传动装置结构示意图。
具体实施方式
由附图1所示：该装置包括自动上下料平台1、进片室2、加热室3、P层沉积室4、多个I层的沉积室5、N层沉积室6、冷却仓7、出片室8、传动机构9、回转台10、回转机构11、门阀12，所述的自动上下料平台1设置在本装置的一端，靠近自动上下料平台1由左至右依次设置有进片室2、加热室3、P层沉积室4、多个I层的沉积室5、N层沉积室6、冷却仓7、出片室8，传动机构9设置在由进片室2、加热室3、P层沉积室4、多个I层的沉积室5、N层沉积室6、冷却仓7、出片室8构成的连续沉积隧道内，出片室8与回转台10联通。
所述的自动上下料平台1、进片室2、加热室3、P层沉积室4、多个I层的沉积室5、N层沉积室6、冷却仓7、出片室8、回转台10之间通过门阀12连接构成一连续沉积隧道。
所述的自动上下料平台1和回转台10之间设置有回转机构11。
工作过程是：经过清洗、激光划刻的TC O玻璃，通过运片传送梁传送至自动上下料平台1，进行自动上片，TC O玻璃通过上片后首先进入进片室2，在此进片室2停留等待下面的仓室完成反应后进入加热室3进行加热，加热完成后进入P层沉积室4进行P层的成膜沉积，然后进入多个I层的沉积室5进行I层的多次沉积，完成I层的沉积后进入N层沉积室6进行N层的成膜，然后进入冷却仓7进行冷却，最后进入出片室8，然后经回转台10和回转系统11回转至自动上下料平台1。整个生产过程是自动控制，从而实现了稳定的生产。
本实用新型采用直立式仓体结构，自动上下料平台1实现自动上下料，加热室3自动升温，P层沉积室4、多个I层的沉积室5、N层沉积室6采用自动进气系统，冷却仓7可自动降温，回转台10和回转机构11实现自动回转，并且采用PL C全自动控制，实现全部连锁功能。

Claims (3)

1.一种等离子体化学气相沉积连续生产装置，其特征在于：该装置包括自动上下料平台(1)、进片室(2)、加热室(3)、P层沉积室(4)、多个I层的沉积室(5)、N层沉积室(6)、冷却仓(7)、出片室(8)、传动机构(9)、回转台(10)、回转机构(11)、门阀(12)，所述的自动上下料平台(1)设置在本装置的一端，靠近自动上下料平台(1)由左至右依次设置有进片室(2)、加热室(3)、P层沉积室(4)、多个I层的沉积室(5)、N层沉积室(6)、冷却仓(7)、出片室(8)，传动机构(9)设置在由进片室(2)、加热室(3)、P层沉积室(4)、多个I层的沉积室(5)、N层沉积室(6)、冷却仓(7)、出片室(8)构成的连续沉积隧道内，出片室(8)与回转台(10)联通。
2.根据权利要求1所述的一种等离子体化学气相沉积连续生产装置，其特征在于：所述的自动上下料平台(1)、进片室(2)、加热室(3)、P层沉积室(4)、多个I层的沉积室(5)、N层沉积室(6)、冷却仓(7)、出片室(8)、回转台(10)之间通过门阀(12)连接构成一连续沉积隧道。
3.根据权利要求1所述的一种等离子体化学气相沉积连续生产装置，其特征在于：所述的自动上下料平台(1)和回转台(10)之间设置有回转机构(11)。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102560426A (zh) * 2012-02-16 2012-07-11 肇庆市腾胜真空技术工程有限公司 自动循环等离子气相沉积系统
CN103014678A (zh) * 2011-09-20 2013-04-03 吉富新能源科技(上海)有限公司 独特传动机构传片技术进行硅薄膜镀膜

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