CN114351124A - 一种电池片镀膜系统 - Google Patents

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CN114351124A
CN114351124A CN202210044865.2A CN202210044865A CN114351124A CN 114351124 A CN114351124 A CN 114351124A CN 202210044865 A CN202210044865 A CN 202210044865A CN 114351124 A CN114351124 A CN 114351124A
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China
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module
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battery
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CN202210044865.2A
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杨宝海
李义升
李翔
李轶军
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Yingkou Jinchen Machinery Co ltd
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Yingkou Jinchen Machinery Co ltd
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Abstract

本发明实施例提供一种电池片镀膜系统,该电池片镀膜系统包括:用于输送电池片的输送线和设置于输送线的传输工位旁侧的多个镀膜模块,输送线具有多个传输工位,镀膜模块与传输工位之间传送电池片,多个镀膜模块包括:包括至少一个第一镀膜装置的第一镀膜模块;包括至少一个第二镀膜装置的第二镀膜模块;包括至少一个第二镀膜装置的第三镀膜模块;包括至少一个第四镀膜装置的第四镀膜模块;其中,第一镀膜装置、第二镀膜装置、第三镀膜装置以及第四镀膜装置中的至少一者的数量不小于两个。本发明实施例中的电池片镀膜系统降低了输送线需要等待单个镀膜装置的处理而整体空等的情况出现概率,提高了单位时间内处理电池片的数目。

Description

一种电池片镀膜系统
技术领域
本发明涉及光伏设备技术领域,具体涉及一种电池片镀膜系统。
背景技术
随着人类对节能减排需求的日益增加,在全球范围内光伏发电具有广阔的产业前景。其中,硅基异质结太阳能电池,以其简洁的制备工艺,较高的转化效率和较高的降本增效潜能,越来越受到业界的关注,已经成为了行业内的热点。
PECVD(plasma enhanced chemical vapor deposition,等离子增强化学气相沉积)工艺是在较高真空环境下,利用高频电源将反应气体电离成等离子态后完成表面镀膜工艺,广泛应用于光伏电池制造领域。
以硅基异质结电池片镀膜生产线为例,在相关技术中,在生产线上依次布置多个PECVD工艺设备,在晶体硅基片上下表面上,利用PECVD工艺设备对称地沉积本征薄膜硅层;然后继续利用其他的PECVD工艺设备在上下表面的本征薄膜硅层沉积N型掺杂层和P型掺杂层,由于本征薄膜硅层、N型掺杂层、P型掺杂层的镀膜时间不同,而生产线的生产节拍按照时长最长的一个镀膜工序设定,导致其他工序空等时间较长,生产效率较低。
发明内容
有鉴于此,本申请实施例期望提供一种能够提高电池片镀膜效率的电池片镀膜系统。
为达到上述目的,本申请实施例的技术方案是这样实现的:
本发明实施例提供一种电池片镀膜系统,该电池片镀膜系统包括:
用于输送电池片的输送线,所述输送线具有多个传输工位;
设置于所述输送线的传输工位旁侧的多个镀膜模块,所述镀膜模块与所述传输工位之间传送电池片,多个所述镀膜模块包括:
第一镀膜模块,包括至少一个用于对电池片的第一面镀第一本征层的第一镀膜装置;
第二镀膜模块,包括至少一个用于对电池片的第二面镀第二本征层的第二镀膜装置,
第三镀膜模块,包括至少一个用于在所述第一本征层上镀N型掺杂层的第三镀膜装置;
第四镀膜模块,包括至少一个用于在所述第二本征层上镀P型掺杂层的第四镀膜装置;其中,所述第一镀膜装置、所述第二镀膜装置、所述第三镀膜装置以及所述第四镀膜装置中的至少一者的数量不小于两个。
在一些实施例中,所述第一镀膜装置、所述第二镀膜装置、所述第三镀膜装置以及所述第四镀膜装置中,镀膜所需时长最长者的数量不小于两个。
在一些实施例中,所述第一镀膜装置、所述第二镀膜装置、所述第三镀膜装置以及所述第四镀膜装置中,镀膜所需时长最长者的数量最多。
在一些实施例中,所述第一镀膜模块与所述第三镀膜模块沿输送方向相邻;和\或,所述第二镀膜模块与所述第四镀膜模块沿输送方向相邻。
在一些实施例中,所述输送线包括至少一个用于翻转电池片的翻转工位,所述翻转工位位于所述第三镀膜模块和所述第四镀膜模块之间。
在一些实施例中,所述翻转工位的数目为一个,所述第一镀膜模块与所述第三镀膜模块沿输送方向相邻,所述第二镀膜模块与所述第四镀膜模块沿输送方向相邻;所述翻转工位位于所述第三镀膜模块与所述第二镀膜模块之间的所述输送线上;或者,所述翻转工位位于所述第四镀膜模块与所述第一镀膜模块之间的所述输送线上。
在一些实施例中,所述翻转工位的数目为两个,所述第一镀膜模块与所述第三镀膜模块沿输送方向相邻,一所述翻转工位位于第二镀膜模块与所述第一镀膜模块之间的所述输送线上,另一所述翻转工位位于所述第三镀膜模块与所述第四镀膜模块之间的所述输送线上;或者,所述第二镀膜模块与所述第四镀膜模块沿输送方向相邻,一所述翻转工位位于第一镀膜模块与所述第二镀膜模块之间的所述输送线上,另一所述翻转工位位于所述第四镀膜模块与所述第三镀膜模块之间的所述输送线上。
在一些实施例中,所述输送线包括至少一个用于加热电池片的加热工位、至少一个用于将电池片送入真空环境的进片工位、至少一个用于将电池片送出真空环境的出片工位;所述输送线和各所述镀膜模块沿输送方向形成至少一个真空处理工艺段,每个所述真空处理段均设置有所述进片工位、所述出片工位以及所述加热工位,所述进片工位位于所述真空处理工艺段的首端处,所述加热工位位于所述进片工位和所述传输工位之间,所述出片工位位于所述真空处理工艺段的末端处。
在一些实施例中,至少一所述传输工位沿输送方向的一侧设有所述第一镀膜装置,另一侧设有所述第三镀膜装置。
在一些实施例中,至少一所述传输工位沿输送方向的一侧设有所述第二镀膜装置,另一侧设有所述第四镀膜装置。
本发明实施例中的电池片镀膜系统,降低了输送线需要等待单个镀膜装置的处理而整体空等的情况出现概率,提高了单位时间内处理电池片的数目,提高了生产效率,降低了生产成本。各镀膜装置分别独立地与输送线之间传送电池片,即使部分镀膜装置需要进行维护或者发生损坏,也不会影响输送线和其他镀膜装置之间电池片的传送,降低了因镀膜装置检修或者损坏而导致电池片镀膜系统停止运作的几率,提高了整个电池片镀膜系统的利用率。
附图说明
图1为本发明一实施例中电池片镀膜系统的布局示意图,其中,虚线框内为真空处理工艺段;
图2为本发明另一实施例中电池片镀膜系统的布局示意图,其中,虚线框含义同图1;
图3为本发明另一实施例中电池片镀膜系统的布局示意图,其中,虚线框含义同图1;
图4为本发明另一实施例中电池片镀膜系统的布局示意图,其中,虚线框含义同图1;
图5为本发明另一实施例中电池片镀膜系统的布局示意图,其中,虚线框含义同图1
图6为本发明另一实施例中电池片镀膜系统的布局示意图,其中,虚线框含义同图1;
图7为本发明另一实施例中电池片镀膜系统的布局示意图,其中,虚线框含义同图1;
图8为本发明另一实施例中电池片镀膜系统的布局示意图,其中,虚线框含义同图1,其中,括号中的数字表示沿输送方向的第n个该类型镀膜装置;
图9为本发明另一实施例中电池片镀膜系统的布局示意图,其中,虚线框含义同图1。
附图标记说明
输送线10;真空处理工艺段10a;传输工位11;翻转工位12;加热工位13;进片工位14;出片工位15;镀膜模块20;第一镀膜模块21;第一镀膜装置211;第二镀膜模块22;第二镀膜装置221;第三镀膜模块23;第三镀膜装置231;第四镀膜模块24;第四镀膜装置241
具体实施方式
需要说明的是,在不冲突的情况下,本申请中的实施例及实施例中的技术特征可以相互组合,具体实施方式中的详细描述应理解为本申请宗旨的解释说明,不应视为对本申请的不当限制。
在本申请的描述中,“输送方向”方位或位置关系为基于附图1所示的方位或位置关系,需要理解的是,这些方位术语仅是为了便于描述本申请和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。
在相关技术中,采用PECVD工艺的电池片镀膜系统主要有两种布置方式:
一种为链式布置方式,即各个工位依次首尾相连,电池片经自动化操作进入真空环境后,依次完成各种工艺,例如加热、本征薄膜硅层镀膜、掺杂层镀膜等。该方式由于是各个工位为串联布置,电池片依次完成各种工艺,因此,若某一工位出现问题,会导致整条产线均要停机。且由于不同膜层所需求的工艺时间各不相同,不同工位的数量配比较为困难,存在部分工位的利用效率不高,占空比较大的情况,不利于电池片整线产能的提升和成本的降低。
另一种为团簇式方式,即各工位围绕成圈,圈中央为用于在各工位间进行输送的自动化系统。该方式在同一工位要完成不同膜层的镀膜工艺,因此,设计复杂,且工位无法完成电池片翻转功能,不适合大规模的量产需求。对场地要求高,灵活性差,占地面积大。
本发明实施例中提供一种电池片镀膜系统,参阅图1至图8,该电池片镀膜系统包括用于输送电池片的输送线10和设置于输送线10的传输工位11旁侧的多个镀膜模块20。
输送线10具有多个传输工位11。以使电池片能够在输送线10上沿输送方向移动。
镀膜模块20与传输工位11之间传送电池片。传输工位11能够向多个方向传送电池片,以实现沿输送方向输送电池片的同时,可以沿垂直于输送方向的方向向镀膜模块20传送电池片,并从镀膜模块20接收完成处理的电池片输送至下一工位。
需要说明的是,本发明任一实施例中所述的电池片可以为单个电池片,也可以为由多个电池片组合形成的电池片组。
传输工位11实现向多个方向传送电池片的具体实施方式不限,例如,在传送工位设置六轴机器人,或者在传输工位11设置万向输送带等。
镀膜模块20位于传输工位11的旁侧,如此,降低了镀膜模块20对输送线10的布置方式的影响,使得输送线10可以沿直线方向延伸,也可以根据场地的实际情况弯折延伸,从而提高了电池片镀膜系统对场地的适应能力。
多个镀膜模块20包括:
第一镀膜模块21,包括至少一个用于对电池片的第一面镀第一本征层的第一镀膜装置211;
第二镀膜模块22,包括至少一个用于对电池片的第二面镀第二本征层的第二镀膜装置221,
第三镀膜模块23,包括至少一个用于在第一本征层上镀N型掺杂层的第三镀膜装置231;
第四镀膜模块24,包括至少一个用于在第二本征层上镀P型掺杂层的第四镀膜装置241。
需要说明的是,第一本征层和第二本征层均为本征薄膜硅层,其中,本征薄膜硅层为本征非晶硅层或者本征微晶硅层等。
需要说明的是,上述镀第一本征层、镀第二本征层、镀N型掺杂层以及镀P型掺杂层的工艺及相应设备在相关技术中已有成熟运用,在此不加以赘述。
第一镀膜装置211、第二镀膜装置221、第三镀膜装置231以及第四镀膜装置241中的至少一者的数量不小于两个。例如,可以根据实际需要,将单个电池片处理时间较长的镀膜装置的数量设置为多个。其中,多个指的是不少于两个。
为了便于说明,以第一镀膜装置211的数量为两个为例。各第一镀膜装置211之间相互独立地对各自的电池片进行镀膜处理。
例如,第一镀膜装置211处理单个电池片所需时长为0.5分钟,那么,当第一个电池片传输过来后,传输工位11将第一个电池片分配给第一个第一镀膜装置211进行镀膜处理,在第一个第一镀膜装置211镀膜处理过程中,传输工位11将第二个电池片分配给第二个第一镀膜装置211处理,第一个第一镀膜装置211镀膜处理后的电池片重新回到输送线10上,流转到下一个工序,如此,两个第一镀膜装置211轮流进行镀膜处理,输送线10对电池片的传输周期可以是每0.25分钟传输一个,从而使得其他工位不会受限于第一镀膜装置211处理单个电池片的时间。
相关技术中,输送线10对电池片的传输周期受限于第一镀膜装置211处理单个电池片所需时长,只有等第一镀膜装置211将电池片镀膜处理完毕后,才能将电池片流转至下一个工序,因此,输送线10会空等一段时间。
本发明实施例中的电池片镀膜系统,降低了输送线10需要等待单个镀膜装置的处理而整体空等的情况出现概率,提高了单位时间内处理电池片的数目,提高了生产效率,降低了生产成本。各镀膜装置分别独立地与输送线10之间传送电池片,即使部分镀膜装置需要进行维护或者发生损坏,也不会影响输送线10和其他镀膜装置之间电池片的传送,降低了因镀膜装置检修或者损坏而导致电池片镀膜系统停止运作的几率,提高了整个电池片镀膜系统的利用率。
可以理解的是,各镀膜装置与输送线10之间采用统一的标准化连接,以根据实际所需的生产需求灵活调节各镀膜装置的实际数量。
在一些实施例中,第一镀膜装置211、第二镀膜装置221、第三镀膜装置231以及第四镀膜装置241中,镀膜所需时长最长者的数量不小于两个。例如,参阅图1和图2,若第二镀膜装置221镀N型掺杂层的时长最长,则在传输工位11的两侧各设置一个第二镀膜装置221,从而使得单位时间内能够同时对两块电池片进行镀N型掺杂层,进而提高生产速度,在满足产能需求的同时,降低采购成本。
在一些实施例中,第一镀膜装置211、第二镀膜装置221、第三镀膜装置231以及第四镀膜装置241中,镀膜所需时长最长者的数量最多。以提高单位时间内所需时长最长的工艺所完成的电池片的数量,从而提高生产效率。
可以理解的是,根据各镀膜工艺所需的时长,灵活调整第一镀膜装置211、第二镀膜装置221、第三镀膜装置231以及第四镀膜装置241的数量,以使得单位时间内完成镀第一本征层、完成镀第二本征层、完成镀N型掺杂层和完成镀P型掺杂层的电池片数量基本一致,降低了电池片在输送线10上因等待下一镀膜工艺而发生堆积的几率,降低了任一镀膜装置处于空闲状态的可能,提高了各镀膜装置的利用率,提高了生产效率。
可以理解的是,参阅图2和图5,各镀膜模块20中的各镀膜装置沿输送方向相邻布置。通过集中布置相同类型的镀膜装置,一方面,便于电池片到达镀膜模块20所对应的传输工位11后能够迅速进入空闲的镀膜装置中,减少电池片的移动距离,提高生产速率;另一方面,便于集中管理,提高检修、维护和更换镀膜装置的便利性。
可以理解的是,第一镀膜模块21位于第三镀膜模块23沿输送方向的上游,第二镀膜模块22位于第四镀膜模块24沿输送方向的上游。
可以理解的是,调整各镀膜模块20之间位置关系以减少电池片镀膜系统的占地面积。
在一些实施例中,参阅图1和图2,第一镀膜模块21与第三镀膜模块23沿输送方向相邻。以使得完成镀第一本征层工艺的电池片能够经过较短的行程后进行镀N型掺杂层工艺,提高生产速度。
在一些实施例中,第二镀膜模块22与第四镀膜模块24沿输送方向相邻。以使得完成镀第二本征层工艺的电池片能够经过较短的行程后进行镀P型掺杂层工艺,提高生产速度。
在一些实施例中,第一镀膜模块21与第三镀膜模块23沿输送方向相邻,且第二镀膜模块22与第四镀膜模块24沿输送方向相邻。以进一步提高生产速度。
在一些实施例中,参阅图1至8,输送线10包括至少一个用于翻转电池片的翻转工位12。以使电池片能够在第一面完成镀第一本征层工艺、镀N型掺杂层工艺,在第二面完成镀第二本征层工艺、镀P型掺杂层工艺。
可以理解的是,参阅图1至图8,翻转工位12位于第三镀膜模块23和第四镀膜模块24之间。以使得电池片在完成镀N型掺杂层工艺或者镀P型掺杂层工艺中的一者后,通过翻转电池片能够完成另一者的。
可以理解的是,翻转工位12的具体数量不限,根据各镀膜模块20的布置方式及数量灵活设置。
在一些实施例中,翻转工位12的数目为一个,第一镀膜模块21与第三镀膜模块23沿输送方向相邻,第二镀膜模块22与第四镀膜模块24沿输送方向相邻;翻转工位12位于第三镀膜模块23与第二镀膜模块22之间的输送线10上。输送线10上的电池片先通过第一镀膜模块21在第一面完成镀第一本征层工艺后,再通过输送线10输送至第三镀膜模块23以在第一面完成镀N型掺杂层工艺,而后通过翻转工位12使电池片的第二面替代第一面处于待镀膜位置,电池片沿输送线10的输送方向继续移动并传送至第二镀膜模块22在第二面完成镀第二本征层工艺后,最后通过输送线10输送至第四镀膜模块24以在第二面完成镀P型掺杂层工艺。从而完成整个电池片镀膜的工艺流程。
在一些实施例中,翻转工位12的数目为一个,第一镀膜模块21与第三镀膜模块23沿输送方向相邻,第二镀膜模块22与第四镀膜模块24沿输送方向相邻,翻转工位12位于第四镀膜模块24与第一镀膜模块21之间的输送线10上。输送线10上的电池片先通过第二镀膜模块22在第二面完成镀第二本征层工艺后,再通过输送线10输送至第四镀膜模块24以在第二面完成镀P型掺杂层工艺,而后通过翻转工位12使电池片的第一面替代第二面处于待镀膜位置,电池片沿输送线10的输送方向继续移动并传送至第一镀膜模块21在第一面完成镀第一本征层工艺后,最后通过输送线10输送至第三镀膜模块23以在第一面完成镀N型掺杂层工艺。从而完成整个电池片镀膜的工艺流程。
在一些实施例中,翻转工位12的数目为两个,第二镀膜模块22与第四镀膜模块24沿输送方向相邻,一翻转工位12位于第一镀膜模块21与第二镀膜模块22之间的输送线10上,另一翻转工位12位于第四镀膜模块24与第三镀膜模块23之间的输送线10上。输送线10上的电池片先通过第一镀膜模块21在第一面完成镀第一本征层工艺后,通过第一个翻转工位12使电池片的第二面替代第一面处于待镀膜位置,而后通过第二镀膜模块22在第二面完成镀第二本征层工艺后,通过输送线10输送至第四镀膜模块24以在第二面完成镀P型掺杂层工艺,再通过第二个翻转工位12使电池片的第一面替代第二面处于待镀膜位置,最后通过输送线10输送至第三镀膜模块23以在第一面完成镀N型掺杂层工艺,从而完成整个电池片镀膜的工艺流程。
在一些实施例中,翻转工位12的数目为两个,第一镀膜模块21与第三镀膜模块23沿输送方向相邻,一翻转工位12位于第二镀膜模块22与第一镀膜模块21之间的输送线10上,另一翻转工位12位于第三镀膜模块23与第四镀膜模块24之间的输送线10上。输送线10上的电池片先通过第二镀膜模块22在第二面完成镀第二本征层工艺后,通过第一个翻转工位12使电池片的第一面替代第二面处于待镀膜位置,而后通过第一镀膜模块21在第一面完成镀第一本征层工艺后,通过输送线10输送至第三镀膜模块23以在第一面完成镀N型掺杂层工艺,再通过第二个翻转工位12使电池片的第二面替代第一面处于待镀膜位置,最后通过输送线10输送至第四镀膜模块24以在第二面完成镀P型掺杂层工艺,从而完成整个电池片镀膜的工艺流程。
可以理解的是,参阅图1至图8,输送线10包括至少一个用于加热电池片的加热工位13,以使电池片的温度满足待镀条件。
可以理解的是,为实现PECVD工艺,需要为电池片提供真空环境。
在一些实施例中,参阅图1至图8,输送线10包括至少一个用于将电池片送入真空环境的进片工位14和至少一个用于将电池片送出真空环境的出片工位15,输送线10和各镀膜模块20沿输送方向形成至少一个真空处理工艺段10a。真空处理工艺段10a中的电池片处于封闭的真空环境中,以便电池片在PECVD工艺所需条件下进行镀膜。通过进片工位14和出片工位15,能够将真空环境与外界环境进行分离,降低外界气体进入到真空环境中的可能,使真空环境中的真空度维持在PECVD工艺的所需范围内。
在一些实施例中,参阅图1至图8,每个真空处理段均设置有进片工位14、出片工位15以及加热工位13,进片工位14位于真空处理工艺段10a的首端处,加热工位13位于进片工位14和传输工位11之间,出片工位15位于真空处理工艺段10a的末端处。在实现电池片完成PECVD工艺的同时,减少了电池片在真空环境中的行程,从而减小了所需的真空环境的体积,降低了维持真空环境的运营成本。
可以理解的是,进片工位14、加热工位13、传输工位11、出片工位15以及各镀膜装置中设有腔室以便电池片的移动并形成真空环境。
参阅图4和图5,电池片进入第一个进片工位14后,该进片工位14的腔室与外界隔离,抽取真空,进片工位14的腔室与加热工位13的腔室连通,电池片进入加热工位13。电池片在加热工位13加热后,经传输工位11的腔室进入第一镀膜装置211的腔室中镀第一本征层,再进入第三镀膜装置231的腔室中镀N型掺杂层,完成后经出片工位15的腔室,电池片离开真空环境。电池片经翻转工位12完成翻转后,电池片依次进入第二个进片工位14和第二个加热工位13,而后依次完成镀第二本征层和镀P型掺杂层。最后经第二个出片工位15的腔室离开真空环境,完成PECVD工艺。
参阅图1和图2,电池片进入第一个进片工位14后,该进片工位14的腔室与外界隔离,抽取真空,进片工位14的腔室与加热工位13的腔室连通,电池片进入加热工位13。电池片在加热工位13加热后,经传输工位11的腔室进入第一镀膜装置221的腔室中镀第二本征层。完成后经出片工位15的腔室,电池片离开真空环境。电池片经翻转工位12完成翻转后,电池片依次进入第二个进片工位14和第二个加热工位13,而后依次完成镀第一本征层和镀N型掺杂层。再经第二个出片工位15的腔室,电池片离开真空环境。电池片经第二个翻转工位12完成翻转后,电池片依次进入第三个进片工位14和第三个加热工位13,再完成镀P型掺杂层。最后经第三个出片工位15的腔室离开真空环境,完成PECVD工艺。
可以理解的是,在一些情况下,同一镀层需要分多次进行镀膜,即,各镀层由多个子镀层组成,各子镀层之间的厚度可以一致,也可以不同。因此,每次子镀层的镀膜可以在沿输送方向不同的同类型镀膜装置中进行。
例如,参阅图8,电池片在沿输送方向的第1个第一镀膜装置211,即标示为I1(1)的第一镀膜装置211,完成第1次镀第一本征层的子镀层之后,由传输工位11传送电池片至第2个第一镀膜装置211,即标示为I1(2)的第一镀膜装置211,第2次镀第一本征层的子镀层,依次类推,直至在第n个第一镀膜装置211,即标示为I1(n)的第一镀膜装置211,完成第n次镀第一本征层的子镀层,以使第一本征层的子镀层的层数满足设计要求。
同理,参阅图8,第二本征层、P型掺杂层和N型掺杂层均可以按次序依次在各镀膜装置中完成子镀层的镀膜工作,以提高生产效率。
在一些实施例中,参阅图9,至少一传输工位11沿输送方向的一侧设有第一镀膜装置211,另一侧设有第三镀膜装置231。在满足所需第一镀膜装置211和第三镀膜装置231的数量的前提下,提高空间利用率,使得电池片能够更加迅速地从第一镀膜装置211传送到第三镀膜装置231,提高生产速率。
在一些实施例中,参阅图9,至少一传输工位11沿输送方向的一侧设有第二镀膜装置221,另一侧设有第四镀膜装置241。在满足所需第二镀膜装置221和第四镀膜装置241的数量的前提下,提高空间利用率,使得电池片能够更加迅速地从第二镀膜装置221传送到第四镀膜装置241,提高生产速率。
本申请提供的各个实施例/实施方式在不产生矛盾的情况下可以相互组合。
以上所述仅为本申请的较佳实施例而已,并不用于限制本申请,对于本领域的技术人员来说,本申请可以有各种更改和变化。凡在本申请的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本申请的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种电池片镀膜系统,其特征在于,所述电池片镀膜系统包括:
用于输送电池片的输送线,所述输送线具有多个传输工位;
设置于所述输送线的传输工位旁侧的多个镀膜模块,所述镀膜模块与所述传输工位之间传送电池片,多个所述镀膜模块包括:
第一镀膜模块,包括至少一个用于对电池片的第一面镀第一本征层的第一镀膜装置;
第二镀膜模块,包括至少一个用于对电池片的第二面镀第二本征层的第二镀膜装置;
第三镀膜模块,包括至少一个用于在所述第一本征层上镀N型掺杂层的第三镀膜装置;
第四镀膜模块,包括至少一个用于在所述第二本征层上镀P型掺杂层的第四镀膜装置;其中,所述第一镀膜装置、所述第二镀膜装置、所述第三镀膜装置以及所述第四镀膜装置中的至少一者的数量不小于两个。
2.根据权利要求1所述的电池片镀膜系统,其特征在于,所述第一镀膜装置、所述第二镀膜装置、所述第三镀膜装置以及所述第四镀膜装置中,镀膜所需时长最长者的数量不小于两个。
3.根据权利要求1所述的电池片镀膜系统,其特征在于,所述第一镀膜装置、所述第二镀膜装置、所述第三镀膜装置以及所述第四镀膜装置中,镀膜所需时长最长者的数量最多。
4.根据权利要求1所述的电池片镀膜系统,其特征在于,所述第一镀膜模块与所述第三镀膜模块沿输送方向相邻;和\或,所述第二镀膜模块与所述第四镀膜模块沿输送方向相邻。
5.根据权利要求1所述的电池片镀膜系统,其特征在于,所述输送线包括至少一个用于翻转电池片的翻转工位,所述翻转工位位于所述第三镀膜模块和所述第四镀膜模块之间。
6.根据权利要求5所述的电池片镀膜系统,其特征在于,所述翻转工位的数目为一个,所述第一镀膜模块与所述第三镀膜模块沿输送方向相邻,所述第二镀膜模块与所述第四镀膜模块沿输送方向相邻;所述翻转工位位于所述第三镀膜模块与所述第二镀膜模块之间的所述输送线上;或者,所述翻转工位位于所述第四镀膜模块与所述第一镀膜模块之间的所述输送线上。
7.根据权利要求5所述的电池片镀膜系统,其特征在于,所述翻转工位的数目为两个,所述第一镀膜模块与所述第三镀膜模块沿输送方向相邻,一所述翻转工位位于第二镀膜模块与所述第一镀膜模块之间的所述输送线上,另一所述翻转工位位于所述第三镀膜模块与所述第四镀膜模块之间的所述输送线上;或者,所述第二镀膜模块与所述第四镀膜模块沿输送方向相邻,一所述翻转工位位于第一镀膜模块与所述第二镀膜模块之间的所述输送线上,另一所述翻转工位位于所述第四镀膜模块与所述第三镀膜模块之间的所述输送线上。
8.根据权利要求1所述的电池片镀膜系统,其特征在于,所述输送线包括至少一个用于加热电池片的加热工位、至少一个用于将电池片送入真空环境的进片工位、至少一个用于将电池片送出真空环境的出片工位;所述输送线和各所述镀膜模块沿输送方向形成至少一个真空处理工艺段,每个所述真空处理段均设置有所述进片工位、所述出片工位以及所述加热工位,所述进片工位位于所述真空处理工艺段的首端处,所述加热工位位于所述进片工位和所述传输工位之间,所述出片工位位于所述真空处理工艺段的末端处。
9.根据权利要求1所述的电池片镀膜系统,其特征在于,至少一所述传输工位沿输送方向的一侧设有所述第一镀膜装置,另一侧设有所述第三镀膜装置。
10.根据权利要求1所述的电池片镀膜系统,其特征在于,至少一所述传输工位沿输送方向的一侧设有所述第二镀膜装置,另一侧设有所述第四镀膜装置。
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CN114823989A (zh) * 2022-04-24 2022-07-29 深圳市大成精密设备股份有限公司 电池硅片的镀膜方法、设备及用于电池硅片镀膜的载板

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